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TiO2 hè un materiale semiconduttore utilizatu per a cunversione fotoelettrica. Per migliurà u so usu di a luce, e nanoparticelle di sulfuru di nichelu è d'argentu sò state sintetizate nantu à a superficia di nanofili di TiO2 per mezu di un simplice metudu d'immersione è di fotoriduzione. Hè stata realizata una seria di studii nantu à l'azione protettiva catodica di i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 nantu à l'acciaiu inox 304, è sò state cumplementate e caratteristiche di morfologia, cumpusizione è assorbimentu di a luce di i materiali. I risultati mostranu chì i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 preparati ponu furnisce a megliu prutezzione catodica per l'acciaiu inox 304 quandu u numeru di cicli d'impregnazione-precipitazione di sulfuru di nichelu hè 6 è a cuncentrazione di fotoriduzione di nitratu d'argentu hè 0,1M.
L'applicazione di semiconduttori di tipu n per a prutezzione di fotocatodi utilizendu a luce solare hè diventata un tema caldu in l'ultimi anni. Quandu sò eccitati da a luce solare, l'elettroni di a banda di valenza (VB) di un materiale semiconduttore saranu eccitati in a banda di conduzione (CB) per generà elettroni fotogenerati. Se u putenziale di a banda di conduzione di u semiconduttore o nanocomposite hè più negativu di u putenziale di autoincisione di u metallu ligatu, questi elettroni fotogenerati si trasferiranu à a superficia di u metallu ligatu. L'accumulazione di elettroni porterà à a polarizazione catodica di u metallu è furnisce una prutezzione catodica di u metallu assuciatu1,2,3,4,5,6,7. U materiale semiconduttore hè teoricamente cunsideratu un fotoanodu non sacrificale, postu chì a reazione anodica ùn degrada micca u materiale semiconduttore stessu, ma l'ossidazione di l'acqua attraversu fori fotogenerati o inquinanti organici adsorbiti, o a presenza di cullettori per intrappulà i fori fotogenerati. Ancu più impurtante, u materiale semiconduttore deve avè un putenziale CB chì hè più negativu di u putenziale di corrosione di u metallu prutettu. Solu tandu l'elettroni fotogenerati ponu passà da a banda di conduzione di u semiconduttore à u metallu prutettu. I studii di resistenza à a corrosione fotochimica si sò cuncentrati nantu à i materiali semiconduttori inorganici di tipu n cù lacune di banda larga (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7, chì rispondenu solu à a luce ultravioletta (< 400 nm), riducendu a dispunibilità di luce. I studii di resistenza à a corrosione fotochimica si sò cuncentrati nantu à i materiali semiconduttori inorganici di tipu n cù lacune di banda larga (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7, chì rispondenu solu à a luce ultravioletta (< 400 nm), riducendu a dispunibilità di luce. Исследования стойкости к фотохимической коррозии были сосредоточены на неорганичесокической коррозии материалах n-типа с широкой запрещенной зоной (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7, которые реагируют реагируют котолах ультрафиолетовое излучение (< 400 нм), уменьшение доступности света. A ricerca nantu à a resistenza à a corrosione fotochimica s'hè cuncentrata nantu à i materiali semiconduttori inorganici di tipu n cù una larga banda proibita (3,0-3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7 chì rispondenu solu à a radiazione ultravioletta (< 400 nm), dispunibilità di luce ridutta.光化学耐腐蚀性研究主要集中在具有宽带隙(3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 的无机n型半导体材料上，这些材料仅对紫外光（< 400 nm）有响应，减少光的可甂怉的可。光 化学 耐腐 蚀性 研究 主要 在 具有 宽带隙 宽带隙 宽带隙 (3.0–3.2ev) 1.5,6,6,4,72,6,6,4,7无机 n 型 材料 上 ， 这些 材料 仅 对 （<400 nm） 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有有 有 有 有响应，减少光的可用性。 Исследования стойкости к фотохимической коррозии в основном были сосредоточены на нечергаснихчегасни полупроводниковых материалах n-типа с широкой запрещенной зоной (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7, колиторусе колитовых только к УФ-излучению (<400 нм). A ricerca nantu à a resistenza à a corrosione fotochimica s'hè cuncentrata principalmente nantu à i materiali semiconduttori inorganici di tipu n à banda proibita larga (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7 chì sò sensibili solu à a radiazione UV (<400 nm).In risposta, a dispunibilità di luce diminuisce.
In u campu di a prutezzione da a currusione marina, a tecnulugia di prutezzione catodica fotoelettrochimica ghjoca un rollu chjave. U TiO2 hè un materiale semiconduttore cù un eccellente assorbimentu di a luce UV è proprietà fotocatalitiche. Tuttavia, per via di u bassu tassu d'usu di a luce, i lacune elettroniche fotogenerate si ricombinanu facilmente è ùn ponu esse prutetti in cundizioni di bughjura. Ulteriori ricerche sò necessarie per truvà una suluzione ragionevule è fattibile. Hè statu signalatu chì parechji metudi di mudificazione di a superficia ponu esse aduprati per migliurà a fotosensibilità di u TiO2, cum'è u dopaggiu cù Fe, N, è a miscelazione cù Ni3S2, Bi2Se3, CdTe, ecc. Dunque, u cumpostu di TiO2 cù materiali cù alta efficienza di cunversione fotoelettrica hè largamente adupratu in u campu di a prutezzione catodica fotogenerata.
