Go raibh maith agat as cuairt a thabhairt ar Nature.com.Tá tacaíocht teoranta CSS ag an leagan brabhsálaí atá in úsáid agat.Chun an taithí is fearr a fháil, molaimid duit brabhsálaí nuashonraithe a úsáid (nó Mód Comhoiriúnachta a dhíchumasú in Internet Explorer).Idir an dá linn, chun tacaíocht leanúnach a chinntiú, cuirfimid an suíomh gan stíleanna agus JavaScript.
Timpeallán a thaispeánann trí shleamhnán ag an am céanna.Bain úsáid as na cnaipí Roimhe agus Ar Aghaidh chun bogadh trí thrí shleamhnán ag an am, nó bain úsáid as na cnaipí sleamhnáin ag an deireadh chun bogadh trí thrí shleamhnán ag an am.
Cuireann costas réasúnta ard na gcadhnraí redox uile-vanaidiam sreafa tríd (VRFBanna) srian lena n-úsáid fhorleathan.Tá gá le cinéitic imoibrithe leictriceimiceacha a fheabhsú chun sainchumhacht agus éifeachtúlacht fuinnimh an VRFB a mhéadú, rud a laghdóidh costas kWh an VRFB.Sa saothar seo, rinneadh nanacháithníní ocsaíde tungstain hiodráitithe (HWO) a shintéisiú go hidreastatach, C76 agus C76/HWO, a thaisceadh ar leictreoidí éadach carbóin agus tástáladh iad mar leictrea-chatalaíoch don imoibriú ocsaí VO2+/VO2+.Micreascópacht leictreoin scanadh astaíochta allamuigh (FESEM), speictreascópacht X-ghathaithe fuinnimh (EDX), micreascópacht leictreoin tarchurtha ardtaifigh (HR-TEM), díraonadh X-gha (XRD), speictreascópacht fótaileictreon X-gha (XPS), Speictreascópacht infridhearg Fourier a chlaochlú (FTIR) agus tomhais uillinne teagmhála.Fuarthas amach gur féidir feabhas a chur ar chinéitic leictreoidí trí fhilerenes C76 a chur le HWO trí seoltacht leictreach a mhéadú agus grúpaí feidhmiúla ocsaíde a sholáthar ar a dhromchla, rud a chuireann imoibriú redox VO2 +/VO2+ chun cinn.Ba é an ilchodach HWO/C76 (50 wt% C76) an rogha ab fhearr don imoibriú VO2 +/VO2+ le ΔEp de 176 mV, agus ba é 365 mV éadach carbóin neamhchóireáilte (UCC).Ina theannta sin, léirigh an comhchodach HWO/C76 tionchar coisctheach suntasach ar an imoibriú éabhlóid clóirín seadánacha mar gheall ar an ngrúpa feidhme W-OH.
Mar thoradh ar dhianghníomhaíocht dhaonna agus an réabhlóid thionsclaíoch thapa tá éileamh ard gan stad ar leictreachas, atá ag méadú thart ar 3% in aghaidh na bliana1.Le blianta fada anuas, tá astaíochtaí gás ceaptha teasa a chuireann le téamh domhanda, uisce agus truailliú aeir mar thoradh ar úsáid fhorleathan breoslaí iontaise mar fhoinse fuinnimh, rud atá ag bagairt ar éiceachórais iomlána.Mar thoradh air sin, táthar ag súil go mbainfidh treá fuinneamh gaoithe agus gréine glan agus in-athnuaite 75% den leictreachas iomlán faoi 20501. Mar sin féin, nuair a sháraíonn sciar an leictreachais ó fhoinsí in-athnuaite 20% den ghiniúint leictreachais iomlán, éiríonn an eangach éagobhsaí.
I measc na gcóras stórála fuinnimh go léir cosúil leis an gceallraí sreabhadh redox vanadium hibrideach2, tá an ceallraí sreabhadh redox uile-vanadium (VRFB) tar éis an chuid is mó a fhorbairt go tapa mar gheall ar a buntáistí iomadúla agus meastar gurb é an réiteach is fearr le haghaidh stórála fuinnimh fadtéarmach (thart ar 30 bliain).) Roghanna i gcomhcheangal le fuinneamh in-athnuaite4.Tá sé seo mar gheall ar scaradh dlús cumhachta agus fuinnimh, freagairt thapa, saol seirbhíse fada, agus costas bliantúil réasúnta íseal de $65/kWh i gcomparáid le $93-140/kWh do chadhnraí Li-ian agus aigéad luaidhe agus 279-420 dollar SAM in aghaidh an kWh.ceallraí 4 faoi seach.
Mar sin féin, tá a dtráchtálú ar scála mór fós srianta ag a gcostais chaipitil chórais sách ard, go príomha mar gheall ar chruacha cille4,5.Mar sin, is féidir le feabhas a chur ar fheidhmíocht cruachta trí chinéitic an dá imoibriú leath-eiliminte a mhéadú méid stack a laghdú agus costas a laghdú dá réir.Dá bhrí sin, tá gá le haistriú tapa leictreon go dtí an dromchla leictreoid, a bhraitheann ar dhearadh, ar chomhdhéanamh agus ar struchtúr an leictreoid agus go dteastaíonn leas iomlán a bhaint as go cúramach6.In ainneoin cobhsaíocht mhaith ceimiceach agus leictriceimiceach agus seoltacht leictreach maith na n-leictreoidí carbóin, tá a gcinéiticí neamhchóireáilte mall mar gheall ar easpa grúpaí feidhme ocsaigine agus hidreafaileacht7,8.Dá bhrí sin, déantar electrocatalysts éagsúla a chomhcheangal le leictreoidí carbóin-bhunaithe, go háirithe nanastruchtúir charbóin agus ocsaídí miotail, chun cinéitic an dá leictreoid a fheabhsú, rud a mhéadaíonn cinéitic an leictreoid VRFB.
