Nature.com ಗೆ ಭೇಟಿ ನೀಡಿದ್ದಕ್ಕಾಗಿ ಧನ್ಯವಾದಗಳು.ನೀವು ಬಳಸುತ್ತಿರುವ ಬ್ರೌಸರ್ ಆವೃತ್ತಿಯು ಸೀಮಿತ CSS ಬೆಂಬಲವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.ಉತ್ತಮ ಅನುಭವಕ್ಕಾಗಿ, ನೀವು ನವೀಕರಿಸಿದ ಬ್ರೌಸರ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಲು ನಾವು ಶಿಫಾರಸು ಮಾಡುತ್ತೇವೆ (ಅಥವಾ ಇಂಟರ್ನೆಟ್ ಎಕ್ಸ್‌ಪ್ಲೋರರ್‌ನಲ್ಲಿ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ ಮೋಡ್ ಅನ್ನು ನಿಷ್ಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸಿ).ಈ ಮಧ್ಯೆ, ನಿರಂತರ ಬೆಂಬಲವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು, ನಾವು ಶೈಲಿಗಳು ಮತ್ತು ಜಾವಾಸ್ಕ್ರಿಪ್ಟ್ ಇಲ್ಲದೆ ಸೈಟ್ ಅನ್ನು ರೆಂಡರ್ ಮಾಡುತ್ತೇವೆ.
ಒಂದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಮೂರು ಸ್ಲೈಡ್‌ಗಳನ್ನು ತೋರಿಸುವ ಏರಿಳಿಕೆ.ಒಂದು ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಮೂರು ಸ್ಲೈಡ್‌ಗಳ ಮೂಲಕ ಚಲಿಸಲು ಹಿಂದಿನ ಮತ್ತು ಮುಂದಿನ ಬಟನ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸಿ ಅಥವಾ ಒಂದು ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಮೂರು ಸ್ಲೈಡ್‌ಗಳ ಮೂಲಕ ಚಲಿಸಲು ಕೊನೆಯಲ್ಲಿ ಸ್ಲೈಡರ್ ಬಟನ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸಿ.
ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ-ಥ್ರೂ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳ (VRFBs) ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ವೆಚ್ಚವು ಅವುಗಳ ವ್ಯಾಪಕ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಮಿತಿಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.VRFB ಯ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ VRFB ಯ kWh ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.ಈ ಕೆಲಸದಲ್ಲಿ, ಜಲೋಷ್ಣೀಯವಾಗಿ ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ಹೈಡ್ರೀಕರಿಸಿದ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (HWO) ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್‌ಗಳು, C76 ಮತ್ತು C76/HWO, ಇಂಗಾಲದ ಬಟ್ಟೆಯ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಮೇಲೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲ್ಪಟ್ಟವು ಮತ್ತು VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕ್ಯಾಟಲಿಸ್ಟ್‌ಗಳಾಗಿ ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು.ಫೀಲ್ಡ್ ಎಮಿಷನ್ ಸ್ಕ್ಯಾನಿಂಗ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಮೈಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (FESEM), ಎನರ್ಜಿ ಡಿಸ್ಪರ್ಸಿವ್ ಎಕ್ಸ್-ರೇ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (EDX), ಹೈ-ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಟ್ರಾನ್ಸ್‌ಮಿಷನ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಮೈಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (HR-TEM), ಎಕ್ಸ್-ರೇ ಡಿಫ್ರಾಕ್ಷನ್ (XRD), ಎಕ್ಸ್-ರೇ ಫೋಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (XPS), ಇನ್ಫ್ರಾರೆಡ್ ಮಾಪನ ಫೋರಿಯರ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ ಮತ್ತು (FIRTIR ಮಾರ್ಪಾಡುಗಳು)HWO ಗೆ C76 ಫುಲ್ಲರೀನ್‌ಗಳ ಸೇರ್ಪಡೆಯು ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಮೂಲಕ ಮತ್ತು ಅದರ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕೃತ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸುವ ಮೂಲಕ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸುತ್ತದೆ.HWO/C76 ಸಂಯೋಜನೆಯು (50 wt% C76) VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗೆ 176 mV ಯ ΔEp ಯೊಂದಿಗೆ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಆಯ್ಕೆಯಾಗಿದೆ ಎಂದು ಸಾಬೀತಾಯಿತು, ಆದರೆ ಸಂಸ್ಕರಿಸದ ಕಾರ್ಬನ್ ಬಟ್ಟೆ (UCC) 365 mV ಆಗಿತ್ತು.ಜೊತೆಗೆ, HWO/C76 ಸಂಯೋಜನೆಯು W-OH ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪಿನಿಂದಾಗಿ ಪರಾವಲಂಬಿ ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಾಸದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮೇಲೆ ಗಮನಾರ್ಹ ಪ್ರತಿಬಂಧಕ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ.