U sulfuru di nichel hè un materiale semiconduttore cù una stretta banda gap di solu 1,24 eV8.9. Più stretta hè a banda gap, più forte hè l'usu di a luce. Dopu chì u sulfuru di nichel hè mischiatu cù a superficia di diossidu di titaniu, u gradu di utilizzazione di a luce pò esse aumentatu. Cumbinatu cù u diossidu di titaniu, pò migliurà efficacemente l'efficienza di separazione di l'elettroni è di i lacune fotogenerati. U sulfuru di nichel hè largamente utilizatu in a pruduzzione di idrogenu elettrocataliticu, batterie è decomposizione di inquinanti8,9,10. Tuttavia, u so usu in a prutezzione di i fotocatodi ùn hè ancu statu signalatu. In questu studiu, hè statu sceltu un materiale semiconduttore à banda gap stretta per risolve u prublema di a bassa efficienza di utilizzazione di a luce TiO2. E nanoparticelle di sulfuru di nichel è d'argentu sò state legate à a superficia di i nanofili di TiO2 per metudi d'immersione è di fotoriduzione, rispettivamente. U nanocomposite Ag/NiS/TiO2 migliora l'efficienza di utilizzazione di a luce è estende a gamma di assorbimentu di a luce da a regione ultravioletta à a regione visibile. Intantu, a deposizione di nanoparticelle d'argentu dà à u nanocomposite Ag/NiS/TiO2 una eccellente stabilità ottica è una prutezzione catodica stabile.
Prima, una lamina di titaniu di 0,1 mm di spessore cù una purezza di 99,9% hè stata tagliata à una dimensione di 30 mm × 10 mm per l'esperimenti. Dopu, ogni superficia di a lamina di titaniu hè stata lucidata 100 volte cù carta vetrata di grana 2500, è poi lavata successivamente cù acetone, etanolu assolutu è acqua distillata. Pone a piastra di titaniu in una mistura di 85 °C (idrossidu di sodiu: carbonatu di sodiu: acqua = 5:2:100) per 90 minuti, caccià è sciacquà cù acqua distillata. A superficia hè stata incisa cù una soluzione HF (HF:H2O = 1:5) per 1 minutu, poi lavata alternativamente cù acetone, etanolu è acqua distillata, è infine asciugata per l'usu. I nanofili di diossidu di titaniu sò stati fabbricati rapidamente nantu à a superficia di a lamina di titaniu per mezu di un prucessu di anodizazione in una sola tappa. Per l'anodizazione, si usa un sistema tradiziunale à dui elettrodi, l'elettrodu di travagliu hè una lamina di titaniu è u controelettrodu hè un elettrodu di platinu. Pone a piastra di titaniu in 400 ml di soluzione 2 M NaOH cù pinze per elettrodi. A corrente di alimentazione CC hè stabile à circa 1,3 A. A temperatura di a soluzione hè stata mantenuta à 80 °C per 180 minuti durante a reazione sistemica. A lamina di titaniu hè stata estratta, lavata cù acetone è etanolu, lavata cù acqua distillata è asciugata naturalmente. Dopu, i campioni sò stati posti in un fornu à muffola à 450 °C (velocità di riscaldamentu 5 °C/min), mantenuti à una temperatura costante per 120 min è posti in un vassoio di asciugatura.
U cumpostu di sulfuru di nichel-diossidu di titaniu hè statu ottenutu per mezu di un metudu di deposizione per immersione simplice è faciule. Prima, u nitratu di nichel (0,03 M) hè statu dissoltu in etanolu è mantinutu sottu agitazione magnetica per 20 minuti per ottene una soluzione etanolica di nitratu di nichel. Dopu, preparate u sulfuru di sodiu (0,03 M) cù una soluzione mista di metanolu (metanolo:acqua = 1:1). Dopu, e pasticche di diossidu di titaniu sò state poste in a soluzione preparata sopra, tolte dopu à 4 minuti, è lavate rapidamente cù una soluzione mista di metanolu è acqua (metanolo:acqua = 1:1) per 1 minutu. Dopu chì a superficia s'hè asciugata, e pasticche sò state poste in un fornu à muffola, riscaldate in u vacuum à 380 °C per 20 minuti, raffreddate à temperatura ambiente è asciugate. Numeru di cicli 2, 4, 6 è 8.
E nanoparticule d'Ag anu mudificatu i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 per fotoriduzione12,13. U nanocomposite Ag/NiS/TiO2 risultante hè statu piazzatu in a suluzione di nitratu d'argentu necessaria per l'esperimentu. Dopu, i campioni sò stati irradiati cù luce ultravioletta per 30 minuti, e so superfici sò state pulite cù acqua deionizzata, è i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 sò stati ottenuti per essiccazione naturale. U prucessu sperimentale discrittu sopra hè mostratu in a Figura 1.