I dteannta lenár n-obair roimhe seo ar C76, thugamar tuairisc den chéad uair ar ghníomhaíocht leictrea-chatalaíoch den scoth an fulaireéin seo do VO2 +/VO2+, aistriú luchta, i gcomparáid le héadach carbóin teaschóireáilte agus neamhchóireáilte.Laghdaítear friotaíocht 99.5% agus 97%.Tá feidhmíocht chatalaíoch na n-ábhar carbóin don imoibriú VO2+/VO2+ i gcomparáid le C76 léirithe i dTábla S1.Ar an láimh eile, baineadh úsáid as go leor ocsaídí miotail mar CeO225, ZrO226, MoO327, NiO28, SnO229, Cr2O330 agus WO331, 32, 33, 34, 35, 36, 37 mar gheall ar a bhfliuchtacht mhéadaithe agus a bhfeidhmiúlacht flúirseach ocsaigine., 38. grúpa.Tá gníomhaíocht chatalaíoch na n-ocsaídí miotail seo san imoibriú VO2+/VO2+ léirithe i dTábla S2.Baineadh úsáid as WO3 i líon suntasach oibreacha mar gheall ar a chostas íseal, ardchobhsaíocht sna meáin aigéadacha, agus ardghníomhaíocht chatalaíoch31,32,33,34,35,36,37,38.Mar sin féin, is beag an feabhas atá tagtha ar chinéitic chatóideach mar gheall ar WO3.Chun seoltacht WO3 a fheabhsú, rinneadh tástáil ar éifeacht úsáid ocsaíd tungstain laghdaithe (W18O49) ar ghníomhaíocht chatóideach38.Ní dhearnadh tástáil riamh ar ocsaíd tungstain hiodráitithe (HWO) in iarratais VRFB, cé go léiríonn sé gníomhaíocht mhéadaithe in iarratais supercapacitor mar gheall ar idirleathadh cataithe níos tapúla i gcomparáid le WOx39,40 ainhidriúil.Úsáideann an ceallraí sreabhadh redox vanadium tríú glúin leictrilít aigéad measctha comhdhéanta de HCl agus H2SO4 chun feidhmíocht ceallraí a fheabhsú agus tuaslagthacht agus cobhsaíocht na n-ian vanadium sa electrolyte a fheabhsú.Mar sin féin, tá an t-imoibriú éabhlóid clóirín seadánacha ar cheann de na míbhuntáistí a bhaineann leis an tríú glúin, agus mar sin tá an cuardach le haghaidh bealaí chun bac a chur ar an imoibriú meastóireachta clóirín díriú ar roinnt grúpaí taighde.
Anseo, rinneadh tástálacha imoibrithe VO2 +/VO2+ ar chomhchodanna HWO/C76 a thaisceadh ar leictreoidí éadach carbóin chun cothromaíocht a fháil idir seoltacht leictreach na gcomhábhar agus cinéitic redox an dromchla leictreoid agus éabhlóid clóirín seadánacha á gcur faoi chois.freagra (CER).Rinneadh nanacháithníní ocsaíd tungstain hiodráitithe (HWO) a shintéisiú trí mhodh simplí hidrothermal.Rinneadh turgnaimh i leictrilít aigéad measctha (H2SO4/HCl) chun an tríú glúin VRFB (G3) a insamhail le haghaidh praiticiúlacht agus chun imscrúdú a dhéanamh ar éifeacht HWO ar imoibriú éabhlóid clóirín seadánacha.
Hiodráit sulfáit Vanaidiam(IV) (VOSO4, 99.9%, Alfa-Aeser), aigéad sulfarach (H2SO4), aigéad hidreaclórach (HCl), démheitiolformaimíd (DMF, Sigma-Aldrich), fluairíd pholaiviniledéine (PVDF, Sigma)-Aldrich), sóidiam Tungstain ocsaíd-déhiodráit, éadach 29-déhiodráit, Sigma-Aldrich Baineadh úsáid as AT (Stóras Cille Breosla) sa staidéar seo.
Ullmhaíodh ocsaíd tungstain hiodráitithe (HWO) trí imoibriú hidrothermal 43 inar tuaslagadh 2 g de shalann Na2WO4 i 12 ml de H2O chun tuaslagán gan dath a thabhairt, agus ansin cuireadh 12 ml de 2 M HCl leis an taobh eile chun fionraí buí a thabhairt.Cuireadh an sciodar in uathchlábh cruach dhosmálta atá brataithe le Teflon agus coinníodh é in oigheann ag 180° C. ar feadh 3 huaire le haghaidh imoibriú hidreiteirmeach.Bailíodh an t-iarmhar trí scagachán, nite 3 huaire le eatánól agus uisce, triomaíodh é in oigheann ag 70 ° C ar feadh ~ 3 uair an chloig, agus ansin triturated chun púdar gorm-liath HWO a thabhairt.
Baineadh úsáid as na leictreoidí éadach carbóin (CCT) a fuarthas (neamhchóireáilte) mar atá nó teaschóireáil i bhfoirnéis feadáin ag 450 ° C san aer le ráta téimh 15 °C/nóiméad ar feadh 10 n-uaire chun CCanna cóireáilte (TCC) a fháil.mar a thuairiscítear san alt roimhe seo24.Gearradh UCC agus TCC ina leictreoidí timpeall 1.5 cm ar leithead agus 7 cm ar fad.Ullmhaíodh fionraí C76, HWO, HWO-10% C76, HWO-30% C76 agus HWO-50% C76 trí 20 mg .% (~ 2.22 mg) de ceanglóra PVDF a chur le ~ 1 ml DMF agus sonicated ar feadh 1 uair an chloig chun aonfhoirmeacht a fheabhsú.Cuireadh 2 mg de chomhchodanna C76, HWO agus HWO-C76 i bhfeidhm go seicheamhach ar limistéar leictreoid gníomhach UCC de thart ar 1.5 cm2.Lódáladh gach catalaíoch ar leictreoidí UCC agus baineadh úsáid as TCC chun críocha comparáide amháin, mar gur léirigh ár gcuid oibre roimhe seo nach raibh cóireáil teasa ag teastáil24.Baineadh socrú tuiscint amach trí 100 µl den fhionraí a scuabadh (ualach 2 mg) le haghaidh éifeacht níos cothroime.Ansin triomaíodh na leictreoidí go léir in oigheann ag 60° C. thar oíche.Déantar na leictreoidí a thomhas ar aghaidh agus ar ais chun luchtú stoic cruinn a chinntiú.D'fhonn limistéar geoiméadrach áirithe (~ 1.5 cm2) a bheith ann agus cosc ​​a chur ar ardú an electrolyte vanadium go dtí an leictreoid mar gheall ar an éifeacht ribeach, cuireadh sraith tanaí paraifín i bhfeidhm thar an ábhar gníomhach.
Baineadh úsáid as micreascópacht leictreoin scanadh astaíochtaí allamuigh (FESEM, Zeiss SEM Ultra 60, 5 kV) chun deilbhíocht dromchla HWO a urramú.Baineadh úsáid as speictriméadar X-gha-scaipeadh fuinnimh atá feistithe le Feii8SEM (EDX, Zeiss Inc.) chun eilimintí HWO-50%C76 a mhapáil ar leictreoidí UCC.Baineadh úsáid as micreascóp leictreoin tarchurtha ardtaifigh (HR-TEM, JOEL JEM-2100) a fheidhmíonn ag voltas luasghéaraithe 200 kV chun cáithníní agus fáinní díraonta HWO ardtaifeach a íomháú.Úsáideann na bogearraí Bosca Uirlisí Crystallography (CrysTBox) an fheidhm ringGUI chun patrún díraonta fáinne HWO a anailísiú agus na torthaí a chur i gcomparáid le patrún XRD.Rinneadh anailís ar struchtúr agus ar ghraifiliú UCC agus TCC trí dhíraonta X-gha (XRD) ag ráta scanadh de 2.4°/nóiméad ó 5° go 70° le Cu Kα (λ = 1.54060 Å) ag baint úsáide as difreálach X-ghathach Panalytical (Samhail 3600).Léirigh XRD struchtúr criostail agus céim HWO.Baineadh úsáid as bogearraí PANalytical X'Pert HighScore chun buaiceanna HWO a mheaitseáil leis na léarscáileanna ocsaíde tungstain atá ar fáil sa bhunachar sonraí45.Cuireadh torthaí HWO i gcomparáid le torthaí TEM.Rinneadh comhdhéanamh ceimiceach agus staid na samplaí HWO a chinneadh le speictreascópacht fótaileictreon X-gha (XPS, ESCALAB 250Xi, ThermoScientific).Baineadh úsáid as na bogearraí CASA-XPS (v 2.3.15) le haghaidh buaic-dí-chinneadh agus anailís sonraí.Chun grúpaí feidhme dromchla HWO agus HWO-50%C76 a chinneadh, rinneadh tomhais ag baint úsáide as speictreascópacht infridhearg trasfhoirmithe Fourier (FTIR, speictriméadar Perkin Elmer, ag baint úsáide as KBr FTIR).Cuireadh na torthaí i gcomparáid le torthaí XPS.Úsáideadh tomhais uillinn teagmhála (KRUSS DSA25) freisin chun infhliuchtacht na n-leictreoidí a shaintréithe.
Le haghaidh gach tomhais leictriceimiceach, baineadh úsáid as stáisiún oibre Biologic SP 300.Baineadh úsáid as voltaiméadracht chiorclach (CV) agus speictreascópacht impedance leictriceimiceach (EIS) chun staidéar a dhéanamh ar chinéitic leictreoid imoibriú redox VO2 +/VO2+ agus ar éifeacht idirleathadh imoibrí (VOSO4(VO2+)) ar an ráta imoibrithe.Bhain an dá mhodh úsáid as cill trí-leictreoid le tiúchan leictrilít de 0.1 M VOSO4 (V4+) i 1 M H2SO4 + 1 M HCl (meascán aigéid).Déantar na sonraí leictriceimiceach go léir a chuirtear i láthair a cheartú IR.Baineadh úsáid as leictreoid calomel sáithithe (SCE) agus corna platanam (Pt) mar an leictreoid tagartha agus cuntair, faoi seach.Maidir le CV, cuireadh rátaí scanadh (ν) de 5, 20, agus 50 mV/s i bhfeidhm ar an bhfuinneog fhéideartha VO2+/VO2+ le haghaidh (0–1) V vs SCE, arna choigeartú ansin le haghaidh SHE a bhreacadh (VSCE = 0.242 V vs. HSE).Chun staidéar a dhéanamh ar ghníomhaíocht leictreoid a choinneáil, rinneadh CVanna timthriallacha arís agus arís eile ag ν 5 mV/s do UCC, TCC, UCC-C76, UCC-HWO, agus UCC-HWO-50% C76.Le haghaidh tomhais EIS, ba é 0.01-105 Hz raon minicíochta an imoibrithe redox VO2 +/VO2+, agus ba é 10 mV an suaitheadh ​​voltais ag voltas ciorcad oscailte (OCV).Rinneadh gach turgnamh arís 2-3 huaire chun comhsheasmhacht na dtorthaí a chinntiú.Is trí mhodh Nicholson46,47 a fuarthas na tairisigh ráta ilchineálach (k0).
Tá ocsaíd tungstain hiodráitithe (HVO) tar éis a shintéisiú go rathúil leis an modh hidrothermal.Íomhá SEM i bhfíor.Léiríonn 1a go bhfuil an HWO taiscthe comhdhéanta de bhraislí de nanacháithníní le méideanna sa raon 25-50 nm.
Léiríonn patrún díraonta X-gha HWO beanna (001) agus (002) ag ~23.5° agus ~47.5°, faoi seach, ar saintréith iad de chuid nonstoichiometric WO2.63 (W32O84) (PDF 077–0810, a = 21.4 Å, b = Å = β = 17. γ = 90°), a fhreagraíonn dá dath gorm soiléir (Fíor 1b) 48.49.Sannadh beanna eile ag timpeall 20.5°, 27.1°, 28.1°, 30.8°, 35.7°, 36.7° agus 52.7° do (140), (620), (350), (720), (740), (560°).) ) agus (970) eitleáin díraonta orthogonal go WO2.63, faoi seach.Baineadh úsáid as an modh sintéiseach céanna ag Songara et al.43 chun táirge bán a fháil, a cuireadh i leith láithreacht WO3(H2O)0.333.Mar sin féin, san obair seo, de bharr coinníollacha éagsúla, fuarthas táirge gorm-liath, rud a thugann le fios go bhfuil WO3(H2O)0.333 (PDF 087-1203, a = 7.3 Å, b = 12.5 Å, c = 7 .7 Å, α = β = ° γ) agus an fhoirm laghdaithe ocsaíde = 90 Å.Léirigh anailís leathchainníochtúil ag baint úsáide as bogearraí X'Pert HighScore 26% WO3(H2O)0.333:74% W32O84.Ós rud é go bhfuil W32O84 comhdhéanta de W6+ agus W4+ (1.67:1 W6+:W4+), tá an t-ábhar measta i W6+ agus W4+ thart ar 72% W6+ agus 28% W4+, faoi seach.Cuireadh íomhánna SEM, speictrim XPS 1-dara ag an leibhéal núicléas, íomhánna TEM, speictream FTIR, agus speictream Raman de cháithníní C76 i láthair inár n-alt roimhe seo.De réir Kawada et al., 50,51 léirigh díraonadh X-gha de C76 tar éis deireadh a chur le tolúéin struchtúr monoclinic FCC.
Íomhánna SEM i bhfíor.Léiríonn 2a agus b gur éirigh le HWO agus HWO-50%C76 a thaisceadh ar agus idir snáithíní carbóin leictreoid UCC.Léarscáileanna eilimint EDX de tungstain, carbóin, agus ocsaigin ar íomhánna SEM i bhfíor....Taispeántar 2c i bhfíor.2d-f a léiríonn go bhfuil an tungstain agus an carbón measctha go cothrom (a léiríonn dáileadh comhchosúil) thar an dromchla leictreoid iomlán agus nach bhfuil an ilchodach taisceadh go haonfhoirmeach mar gheall ar nádúr an mhodhanna taisce.
Íomhánna SEM de cháithníní HWO taiscthe (a) agus cáithníní HWO-C76 (b).Taispeánann léarscáiliú EDX ar HWO-C76 arna luchtú ar UCC ag baint úsáide as an achar in íomhá (c) dáileadh tungstain (d), carbóin (e), agus ocsaigine (f) sa sampla.