I nanocompositi Ag/NiS/TiO2 sò stati principalmente caratterizati da a microscopia elettronica à scansione à emissione di campu (FESEM), a spettroscopia à dispersione di energia (EDS), a spettroscopia fotoelettronica à raggi X (XPS) è a riflettanza diffusa in l'ultraviolettu è in u visibile (UV-Vis). A FESEM hè stata realizata cù un microscopiu Nova NanoSEM 450 (FEI Corporation, USA). Tensione di accelerazione 1 kV, dimensione di u spot 2.0. U dispusitivu usa una sonda CBS per riceve elettroni secundarii è retrodiffusi per l'analisi topografica. L'EMF hè stata realizata cù un sistema EMF Oxford X-Max N50 (Oxford Instruments Technology Co., Ltd.) cù una tensione di accelerazione di 15 kV è una dimensione di u spot di 3.0. Analisi qualitativa è quantitativa utilizendu raggi X caratteristici. A spettroscopia fotoelettronica à raggi X hè stata realizata nantu à un spettrometru Escalab 250Xi (Thermo Fisher Scientific Corporation, USA) chì funziona in una modalità à energia fissa cù una putenza d'eccitazione di 150 W è a radiazione monocromatica Al Kα (1486,6 eV) cum'è fonte d'eccitazione. L'intervallu di scansione cumpletu 0-1600 eV, l'energia tutale 50 eV, a larghezza di u passu 1,0 eV, è u carbone impuru (~284,8 eV) sò stati utilizati cum'è riferimenti di currezzione di carica di l'energia di legame. L'energia di passaghju per a scansione stretta era di 20 eV cù un passu di 0,05 eV. A spettroscopia di riflettanza diffusa in a regione UV-visibile hè stata realizata nantu à un spettrometru Cary 5000 (Varian, USA) cù una piastra standard di sulfatu di bariu in l'intervallu di scansione di 10-80°.
In questu travagliu, a cumpusizione (percentuale in pesu) di l'acciaiu inox 304 hè 0,08 C, 1,86 Mn, 0,72 Si, 0,035 P, 0,029 s, 18,25 Cr, 8,5 Ni, è u restu hè Fe. Acciaiu inox 304 10 mm x 10 mm x 10 mm, rivestitu di resina epossidica cù una superficia esposta di 1 cm2. A so superficia hè stata levigata cù carta vetrata di carburo di siliciu di grana 2400 è lavata cù etanolu. L'acciaiu inox hè statu dopu sonicatu in acqua deionizzata per 5 minuti è dopu almacenatu in un fornu.
In l'esperimentu OCP, l'acciaio inox 304 è un fotoanodu Ag/NiS/TiO2 sò stati piazzati rispettivamente in una cella di corrosione è in una cella di fotoanodu (Fig. 2). A cella di corrosione hè stata piena di una soluzione di NaCl à 3,5%, è 0,25 M di Na2SO3 hè statu versatu in a cella di fotoanodu cum'è una trappola per i fori. I dui elettroliti sò stati separati da a mistura aduprendu una membrana di naftolu. L'OCP hè statu misuratu nantu à una stazione di travagliu elettrochimica (P4000+, USA). L'elettrodu di riferimentu era un elettrodu di calomelanu saturatu (SCE). Una fonte di luce (lampada à xenon, PLS-SXE300C, Poisson Technologies Co., Ltd.) è una piastra di taglio 420 sò stati piazzati à l'uscita di a fonte di luce, permettendu à a luce visibile di passà attraversu u vetru di quarzu finu à u fotoanodu. L'elettrodu d'acciaio inox 304 hè cunnessu à u fotoanodu cù un filu di rame. Prima di l'esperimentu, l'elettrodu d'acciaiu inox 304 hè statu immersu in una soluzione di NaCl à 3,5% per 2 ore per assicurà un statu stabile. À l'iniziu di l'esperimentu, quandu a luce hè accesa è spenta, l'elettroni eccitati di u fotoanodu ghjunghjenu à a superficia di l'acciaiu inox 304 attraversu u filu.
In l'esperimenti nantu à a densità di fotocorrente, i fotoanodi 304SS è Ag/NiS/TiO2 sò stati piazzati rispettivamente in celle di corrosione è celle di fotoanodi (Fig. 3). A densità di fotocorrente hè stata misurata nantu à a stessa cunfigurazione cum'è l'OCP. Per ottene a densità di fotocorrente attuale trà l'acciaio inox 304 è u fotoanodu, hè statu utilizatu un potenziostatu cum'è amperometru à resistenza zero per cunnette l'acciaio inox 304 è u fotoanodu in cundizioni micca polarizate. Per fà questu, l'elettrodi di riferimentu è i contraelettrodi in a cunfigurazione sperimentale sò stati messi in cortocircuitu, in modu chì a stazione di travagliu elettrochimica funzionava cum'è un amperometru à resistenza zero chì puderia misurà a vera densità di corrente. L'elettrodu d'acciaio inox 304 hè cunnessu à a terra di a stazione di travagliu elettrochimica, è u fotoanodu hè cunnessu à a pinza di l'elettrodu di travagliu. À l'iniziu di l'esperimentu, quandu a luce hè accesa è spenta, l'elettroni eccitati di u fotoanodu attraversu u filu ghjunghjenu à a superficia di l'acciaio inox 304. À questu tempu, si pò osservà un cambiamentu in a densità di fotocorrente nantu à a superficia di l'acciaiu inox 304.
Per studià a prestazione di prutezzione catodica di nanocompositi nantu à l'acciaio inox 304, sò stati testati i cambiamenti in u putenziale di fotoionizazione di l'acciaio inox 304 è di i nanocompositi, è ancu i cambiamenti in a densità di corrente di fotoionizazione trà i nanocompositi è l'acciaio inox 304.
A figura 4 mostra i cambiamenti in u putenziale di circuitu apertu di l'acciaio inox 304 è di i nanocompositi sottu à l'irradiazione di luce visibile è in cundizioni di bughjura. A figura 4a mostra l'influenza di u tempu di deposizione di NiS per immersione nantu à u putenziale di circuitu apertu, è a figura 4b mostra l'effettu di a cuncentrazione di nitratu d'argentu nantu à u putenziale di circuitu apertu durante a fotoriduzione. A figura 4a mostra chì u putenziale di circuitu apertu di u nanocomposite NiS/TiO2 ligatu à l'acciaio inox 304 hè significativamente riduttu in u mumentu chì a lampada hè accesa paragunatu à u cumpostu di sulfuru di nichel. Inoltre, u putenziale di circuitu apertu hè più negativu di quellu di i nanofili puri di TiO2, ciò chì indica chì u cumpostu di sulfuru di nichel genera più elettroni è migliora l'effettu di prutezzione di u fotocatodu da TiO2. Tuttavia, à a fine di l'esposizione, u putenziale senza carica aumenta rapidamente finu à u putenziale senza carica di l'acciaio inox, ciò chì indica chì u sulfuru di nichel ùn hà micca un effettu di accumulazione d'energia. L'effettu di u numeru di cicli di deposizione per immersione nantu à u putenziale di circuitu apertu pò esse osservatu in a figura 4a. À un tempu di deposizione di 6, u putenziale estremu di u nanocomposite righjunghje -550 mV in relazione à l'elettrodu di calomelanu saturatu, è u putenziale di u nanocomposite depositatu per un fattore di 6 hè significativamente più bassu di quellu di u nanocomposite in altre cundizioni. Cusì, i nanocomposites NiS/TiO2 ottenuti dopu à 6 cicli di deposizione anu furnitu a megliu prutezzione catodica per l'acciaiu inox 304.
Cambiamenti in OCP di elettrodi d'acciaio inox 304 cù nanocompositi NiS/TiO2 (a) è nanocompositi Ag/NiS/TiO2 (b) cù è senza illuminazione (λ > 400 nm).
Cum'è mostratu in a figura 4b, u putenziale di circuitu apertu di l'acciaio inox 304 è di i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 hè statu significativamente riduttu quandu hè statu espostu à a luce. Dopu a deposizione superficiale di nanoparticelle d'argentu, u putenziale di circuitu apertu hè statu significativamente riduttu paragunatu à i nanofili puri di TiO2. U putenziale di u nanocomposite NiS/TiO2 hè più negativu, ciò chì indica chì l'effettu protettivu catodicu di TiO2 migliora significativamente dopu chì e nanoparticelle d'Ag sò state depositate. U putenziale di circuitu apertu hè aumentatu rapidamente à a fine di l'esposizione, è paragunatu à l'elettrodu di calomelanu saturatu, u putenziale di circuitu apertu puderia ghjunghje à -580 mV, chì era più bassu di quellu di l'acciaio inox 304 (-180 mV). Stu risultatu indica chì u nanocomposite hà un rimarchevule effettu di accumulazione d'energia dopu chì e particelle d'argentu sò state depositate nantu à a so superficia. In a figura 4b si mostra ancu l'effettu di a cuncentrazione di nitratu d'argentu nantu à u putenziale di circuitu apertu. À una cuncentrazione di nitratu d'argentu di 0,1 M, u putenziale limitante relativu à un elettrodu di calomelanu saturatu ghjunghje à -925 mV. Dopu à 4 cicli d'applicazione, u putenziale hè restatu à u livellu dopu à a prima applicazione, ciò chì indica l'eccellente stabilità di u nanocomposite. Cusì, à una cuncentrazione di nitratu d'argentu di 0,1 M, u nanocomposite Ag/NiS/TiO2 risultante hà u megliu effettu protettivu catodicu nantu à l'acciaiu inox 304.
A deposizione di NiS nantu à a superficia di i nanofili di TiO2 migliora gradualmente cù l'aumentu di u tempu di deposizione di NiS. Quandu a luce visibile tocca a superficia di u nanofilu, più siti attivi di sulfuru di nichel sò eccitati per generà elettroni, è u putenziale di fotoionizazione diminuisce di più. Tuttavia, quandu e nanoparticelle di sulfuru di nichel sò eccessivamente depositate nantu à a superficia, u sulfuru di nichel eccitatu hè invece riduttu, ciò chì ùn cuntribuisce micca à l'assorbimentu di a luce. Dopu chì e particelle d'argentu sò depositate nantu à a superficia, per via di l'effettu di risonanza plasmonica superficiale di e particelle d'argentu, l'elettroni generati saranu trasferiti rapidamente à a superficia di l'acciaio inox 304, risultendu in un eccellente effettu di prutezzione catodica. Quandu troppu particelle d'argentu sò depositate nantu à a superficia, e particelle d'argentu diventanu un puntu di ricombinazione per fotoelettroni è lacune, ciò chì ùn cuntribuisce micca à a generazione di fotoelettroni. In conclusione, i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 ponu furnisce a megliu prutezzione catodica per l'acciaio inox 304 dopu una deposizione di sulfuru di nichel 6 volte sottu à 0,1 M di nitratu d'argentu.