Baineadh úsáid as HR-TEM le haghaidh íomháithe ardmhéadaithe agus faisnéis chriostalagrafach (Fíor 3).Léiríonn HWO mhoirfeolaíocht na nanóibí mar a thaispeántar i bhFíor 3a agus níos soiléire in Fíor 3b.Tríd an nanocube a fhormhéadú le haghaidh díraonta limistéar roghnaithe, is féidir an struchtúr gríl agus na plánaí díraonta a shásaíonn dlí Bragg a shamhlú, mar a thaispeántar i bhFíor 3c, a dhearbhaíonn criostalacht an ábhair.Sa inset go Fíor 3c taispeántar an fad d 3.3 Å a fhreagraíonn do na plánaí díraonta (022) agus (620) a fhaightear sna céimeanna WO3(H2O)0.333 agus W32O84, faoi seach43,44,49.Tá sé seo comhsheasmhach leis an anailís XRD a thuairiscítear thuas (Fíor 1b) ós rud é go gcomhfhreagraíonn an t-achar plána grátála a breathnaíodh d (Fíor 3c) don bhuaic XRD is láidre sa sampla HWO.Taispeántar fáinní samplacha freisin i bhfíor.3d, áit a gcomhfhreagraíonn gach fáinne d'eitleán ar leith.Tá na plánaí WO3(H2O)0.333 agus W32O84 daite bán agus gorm, faoi seach, agus taispeántar a mbuanna XRD comhfhreagracha in Fíor 1b freisin.Freagraíonn an chéad fháinne a thaispeántar sa léaráid fáinne don chéad bhuaic mharcáilte i bpatrún x-gha an eitleáin díraonta (022) nó (620).Ó na fáinní (022) go (402), is iad na luachanna d-spásála ná 3.30, 3.17, 2.38, 1.93, agus 1.69 Å, comhsheasmhach le luachanna XRD de 3.30, 3.17, 2, 45, 1.93.agus 1.66 Å, atá cothrom le 44, 45, faoi seach.
(a) Taispeánann íomhá HR-TEM de HWO, (b) íomhá mhéadaithe.Taispeántar íomhánna de na plánaí gríl in (c), taispeánann inset (c) íomhá mhéadaithe de na plánaí agus páirc d de 0.33 nm a fhreagraíonn do na plánaí (002) agus (620).(d) Patrún fáinne HWO a thaispeánann plánaí a bhaineann le WO3(H2O)0.333 (bán) agus W32O84 (gorm).
Rinneadh anailís XPS chun ceimic dromchla agus staid ocsaídiúcháin tungstain (Fíoracha S1 agus 4) a chinneadh.Léirítear raon leathan scanadh XPS an HWO sintéise i bhFíor S1, rud a léiríonn láithreacht tungstain.Léirítear speictream caolscála XPS de na croíleibhéil W 4f agus O 1s i bhFíoracha.4a agus b, faoi seach.Roinntear an speictream W 4f ina dhá fhithis dhromlaigh a fhreagraíonn d'fhuinnimh cheangailteach staid ocsaídiúcháin W.agus W 4f7/2 ag 36.6 agus 34.9 eV saintréith de chuid staid W4+ de 40, faoi seach.)0.333.Léiríonn na sonraí feistithe go bhfuil na céatadáin adamhach W6+ agus W4+ 85% agus 15%, faoi seach, atá gar do na luachanna a mheastar ó na sonraí XRD ag smaoineamh ar na difríochtaí idir an dá mhodh.Soláthraíonn an dá mhodh faisnéis chainníochtúil le cruinneas íseal, go háirithe XRD.Chomh maith leis sin, déanann an dá mhodh seo anailís ar chodanna éagsúla den ábhar toisc gur modh mórchóir é XRD agus is modh dromchla é XPS nach dtéann ach cúpla nanaiméadar i dtreo.Tá an speictream O 1s roinnte ina dhá bhuaic ag 533 (22.2%) agus 530.4 eV (77.8%).Freagraíonn an chéad cheann do OH, agus an dara ceann do bhannaí ocsaigine sa laitís in WO.Tá láithreacht grúpaí feidhme OH comhsheasmhach le hairíonna hiodráitithe HWO.
Rinneadh anailís FTIR freisin ar an dá shampla seo chun láithreacht na ngrúpaí feidhme a scrúdú agus chun móilíní uisce a chomhordú sa struchtúr HWO hiodráitithe.Léiríonn na torthaí go bhfuil an chuma ar thorthaí sampla HWO-50% C76 agus FT-IR HWO mar gheall ar láithreacht HWO, ach tá difríocht idir déine na buaiceanna mar gheall ar an méid difriúil sampla a úsáidtear mar ullmhúchán don anailís (Fíor 5a).) Léiríonn HWO-50% C76 go bhfuil baint ag gach buaic, ach amháin buaic ocsaíd tungstain, le fullerene 24. Mionsonraithe i bhfíor.Léiríonn 5a go léiríonn an dá shampla banda leathan an-láidir ag ~710/cm curtha i leith ascaluithe sínte OWO i struchtúr laitíse HWO, le gualainn láidir ag ~840/cm curtha i leith WO.Maidir le creathadh síneadh, cuirtear banda géar thart ar 1610/cm i leith creathadh lúbthachta OH, agus cuirtear banda ionsúcháin leathan thart ar 3400/cm i leith creathadh síneadh OH i ngrúpaí hiodrocsaile43.Tá na torthaí seo comhsheasmhach le speictream XPS i bhFíoracha.4b, áit ar féidir le grúpaí feidhme WO suíomhanna gníomhacha a sholáthar don imoibriú VO2+/VO2+.
Léirigh anailís FTIR ar HWO agus HWO-50% C76 (a), feidhmghrúpaí agus tomhais uillinn teagmhála (b, c).
Is féidir leis an ngrúpa OH an t-imoibriú VO2+/VO2+ a chatalú freisin, agus hidreafaileacht an leictreoid a mhéadú, rud a chuireann an ráta idirleata agus aistrithe leictreon chun cinn.Mar a thaispeántar, léiríonn an sampla HWO-50% C76 buaic bhreise do C76.Is féidir na beanna ag ~2905, 2375, 1705, 1607, agus 1445 cm3 a shannadh do chreathadh síneadh CH, O=C=O, C=O, C=C, agus CO, faoi seach.Is eol go maith gur féidir leis na feidhmghrúpaí ocsaigine C=O agus CO feidhmiú mar lárionaid ghníomhacha d'imoibrithe ocsaí vanadium.Chun fliuchtacht an dá leictreoid a thástáil agus a chur i gcomparáid, rinneadh tomhais uillinne teagmhála mar a thaispeántar i bhFíor 5b, c.Ghlac an leictreoid HWO braoiníní uisce láithreach, rud a léirigh superhydrophilicity mar gheall ar na grúpaí feidhmiúla OH a bhí ar fáil.Tá HWO-50% C76 níos hidreafóbach, le uillinn teagmhála de thart ar 135 ° tar éis 10 soicind.Mar sin féin, i dtomhais leictriceimiceach, tháinig an leictreoid HWO-50% C76 go hiomlán fliuch i níos lú ná nóiméad.Tá na tomhais fliuchta comhsheasmhach le torthaí XPS agus FTIR, rud a thugann le fios go ndéanann níos mó grúpaí OH ar dhromchla HWO go bhfuil sé sách hidreafail.