U valore di a densità di fotocorrente rapprisenta u putere di separazione di l'elettroni è di i buchi fotogenerati, è più grande hè a densità di fotocorrente, più forte hè u putere di separazione di l'elettroni è di i buchi fotogenerati. Ci sò parechji studii chì mostranu chì u NiS hè largamente utilizatu in a sintesi di materiali fotocatalitici per migliurà e proprietà fotoelettriche di i materiali è per separà i buchi15,16,17,18,19,20. Chen et al. anu studiatu grafene senza metalli nobili è cumposti g-C3N4 co-modificati cù NiS15. L'intensità massima di a fotocorrente di u g-C3N4/0.25%RGO/3%NiS mudificatu hè 0.018 μA/cm2. Chen et al. anu studiatu CdSe-NiS cù una densità di fotocorrente di circa 10 µA/cm2.16. Liu et al. anu sintetizatu un cumpostu CdS@NiS cù una densità di fotocorrente di 15 µA/cm218. Tuttavia, l'usu di NiS per a prutezzione di u fotocatodu ùn hè ancu statu signalatu. In u nostru studiu, a densità di fotocorrente di TiO2 hè stata significativamente aumentata da a mudificazione di NiS. A figura 5 mostra i cambiamenti in a densità di fotocorrente di l'acciaio inox 304 è di i nanocompositi in cundizioni di luce visibile è senza illuminazione. Cum'è mostratu in a figura 5a, a densità di fotocorrente di u nanocomposite NiS/TiO2 aumenta rapidamente in u mumentu chì a luce hè accesa, è a densità di fotocorrente hè positiva, chì indica u flussu di elettroni da u nanocomposite à a superficia attraversu a stazione di travagliu elettrochimica. Acciaio inox 304. Dopu a preparazione di i cumposti di sulfuru di nichel, a densità di fotocorrente hè più grande di quella di i nanofili puri di TiO2. A densità di fotocorrente di NiS righjunghji 220 μA/cm2, chì hè 6,8 volte più alta di quella di i nanofili di TiO2 (32 μA/cm2), quandu NiS hè immersu è depositatu 6 volte. Cum'è mostratu in a figura... 5b, a densità di fotocorrente trà u nanocomposite Ag/NiS/TiO2 è l'acciaio inox 304 era significativamente più alta chè trà u TiO2 puru è u nanocomposite NiS/TiO2 quandu hè accesu sottu à una lampada à xenon. In a fig. A Figura 5b mostra ancu l'effettu di a cuncentrazione di AgNO nantu à a densità di fotocorrente durante a fotoriduzione. À una cuncentrazione di nitratu d'argentu di 0,1 M, a so densità di fotocorrente righjunghje 410 μA/cm2, chì hè 12,8 volte più alta chè quella di i nanofili di TiO2 (32 μA/cm2) è 1,8 volte più alta chè quella di i nanocomposite NiS/TiO2. Un campu elettricu di eterogiunzione hè furmatu à l'interfaccia nanocomposite Ag/NiS/TiO2, chì facilita a separazione di l'elettroni fotogenerati da i lacune.
Cambiamenti in a densità di fotocorrente di un elettrodu d'acciaio inox 304 cù (a) nanocomposite NiS/TiO2 è (b) nanocomposite Ag/NiS/TiO2 cù è senza illuminazione (λ > 400 nm).
Cusì, dopu à 6 cicli d'immersione-deposizione di sulfuru di nichel in nitratu d'argentu cuncintratu 0,1 M, a densità di fotocorrente trà i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 è l'acciaio inox 304 righjunghje 410 μA/cm2, chì hè più alta chè quella di l'elettrodi di calomelanu saturatu righjunghje -925 mV. In queste cundizioni, l'acciaio inox 304 cumminatu cù Ag/NiS/TiO2 pò furnisce a megliu prutezzione catodica.