Tástáladh imoibrithe VO2 +/VO2+ de nanach-chomhchodanna HWO agus HWO-C76 agus bhíothas ag súil go gcuirfeadh HWO faoi chois éabhlóid clóirín san imoibriú VO2 +/VO2+ in aigéad measctha, agus go ndéanfadh C76 catalú breise ar an imoibriú ródox VO2 +/VO2+ atá ag teastáil.%, 30%, agus 50% C76 i bhfionraí HWO agus CCC a thaisceadh ar leictreoidí le luchtú iomlán de thart ar 2 mg/cm2.
Mar a thaispeántar i bhfíor.6, scrúdaigh CV cinéitic an imoibrithe VO2 +/VO2+ ar an dromchla leictreoid i leictrilít aigéadach measctha.Taispeántar na sruthanna mar I/Ipa chun comparáid éasca a dhéanamh idir ΔEp agus Ipa/IPc do chatalaígh éagsúla go díreach ar an ngraf.Taispeántar sonraí an aonaid achair reatha i bhFíor 2S.Ar fig.Léiríonn Fíor 6a go n-ardaíonn HWO beagán ráta aistrithe leictreon an imoibrithe redox VO2+/VO2+ ar dhromchla an leictreoid agus cuireann sé faoi chois imoibriú éabhlóid chlóirín seadánacha.Mar sin féin, méadaíonn C76 an ráta aistrithe leictreon go suntasach agus catalyzes an imoibriú éabhlóid clóirín.Dá bhrí sin, táthar ag súil go mbeidh an ghníomhaíocht is fearr agus an cumas is mó ag comhchodach de HWO agus C76 arna fhoirmiú i gceart chun imoibriú éabhlóid clóirín a chosc.Fuarthas amach tar éis méadú ar ábhar C76, gur tháinig feabhas ar ghníomhaíocht leictriceimiceach na n-leictreoidí, mar is léir ó laghdú ar ΔEp agus méadú ar an gcóimheas Ipa/IPc (Tábla S3).Deimhníodh é seo freisin leis na luachanna RCT a bhaintear as plota Nyquist i bhFíor 6d (Tábla S3), a fuarthas go laghdaigh siad le méadú ar ábhar C76.Tá na torthaí seo comhsheasmhach freisin le staidéar Li, inar léirigh cur leis an charbón mesoporous le WO3 mesoporous cinéitic aistrithe muirear feabhsaithe ar VO2+/VO2+35.Léiríonn sé seo go bhféadfadh an t-imoibriú díreach a bheith ag brath níos mó ar an seoltacht leictreoid (Banna C = C) 18, 24, 35, 36, 37. D'fhéadfadh sé seo a bheith mar gheall freisin ar athrú ar an gcéimseata comhordaithe idir [VO(H2O)5]2+ agus [VO2(H2O)4]+, laghdaíonn C76 róvoltas imoibrithe trí fhuinneamh fíocháin a laghdú.Mar sin féin, ní fhéadfaidh sé seo a bheith indéanta le leictreoidí HWO.
(a) Iompar timthriallach voltaiméadrach (ν = 5 mV/s) imoibriú VO2+/VO2+ de chomhábhair UCC agus HWO-C76 a bhfuil cóimheasa éagsúla HWO:C76 acu i 0.1 M VOSO4/1 M H2SO4 + 1 M HCl leictrilít.(b) Randles-Sevchik agus (c) Modh Nicholson VO2+/VO2+ chun éifeachtúlacht idirleata a mheas agus luachanna k0(d) a fháil.
Ní hamháin go raibh HWO-50% C76 ag taispeáint beagnach an ghníomhaíocht leictreatatach céanna le C76 don imoibriú VO2 +/VO2+, ach, níos suimiúla, chuir sé éabhlóid clóirín faoi chois freisin i gcomparáid le C76, mar a léirítear i bhFíor 6a, agus taispeánann sé an Leathchiorcal Níos lú i bhfíor.6d (RCT níos ísle).Léirigh C76 Ipa/IPc dealraitheach níos airde ná HWO-50% C76 (Tábla S3), ní mar gheall ar inchúlaitheacht imoibrithe feabhsaithe, ach mar gheall ar bhuaic-fhorluí an imoibrithe laghdaithe clóirín le SHE ag 1.2 V. Feidhmíocht is fearr HWO- Cuirtear an 50% C76 i leith an éifeacht sineirgisteacha idir an fheidhmiúlacht ard-fhliuch-mhuirearaithe C76 agus HWO C76 ar ard-fhliuch luchtaithe agus C76.Feabhsóidh níos lú astuithe clóirín éifeachtacht luchtaithe na cille iomlán, agus feabhsóidh cinéitic feabhsaithe éifeachtacht an voltas cille iomlán.
De réir chothromóid S1, le haghaidh imoibriú gar-inchúlaithe (aistriú leictreon sách mall) arna rialú ag idirleathadh, braitheann an buaicsruth (IP) ar líon na leictreon (n), achar leictreoid (A), comhéifeacht idirleata (D), líon comhéifeacht aistrithe leictreon (α) agus luas scanadh (ν).Chun staidéar a dhéanamh ar iompar idirleata-rialaithe na n-ábhar tástáladh, rinneadh an gaol idir IP agus ν1/2 a bhreacadh agus a chur i láthair i bhFíor 6b.Ós rud é go léiríonn gach ábhar gaol líneach, déantar an t-imoibriú a rialú trí idirleathadh.Ós rud é go bhfuil imoibriú VO2+/VO2+ gar-inchúlaithe, braitheann fána na líne ar chomhéifeacht idirleata agus ar luach α (cothromóid S1).Ós rud é go bhfuil an comhéifeacht idirleathadh tairiseach (≈ 4 × 10-6 cm2 / s)52, léiríonn an difríocht i bhfána na líne go díreach luachanna difriúla α, agus mar sin an ráta aistrithe leictreon ar an dromchla leictreoid, a léirítear le haghaidh C76 agus HWO -50% C76 Fána is géire (an ráta aistrithe leictreon is airde).
Tá luachanna gar do 1 ag fánaí Warburg (W) a ríomhtar le haghaidh na minicíochtaí íseal a léirítear i dTábla S3 (Fíor 6d) do na hábhair go léir, rud a léiríonn idirleathadh foirfe speiceas redox agus ag deimhniú iompar líneach IP i gcomparáid le ν1 / 2. Déantar CV a thomhas.I gcás HWO-50% C76, imíonn fána Warburg ó 1 go 1.32, rud a léiríonn ní hamháin idirleathadh leath-éiginnte an imoibrí (VO2+), ach freisin go bhféadfadh iompar sraithe tanaí a bheith ag cur le hiompar idirleata de bharr porosity leictreoid.
Chun anailís bhreise a dhéanamh ar inchúlaitheacht (ráta aistrithe leictreon) an imoibrithe redox VO2+/VO2+, úsáideadh modh imoibrithe gar-inchúlaithe Nicholson freisin chun tairiseach an ráta chaighdeánaigh k041.42 a chinneadh.Déantar é seo trí úsáid a bhaint as an gcothromóid S2 chun an paraiméadar cinéiteach gan toise Ψ, ar feidhm ΔEp é, a thógáil mar fheidhm de ν-1/2.Taispeánann Tábla S4 na luachanna Ψ a fuarthas do gach ábhar leictreoid.Breacáladh na torthaí (Fíor 6c) chun k0 × 104 cm/s a fháil ó fhána gach ceapa ag baint úsáide as Cothromóid S3 (scríofa in aice le gach sraith agus curtha i láthair i dTábla S4).Fuarthas go raibh an fána is airde ag HWO-50% C76 (Fíor 6c), agus mar sin is é 2.47 × 10-4 cm/s an t-uasluach k0.Ciallaíonn sé seo go n-éiríonn leis an leictreoid seo na cinéitic is tapúla, atá ag teacht leis na torthaí CV agus EIS i bhFíor 6a agus d agus i dTábla S3.Ina theannta sin, fuarthas luach k0 freisin ó phlota Nyquist (Fíor 6d) de Chothromóid S4 ag baint úsáide as an luach RCT (Tábla S3).Tá achoimre ar na torthaí k0 seo ó EIS i dTábla S4 agus léiríonn siad freisin go léiríonn HWO-50% C76 an ráta aistrithe leictreon is airde mar gheall ar an éifeacht sineirgisteacha.Cé go bhfuil difríocht idir na luachanna k0 mar gheall ar bhunús éagsúil gach modha, léiríonn siad fós an t-ord céanna méide agus léiríonn siad comhsheasmhacht.
Chun na cinéitic den scoth a fhaightear a thuiscint go hiomlán, tá sé tábhachtach na hábhair leictreoid is fearr a chur i gcomparáid le leictreoidí UCC agus TCC neamhbhrataithe.Maidir leis an imoibriú VO2 +/VO2+, léirigh HWO-C76 ní hamháin an ΔEp is ísle agus inchúlaitheacht níos fearr, ach chuir sé go mór faoi chois imoibriú éabhlóid clóirín seadánacha i gcomparáid le TCC, arna thomhas ag an sruth ag 1.45 V i gcoibhneas le SHE (Fíor 7a).Maidir le cobhsaíocht, ghlacamar leis go raibh HWO-50% C76 cobhsaí go fisiciúil toisc go raibh an chatalaíoch measctha le ceanglóra PVDF agus ansin i bhfeidhm ar na leictreoidí éadach carbóin.Léirigh HWO-50% C76 buaicathrú 44 mV (ráta díghrádaithe 0.29 mV/timthriall) tar éis 150 timthriall i gcomparáid le 50 mV do UCC (Fíor 7b).B'fhéidir nach difríocht mhór é seo, ach tá cinéitic leictreoidí UCC an-mhall agus díghrádaíonn sé le rothaíocht, go háirithe le haghaidh frithghníomhartha droim ar ais.Cé go bhfuil inchúlaitheacht TCC i bhfad níos fearr ná mar atá ag COC, fuarthas amach go raibh buaicathrú mór de 73 mV ag TCC tar éis 150 timthriall, rud a d’fhéadfadh a bheith mar gheall ar an méid mór clóirín a foirmíodh ar a dhromchla.ionas go gcloíonn an chatalaíoch go maith leis an dromchla leictreoid.Mar is léir ó na leictreoidí go léir a tástáladh, léirigh fiú leictreoidí gan chatalaíoch tacaithe céimeanna éagsúla éagobhsaíocht rothaíochta, rud a thugann le tuiscint go bhfuil an t-athrú ar bhuaicscaradh le linn rothaíochta mar gheall ar dhíghníomhachtú an ábhair de bharr athruithe ceimiceacha seachas scaradh catalaíoch.Ina theannta sin, dá ndéanfaí líon mór de cháithníní catalaíoch a dheighilt ón dromchla leictreoid, bheadh ​​méadú suntasach ar bhuaicscaradh (ní hamháin 44 mV) mar thoradh air seo, ós rud é go bhfuil an tsubstráit (UCC) sách neamhghníomhach don imoibriú redox VO2 +/VO2+.
Comparáid idir CV an ábhair leictreoid is fearr i gcomparáid le UCC (a) agus cobhsaíocht an imoibrithe redox VO2+/VO2+ (b).ν = 5 mV/s do gach CV in 0.1 M VOSO4/1 M H2SO4 + 1 M HCl leictrilít.
Chun tarraingteacht eacnamaíoch na teicneolaíochta VRFB a mhéadú, tá sé riachtanach cinéitic imoibrithe vanadium redox a leathnú agus a thuiscint chun ard-éifeachtúlacht fuinnimh a bhaint amach.Ullmhaíodh cumaisc HWO-C76 agus rinneadh staidéar ar a n-éifeacht leictrichatalaíoch ar imoibriú VO2+/VO2+.Is beag feabhsú cinéiteach a léirigh HWO in leictrilítí aigéadacha measctha ach chuir sé éabhlóid clóirín go suntasach faoi chois.Baineadh úsáid as cóimheasa éagsúla HWO:C76 chun cinéitic leictreoidí atá bunaithe ar HWO a bharrfheabhsú.Le méadú C76 go HWO feabhsaítear cinéitic aistrithe leictreon an imoibrithe VO2 +/VO2+ ar an leictreoid mhodhnaithe, agus is é HWO-50% C76 an t-ábhar is fearr de toisc go laghdaíonn sé friotaíocht aistrithe luchtaithe agus go seachnaíonn sé clóirín tuilleadh i gcomparáid le taisce C76 agus TCC..Tá sé seo mar gheall ar an éifeacht sineirgisteacha idir hibridiú C=C sp2, feidhmghrúpaí OH agus W-OH.Fuarthas amach go raibh an ráta díghrádaithe tar éis timthriallta arís agus arís eile de HWO-50% C76 0.29 mV / timthriall, agus is é an ráta díghrádaithe UCC agus TCC ná 0.33 mV / timthriall agus 0.49 mV / timthriall, faoi seach, rud a fhágann go bhfuil sé an-cobhsaí.i leictrilítí aigéad measctha.Aithníonn na torthaí a cuireadh i láthair ábhair leictreoid ardfheidhmíochta don imoibriú VO2+/VO2+ le cinéitic tapa agus ardchobhsaíocht.Méadóidh sé seo an voltas aschuir, rud a mhéadóidh éifeachtacht fuinnimh an VRFB, rud a laghdóidh costas a thráchtálú sa todhchaí.