In a figura 6 si mostranu immagini di microscopiu elettronicu di superficie di nanofili di diossidu di titaniu puru, nanoparticelle cumposte di sulfuru di nichel è nanoparticelle d'argentu in cundizioni ottimali. In a figura 6a, d si mostranu nanofili puri di TiO2 ottenuti per anodizazione in un solu stadiu. A distribuzione superficiale di i nanofili di diossidu di titaniu hè uniforme, e strutture di i nanofili sò vicine l'una à l'altra è a distribuzione di a dimensione di i pori hè uniforme. E figure 6b è e sò micrografie elettroniche di diossidu di titaniu dopu l'impregnazione è a deposizione 6 volte di cumposti di sulfuru di nichel. Da una maghjina microscopica elettronica ingrandita 200.000 volte in a figura 6e, si pò vede chì e nanoparticelle cumposte di sulfuru di nichel sò relativamente omogenee è anu una grande dimensione di particelle di circa 100-120 nm di diametru. Alcune nanoparticelle ponu esse osservate in a pusizione spaziale di i nanofili, è i nanofili di diossidu di titaniu sò chjaramente visibili. In a figura... E figure 6c,f mostranu imagine microscopiche elettroniche di nanocompositi NiS/TiO2 à una cuncentrazione di AgNO di 0,1 M. In paragone cù e figure 6b è a figure 6e, a figure 6c è a figure 6f mostranu chì e nanoparticelle di Ag sò dipusitate nantu à a superficia di u materiale cumpostu, cù e nanoparticelle di Ag distribuite uniformemente cù un diametru di circa 10 nm. A figure 7 mostra una sezione trasversale di nanofilm Ag/NiS/TiO2 sottumessi à 6 cicli di deposizione per immersione di NiS à una cuncentrazione di AgNO3 di 0,1 M. Da imagine à altu ingrandimentu, u spessore di u film misuratu era 240-270 nm. Cusì, e nanoparticelle di sulfuru di nichel è d'argentu sò assemblate nantu à a superficia di i nanofili di TiO2.
Nanocompositi di TiO2 puru (a, d), NiS/TiO2 cù 6 cicli di deposizione per immersione di NiS (b, e) è Ag/NiS/NiS cù 6 cicli di deposizione per immersione di NiS à 0,1 M AgNO3. Immagini SEM di nanocompositi di TiO2 (c, e).
Sezione trasversale di nanofilm Ag/NiS/TiO2 sottumessi à 6 cicli di deposizione per immersione di NiS à una concentrazione di AgNO3 di 0,1 M.
A figura 8 mostra a distribuzione superficiale di l'elementi nantu à a superficia di nanocompositi Ag/NiS/TiO2 ottenuti da 6 cicli di deposizione per immersione di sulfuru di nichel à una concentrazione di nitratu d'argentu di 0,1 M. A distribuzione superficiale di l'elementi mostra chì Ti, O, Ni, S è Ag sò stati rilevati utilizendu a spettroscopia energetica. In termini di cuntenutu, Ti è O sò l'elementi più cumuni in a distribuzione, mentre chì Ni è S sò apprussimatamente listessi, ma u so cuntenutu hè assai più bassu chè Ag. Si pò ancu pruvà chì a quantità di nanoparticelle d'argentu cumposte superficiali hè più grande di quella di sulfuru di nichel. A distribuzione uniforme di l'elementi nantu à a superficia indica chì u sulfuru di nichel è d'argentu sò ligati uniformemente nantu à a superficia di i nanofili di TiO2. L'analisi spettroscopica fotoelettronica à raggi X hè stata ancu realizata per analizà a cumpusizione specifica è u statu di legame di e sostanze.
Distribuzione di l'elementi (Ti, O, Ni, S, è Ag) di nanocompositi Ag/NiS/TiO2 à una cuncentrazione di AgNO3 di 0,1 M per 6 cicli di deposizione per immersione di NiS.
In a figura 9, a figura 9 mostra i spettri XPS di nanocompositi Ag/NiS/TiO2 ottenuti aduprendu 6 cicli di deposizione di sulfuru di nichel per immersione in 0,1 M AgNO3, induve a figura 9a hè u spettru cumpletu, è u restu di i spettri sò spettri à alta risoluzione di l'elementi. Cum'è si pò vede da u spettru cumpletu in a figura 9a, i picchi d'assorbimentu di Ti, O, Ni, S è Ag sò stati truvati in u nanocomposite, ciò chì prova l'esistenza di sti cinque elementi. I risultati di i testi eranu in cunfurmità cù l'EDS. U piccu in eccessu in a figura 9a hè u piccu di carbone adupratu per curregge l'energia di legame di u campione. In a figura 9b, si vede un spettru d'energia à alta risoluzione di Ti. I picchi d'assorbimentu di l'orbitali 2p sò situati à 459,32 è 465 eV, chì currispondenu à l'assorbimentu di l'orbitali Ti 2p3/2 è Ti 2p1/2. Dui picchi d'assorbimentu provanu chì u titaniu hà una valenza Ti4+, chì currisponde à Ti in TiO2.
Spettri XPS di misurazioni Ag/NiS/TiO2 (a) è spettri XPS ad alta risoluzione di Ti2p(b), O1s(c), Ni2p(d), S2p(e) è Ag 3d(f).
A figura 9d mostra un spettru d'energia Ni à alta risoluzione cù quattru picchi d'assorbimentu per l'orbitale Ni 2p. I picchi d'assorbimentu à 856 è 873,5 eV currispondenu à l'orbitali Ni 2p3/2 è Ni 2p1/2 8,10, induve i picchi d'assorbimentu appartenenu à NiS. I picchi d'assorbimentu à 881 è 863 eV sò per u nitratu di nichel è sò causati da u reagente di nitratu di nichel durante a preparazione di u campione. A figura 9e mostra un spettru S à alta risoluzione. I picchi d'assorbimentu di l'orbitali S 2p sò situati à 161,5 è 168,1 eV, chì currispondenu à l'orbitali S 2p3/2 è S 2p1/2 21, 22, 23, 24. Quessi dui picchi appartenenu à i cumposti di sulfuru di nichel. I picchi d'assorbimentu à 169,2 è 163,4 eV sò per u reagente di sulfuru di sodiu. A figura... 9f mostra un spettru Ag à alta risoluzione in u quale i picchi d'assorbimentu orbitale 3d di l'argentu sò situati à 368,2 è 374,5 eV, rispettivamente, è dui picchi d'assorbimentu currispondenu à l'orbite d'assorbimentu di Ag 3d5/2 è Ag 3d3/212, 13. I picchi in questi dui lochi provanu chì e nanoparticelle d'argentu esistenu in u statu d'argentu elementale. Cusì, i nanocompositi sò principalmente cumposti da Ag, NiS è TiO2, ciò chì hè statu determinatu da a spettroscopia fotoelettronica à raggi X, chì hà dimustratu chì e nanoparticelle di sulfuru di nichel è d'argentu sò state cumminate cù successu nantu à a superficia di i nanofili di TiO2.
A figura 10 mostra i spettri di riflettanza diffusa UV-VIS di nanofili di TiO2 appena preparati, nanocompositi NiS/TiO2 è nanocompositi Ag/NiS/TiO2. Si pò vede da a figura chì a soglia di assorbimentu di i nanofili di TiO2 hè di circa 390 nm, è a luce assorbita hè principalmente cuncintrata in a regione ultravioletta. Si pò vede da a figura chì dopu a cumbinazione di nanoparticelle di sulfuru di nichel è d'argentu nantu à a superficia di i nanofili di diossidu di titaniu 21, 22, a luce assorbita si propaga in a regione di luce visibile. À u listessu tempu, u nanocomposite hà un assorbimentu UV aumentatu, chì hè assuciatu à una stretta lacuna di banda di sulfuru di nichel. Più stretta hè a lacuna di banda, più bassa hè a barriera energetica per e transizioni elettroniche è più altu hè u gradu di utilizzazione di a luce. Dopu avè cumpostu a superficia NiS/TiO2 cù nanoparticelle d'argentu, l'intensità di assorbimentu è a lunghezza d'onda di a luce ùn sò micca aumentate significativamente, principalmente per via di l'effettu di a risonanza plasmonica nantu à a superficia di e nanoparticelle d'argentu. A lunghezza d'onda d'assorbimentu di i nanofili di TiO2 ùn migliora micca significativamente paragunata à a stretta banda di e nanoparticelle cumposte di NiS. In riassuntu, dopu à u sulfuru di nichel cumpostu è e nanoparticelle d'argentu nantu à a superficia di i nanofili di diossidu di titaniu, e so caratteristiche d'assorbimentu di a luce sò assai migliorate, è a gamma d'assorbimentu di a luce hè allargata da a luce ultravioletta à a luce visibile, ciò chì migliora u tassu d'utilizazione di i nanofili di diossidu di titaniu. luce chì migliora a capacità di u materiale di generà fotoelettroni.
Spettri di riflettanza diffusa UV/Vis di nanofili di TiO2 freschi, nanocompositi NiS/TiO2 è nanocompositi Ag/NiS/TiO2.
A figura 11 mostra u mecanismu di resistenza à a corrosione fotochimica di i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 sottu à l'irradiazione di luce visibile. Basatu annantu à a distribuzione putenziale di e nanoparticelle d'argentu, u sulfuru di nichelu è a banda di conduzione di u diossidu di titaniu, hè pruposta una pussibile mappa di u mecanismu di resistenza à a corrosione. Siccomu u putenziale di a banda di conduzione di u nanoargentu hè negativu paragunatu à u sulfuru di nichelu, è u putenziale di a banda di conduzione di u sulfuru di nichelu hè negativu paragunatu à u diossidu di titaniu, a direzzione di u flussu di l'elettroni hè apprussimatamente Ag→NiS→TiO2→acciaio inox 304. Quandu a luce hè irradiata nantu à a superficia di u nanocomposite, per via di l'effettu di a risonanza plasmonica superficiale di u nanoargentu, u nanoargentu pò generà rapidamente lacune è elettroni fotogenerati, è l'elettroni fotogenerati si movenu rapidamente da a pusizione di a banda di valenza à a pusizione di a banda di conduzione per via di l'eccitazione. Diossidu di titaniu è sulfuru di nichelu. Siccomu a conduttività di e nanoparticelle d'argentu hè più negativa di quella di u sulfuru di nichelu, l'elettroni in i TS di e nanoparticelle d'argentu sò rapidamente cunvertiti in TS di sulfuru di nichelu. U putenziale di cunduzione di u sulfuru di nichel hè più negativu chè quellu di u diossidu di titaniu, dunque l'elettroni di u sulfuru di nichel è a cunduttività di l'argentu s'accumulanu rapidamente in u CB di u diossidu di titaniu. L'elettroni fotogenerati generati ghjunghjenu à a superficia di l'acciaiu inox 304 attraversu a matrice di titaniu, è l'elettroni arricchiti participanu à u prucessu di riduzione catodica di l'ossigenu di l'acciaiu inox 304. Stu prucessu riduce a reazione catodica è à u listessu tempu sopprime a reazione di dissoluzione anodica di l'acciaiu inox 304, realizendu cusì a prutezzione catodica di l'acciaiu inox 304. A causa di a furmazione di u campu elettricu di l'eterogiunzione in u nanocomposite Ag/NiS/TiO2, u putenziale cunduttivu di u nanocomposite hè spustatu in una pusizione più negativa, chì migliora più efficacemente l'effettu di prutezzione catodica di l'acciaiu inox 304.