Tá na tacair sonraí a úsáideadh agus/nó a ndearnadh anailís orthu sa staidéar reatha ar fáil ó na húdair faoi seach ar iarratas réasúnach.
Luderer G. et al.Cumhacht Gaoithe agus Gréine a Mheas i gCásanna Domhanda Fuinnimh Ísealcharbóin: Réamhrá.coigilt fuinnimh.64, 542–551.https://doi.org/10.1016/j.eneco.2017.03.027 (2017).
Lee, HJ, Park, S. & Kim, H. Anailís ar an éifeacht atá ag deascadh MnO2 ar fheidhmíocht cadhnra sreafa ocsaí vanadium/mangainéise. Lee, HJ, Park, S. & Kim, H. Anailís ar an éifeacht atá ag deascadh MnO2 ar fheidhmíocht cadhnra sreafa ocsaí vanadium/mangainéise.Lee, HJ, Park, S. agus Kim, H. Anailís ar éifeacht thaisceadh MnO2 ar fheidhmíocht ceallraí sreafa redox vanadium mangainéise. Lee, HJ, Park, S. & Kim, H. MnO2 沉淀对钒/锰氧化还原液流电池性能影响的分析。 Laoi, HJ, Páirc, S. & Kim, H. MnO2Lee, HJ, Park, S. agus Kim, H. Anailís ar an éifeacht atá ag sil-leagan MnO2 ar fheidhmíocht cadhnraí sreafa redox vanadium mangainéise.J. Leictriceimic.Páirtí Sóisialach.165(5), A952-A956.https://doi.org/10.1149/2.0881805jes (2018).
Shah, AA, Tangirala, R., Singh, R., Wills, RGA & Walsh, FC Múnla cealla aonad dinimiciúil don cheallraí sreabhadh uile-vanadium. Shah, AA, Tangirala, R., Singh, R., Wills, RGA & Walsh, FC Múnla cealla aonad dinimiciúil don cheallraí sreabhadh uile-vanadium.Shah AA, Tangirala R, Singh R, Wills RG.agus Walsh FK Samhail dhinimiciúil den chill bhunúsach de cheallraí sreafa uile-vanaidiam. Shah, AA, Tangirala, R., Singh, R., Wills, RGA & Walsh, FC 全钒液流电池的动态单元电池模型。 Shah, AA, Tangirala, R., Singh, R., Wills, RGA & Walsh, FC.Shah AA, Tangirala R, Singh R, Wills RG.agus cill dhinimiciúla Walsh FK Model de cheallraí sreafa redox uile-vanaidiam.J. Leictriceimic.Páirtí Sóisialach.158(6), A671.https://doi.org/10.1149/1.3561426 (2011).
Gandomi, YA, Aaron, DS, Zawodzinski, TA & Mench, MM Tomhas dáileadh féideartha in situ agus múnla bailíochtaithe do cheallraí sreafa redox uile-vanadium. Gandomi, YA, Aaron, DS, Zawodzinski, TA & Mench, MM Tomhas dáileadh féideartha in situ agus múnla bailíochtaithe do cheallraí sreafa redox uile-vanadium.Gandomi, Yu.A., Aaron, DS, Zavodzinski, TA agus Mench, MM Tomhas dáileadh féideartha in-situ agus múnla bailíochtaithe d'acmhainneacht redox ceallraí sreabhadh uile-vanadium. Gandomi, YA, Aaron, DS, Zawodzinski, TA & Mench, MM 全钒氧化还原液流电池的原位电位分布测量和验证〡 Gandomi, YA, Aaron, DS, Zawodzinski, TA & Mench, MM.Samhail tomhais agus bailíochtaithe de dháileadh féideartha 全vanadium oxidase redox液流液的原位.Gandomi, Yu.A., Aaron, DS, Zavodzinski, TA agus Mench, MM Samhail a thomhas agus a fhíorú dáileadh féideartha in-situ do chadhnraí redox sreabhadh uile-vanadium.J. Leictriceimic.Páirtí Sóisialach.163(1), A5188-A5201.https://doi.org/10.1149/2.0211601jes (2016).
Tsushima, S. & Suzuki, T. Samhaltú agus ionsamhlú ceallraí sreafa redox vanadium le réimse sreafa idirdigiteach chun ailtireacht leictreoid a bharrfheabhsú. Tsushima, S. & Suzuki, T. Samhaltú agus ionsamhlú ceallraí sreafa redox vanadium le réimse sreafa idirdigiteach chun ailtireacht leictreoid a bharrfheabhsú.Tsushima, S. agus Suzuki, T. Samhaltú agus ionsamhladh ar chadhnra redox vanadium sreafa trí shreabhadh frithpholaraithe chun ailtireacht leictreoid a bharrfheabhsú. Tsushima, S. & Suzuki, T. Tsushima, S. & Suzuki, T. 叉指流场的叉指流场的 Vanadium Ocsaíd Laghdú Sruthán Leacht Battery 的 Samhaltú agus Insamhladh le haghaidh Struchtúr Leictreoidí a bharrfheabhsú.Tsushima, S. agus Suzuki, T. Samhaltú agus ionsamhlú cadhnraí sreafa vanadium redox le réimsí sreabhadh frith-bioráin chun struchtúr leictreoid a bharrfheabhsú.J. Leictriceimic.Páirtí Sóisialach.167(2), 020553. https://doi.org/10.1149/1945-7111/ab6dd0 (2020).
Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. Modhnú na n-ábhar leictreoidí graifíte le haghaidh feidhmchlár ceallraí sreafa redox vanadium-I. Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. Modhnú na n-ábhar leictreoidí graifíte le haghaidh feidhmchlár ceallraí sreafa redox vanadium-I.Sun, B. agus Scyllas-Kazakos, M. Modhnú na n-ábhar leictreoidí graifíte le haghaidh cadhnraí ocsaí vanadium – I. Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. 石墨电极材料在钒氧化还原液流电池应用中的改性——I。 Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. Modhnú ar 石墨 ábhair leictreoid i bhfeidhmchlár ceallraí leachtaigh ocsaídiúcháin vanadium ——I.Sun, B. agus Scyllas-Kazakos, M. Modhnú ar ábhair leictreoidí graifíte le húsáid i gcadhnraí ocsaí vanadium – I.Cóireáil teasa Leictreamaí.Gníomh 37(7), 1253-1260.https://doi.org/10.1016/0013-4686(92)85064-R (1992).
Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. Dul chun cinn ar na hábhair leictreoid i dtreo cadhnraí sreabhadh vanadium (VFBanna) le dlús cumhachta feabhsaithe. Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. Dul chun cinn ar na hábhair leictreoid i dtreo cadhnraí sreabhadh vanadium (VFBanna) le dlús cumhachta feabhsaithe.Liu, T., Li, X., Zhang, H. agus Chen, J. Dul chun cinn in ábhair leictreoid go cadhnraí sreabhadh vanadium (VFB) le dlús cumhachta feabhsaithe. Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. 提高功率密度的钒液流电池(VFB) 电极材料的进展。 Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J.Liu, T., Li, S., Zhang, H. agus Chen, J. Dul Chun Cinn in Ábhair Leictreoid do Cadhnraí Sreabhadh Vanadium Redox (VFB) le Dlús Cumhachta Méadaithe.J. Ceimic Fuinnimh.27(5), 1292-1303.https://doi.org/10.1016/j.jechem.2018.07.003 (2018).
Dúirt Liu, QH et al.Cille sreabhadh redox vanadium ardéifeachtúlachta le cumraíocht leictreoid optamaithe agus roghnú membrane.J. Leictriceimic.Páirtí Sóisialach.159(8), A1246-A1252.https://doi.org/10.1149/2.051208jes (2012).
Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Mhothaigh Carbóin tacaithe nanafeadáin charbóin catalaíoch leictreoid ilchodach le haghaidh iarratas ceallraí sreabhadh vanadium redox. Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Mhothaigh Carbóin tacaithe nanafeadáin charbóin catalaíoch leictreoid ilchodach le haghaidh iarratas ceallraí sreabhadh vanadium redox.Wei, G., Jia, Q., Liu, J. agus Yang, K. Catalaíoch leictreoid ilchodach bunaithe ar nanafeadáin charbóin le substráit bhraith carbóin le húsáid i gceallraí vanadium redox. Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Leictreoid ilchodach catalaíoch nanafeadáin charbóin bhraith-luchtaithe le haghaidh ocsaídiúcháin vanadium feidhmchlár ceallraí sreabhadh leachtach a laghdú.Wei, G., Jia, Q., Liu, J. agus Yang, K. Leictreoid ilchodach de chatalaíoch nanafeadáin charbóin le tsubstráit bhraith carbóin le cur i bhfeidhm i gcadhnraí ródhosca vanadium.J. Cumhacht.220, 185–192.https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2012.07.081 (2012).
Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. Éifeacht sulfáit biosmat atá brataithe ar CNT aigéadaithe ar fheidhmíocht ceallraí sreafa vanadium redox. Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. Éifeacht sulfáit biosmat atá brataithe ar CNT aigéadaithe ar fheidhmíocht ceallraí sreafa vanadium redox.Moon, S., Kwon, BW, Chang, Y. agus Kwon, Y. Tionchar sulfáit biosmat a thaisceadh ar CNTanna ocsaídithe ar shaintréithe ceallraí redox vanadium atá ag sreabhadh tríd. Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. 涂在酸化CNT上的硫酸铋对钒氧化还原液流电池性能的倱倱 Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. Éifeacht sulfáit biosmat ar ocsaídiú CNT ar ocsaídiú vanadium feidhmíocht ceallraí sreabhadh leachtach a laghdú.Moon, S., Kwon, BW, Chang, Y. agus Kwon, Y. Tionchar sulfáit biosmat a thaisceadh ar CNTanna ocsaídithe ar shaintréithe na gcadhnraí redox vanadium atá ag sreabhadh trí.J. Leictriceimic.Páirtí Sóisialach.166(12), A2602.https://doi.org/10.1149/2.1181912jes (2019).
Huang R.-H.Nanafeadáin Charbóin Pt/Ilshraith Leictreoidí Gníomhacha Athraithe le haghaidh Cadhnraí Sreabhadh Vanaidiam Redox.J. Leictriceimic.Páirtí Sóisialach.159(10), A1579.https://doi.org/10.1149/2.003210jes (2012).
Kahn, S. et al.Úsáideann cadhnraí sreafa vanadium redox electrocatalyst atá maisithe le nanaifeadáin charbóin dópáilte nítrigine a dhíorthaítear ó scafaill orgániotalacha.J. Leictriceimic.Páirtí Sóisialach.165(7), A1388.https://doi.org/10.1149/2.0621807jes (2018).
Khan, P. et al.Feidhmíonn nanaibhileoga ocsaíd graphene mar ábhair ghníomhacha leictricheimiceach den scoth do lánúineacha redox VO2+/ agus V2+/V3+ i gcadhnraí sreafa ródhoc vanadium.Carbón 49(2), 693–700.https://doi.org/10.1016/j.carbon.2010.10.022 (2011).
Gonzalez Z. et al.Feidhmíocht leictriceimiceach den scoth de graifít arna mhodhnú le graphene le haghaidh feidhmeanna ceallraí vanadium redox.J. Cumhacht.338, 155-162.https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2016.10.069 (2017).
González, Z., Vizireanu, S., Dinescu, G., Blanco, C. & Santamaría, R. Carbóin nanowalls scannáin tanaí mar ábhair leictreoid nanostructured i gcadhnraí sreafa vanadium redox. González, Z., Vizireanu, S., Dinescu, G., Blanco, C. & Santamaría, R. Carbóin nanowalls scannáin tanaí mar ábhair leictreoid nanostructured i gcadhnraí sreafa vanadium redox.González Z., Vizirianu S., Dinescu G., Blanco C. agus Santamaria R. Scannáin tanaí de nanowalls carbóin mar ábhair leictreoid nanostructured i gcadhnraí sreafa vanadium redox.González Z., Vizirianu S., Dinescu G., Blanco S. agus Santamaria R. Scannáin nanowall carbóin mar ábhair leictreoid nanostructured i gcadhnraí sreabhadh vanadium redox.Nanafhuinneamh 1(6), 833–839.https://doi.org/10.1016/j.nanoen.2012.07.003 (2012).
Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. Bhraith carbóin tríthoiseach mesoporous graphene-mhodhnaithe le haghaidh cadhnraí ardfheidhmíochta vanadium sreafa redox. Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. Bhraith carbóin tríthoiseach mesoporous graphene-mhodhnaithe le haghaidh cadhnraí ardfheidhmíochta vanadium sreafa redox.Opar DO, Nankya R., Lee J., agus Yung H. Bhraith carbóin mesoporous tríthoiseach graphene-mhodhnaithe le haghaidh cadhnraí ardfheidhmíochta vanadium sreafa redox. Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H.Opar DO, Nankya R., Lee J., agus Yung H. Bhraith carbóin mesoporous tríthoiseach graphene-mhodhnaithe le haghaidh cadhnraí ardfheidhmíochta vanadium sreafa redox.Leictricheimic.Acht 330, 135276. https://doi.org/10.1016/j.electacta.2019.135276 (2020).