Schema di u prucessu anticorrosione fotoelettrochimicu di nanocompositi Ag/NiS/TiO2 in luce visibile.
In questu travagliu, e nanoparticelle di sulfuru di nichel è d'argentu sò state sintetizate nantu à a superficia di nanofili di TiO2 per mezu di un metudu simplice d'immersione è di fotoriduzione. Hè stata realizata una seria di studii nantu à a prutezzione catodica di nanocompositi Ag/NiS/TiO2 nantu à l'acciaiu inox 304. Basatu annantu à e caratteristiche morfologiche, l'analisi di a cumpusizione è l'analisi di e caratteristiche d'assorbimentu di a luce, sò state fatte e seguenti cunclusioni principali:
Cù un numeru di cicli d'impregnazione-deposizione di sulfuru di nichel di 6 è una cuncentrazione di nitratu d'argentu per a fotoriduzione di 0,1 mol/l, i nanocompositi Ag/NiS/TiO2 risultanti anu avutu un megliu effettu protettivu catodicu nantu à l'acciaio inox 304. In paragone cù un elettrodu di calomelanu saturatu, u putenziale di prutezzione righjunghji -925 mV, è a corrente di prutezzione righjunghji 410 μA/cm2.
Un campu elettricu di eterogiunzione hè furmatu à l'interfaccia nanocomposite Ag/NiS/TiO2, chì migliora u putere di separazione di l'elettroni è di i lacune fotogenerati. À u listessu tempu, l'efficienza di utilizzazione di a luce hè aumentata è a gamma di assorbimentu di a luce hè estesa da a regione ultravioletta à a regione visibile. U nanocomposite mantene sempre u so statu originale cù una bona stabilità dopu à 4 cicli.
I nanocompositi Ag/NiS/TiO2 preparati sperimentalmente anu una superficia uniforme è densa. U sulfuru di nichel è e nanoparticelle d'argentu sò cumposti uniformemente nantu à a superficia di i nanofili di TiO2. I cumposti di ferrite di cobaltu è nanoparticelle d'argentu sò di alta purezza.
Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Effettu di prutezzione fotocatodica di filmi di TiO2 per l'acciaiu à u carbonu in soluzioni à 3% NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Effettu di prutezzione fotocatodica di filmi di TiO2 per l'acciaiu à u carbonu in soluzioni à 3% NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Эффект фотокатодной защиты пленок TiO2 для углеродистой стали в 3% растворl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Effettu di prutezzione fotocatodica di filmi di TiO2 per l'acciaiu à u carbonu in soluzioni à 3% NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Фотокатодная защита углеродистой стали тонкими пленками TiO2 в 3% растворе. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Prutezzione fotocatodica di l'acciaiu à u carbonu cù filmi sottili di TiO2 in soluzione di NaCl à 3%.Elettrochimica. Acta 50, 3401–3406 (2005).
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Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Proprietà di prutezzione di u catodu fotogenerate di u rivestimentu TiO2/WO3 di dimensioni nanometriche. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Proprietà di prutezzione di u catodu fotogenerate di u rivestimentu TiO2/WO3 di dimensioni nanometriche.Zhou, MJ, Zeng, ZO è Zhong, L. Proprietà protettive catodiche fotogenerate di u rivestimentu nanoscala TiO2/WO3. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能。 Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能。Zhou MJ, Zeng ZO è Zhong L. Proprietà protettive catodiche fotogenerate di rivestimenti nano-TiO2/WO3.koros. a scienza. 51, 1386–1397 (2009).
Park, H., Kim, KY & Choi, W. Approcciu fotoelettrochimicu per a prevenzione di a corrosione di i metalli cù un fotoanodu à semiconduttori. Park, H., Kim, KY & Choi, W. Approcciu fotoelettrochimicu per a prevenzione di a corrosione di i metalli cù un fotoanodu à semiconduttori.Park, H., Kim, K.Yu. è Choi, V. Un approcciu fotoelettrochimicu à a prevenzione di a corrosione di i metalli cù un fotoanodu à semiconduttori. Park, H., Kim, KY & Choi, W. 使用半导体光阳极防止金属腐蚀的光电化学方法。 Park, H., Kim, KY è Choi, W.Park H., Kim K.Yu. è Choi V. Metodi fotoelettrochimichi per prevene a corrosione di i metalli utilizendu fotoanodi à semiconduttori.J. Fisica. Chimica. V. 106, 4775–4781 (2002).
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