ತೀವ್ರವಾದ ಮಾನವ ಚಟುವಟಿಕೆ ಮತ್ತು ಕ್ಷಿಪ್ರ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಕ್ರಾಂತಿಯು ವಿದ್ಯುತ್‌ಗೆ ತಡೆಯಲಾಗದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಬೇಡಿಕೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ, ಇದು ವರ್ಷಕ್ಕೆ ಸುಮಾರು 3% ರಷ್ಟು ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿದೆ1.ದಶಕಗಳಿಂದ, ಶಕ್ತಿಯ ಮೂಲವಾಗಿ ಪಳೆಯುಳಿಕೆ ಇಂಧನಗಳ ವ್ಯಾಪಕ ಬಳಕೆಯು ಹಸಿರುಮನೆ ಅನಿಲ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ, ಇದು ಜಾಗತಿಕ ತಾಪಮಾನ, ನೀರು ಮತ್ತು ವಾಯು ಮಾಲಿನ್ಯಕ್ಕೆ ಕೊಡುಗೆ ನೀಡುತ್ತದೆ, ಇಡೀ ಪರಿಸರ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಿಗೆ ಬೆದರಿಕೆ ಹಾಕುತ್ತದೆ.ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ, ಶುದ್ಧ ಮತ್ತು ನವೀಕರಿಸಬಹುದಾದ ಗಾಳಿ ಮತ್ತು ಸೌರ ಶಕ್ತಿಯ ಒಳಹೊಕ್ಕು 20501 ರ ವೇಳೆಗೆ ಒಟ್ಟು ವಿದ್ಯುಚ್ಛಕ್ತಿಯ 75% ಅನ್ನು ತಲುಪುವ ನಿರೀಕ್ಷೆಯಿದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ನವೀಕರಿಸಬಹುದಾದ ಮೂಲಗಳಿಂದ ವಿದ್ಯುಚ್ಛಕ್ತಿಯ ಪಾಲು ಒಟ್ಟು ವಿದ್ಯುತ್ ಉತ್ಪಾದನೆಯ 20% ಅನ್ನು ಮೀರಿದಾಗ, ಗ್ರಿಡ್ ಅಸ್ಥಿರವಾಗುತ್ತದೆ.
ಹೈಬ್ರಿಡ್ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿ2 ನಂತಹ ಎಲ್ಲಾ ಶಕ್ತಿ ಶೇಖರಣಾ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಲ್ಲಿ, ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿ (VRFB) ಅದರ ಅನೇಕ ಅನುಕೂಲಗಳಿಂದಾಗಿ ಅತ್ಯಂತ ವೇಗವಾಗಿ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೊಂಡಿದೆ ಮತ್ತು ದೀರ್ಘಾವಧಿಯ ಶಕ್ತಿಯ ಸಂಗ್ರಹಣೆಗೆ (ಸುಮಾರು 30 ವರ್ಷಗಳು) ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಪರಿಹಾರವೆಂದು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗಿದೆ.) ನವೀಕರಿಸಬಹುದಾದ ಶಕ್ತಿಯೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜನೆಯಲ್ಲಿ ಆಯ್ಕೆಗಳು 4.ಇದು ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ಬೇರ್ಪಡಿಕೆ, ವೇಗದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ, ದೀರ್ಘ ಸೇವಾ ಜೀವನ ಮತ್ತು $65/kWh ನ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ವಾರ್ಷಿಕ ವೆಚ್ಚ $93-140/kWh ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ Li-ion ಮತ್ತು ಲೆಡ್-ಆಸಿಡ್ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರತಿ kWh ಗೆ 279-420 US ಡಾಲರ್‌ಗಳು.ಕ್ರಮವಾಗಿ ಬ್ಯಾಟರಿ 4.
ಆದಾಗ್ಯೂ, ಅವುಗಳ ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರಮಾಣದ ವಾಣಿಜ್ಯೀಕರಣವು ಇನ್ನೂ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಿಸ್ಟಂ ಬಂಡವಾಳದ ವೆಚ್ಚಗಳಿಂದ ನಿರ್ಬಂಧಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ, ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಸೆಲ್ ಸ್ಟಾಕ್‌ಗಳ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ 4,5.ಹೀಗಾಗಿ, ಎರಡು ಅರ್ಧ-ಅಂಶ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಮೂಲಕ ಸ್ಟಾಕ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವುದು ಸ್ಟಾಕ್ ಗಾತ್ರವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೀಗಾಗಿ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ವೇಗದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆಯು ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ, ಇದು ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ನ ವಿನ್ಯಾಸ, ಸಂಯೋಜನೆ ಮತ್ತು ರಚನೆಯನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಎಚ್ಚರಿಕೆಯಿಂದ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ.ಉತ್ತಮ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಬನ್ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಉತ್ತಮ ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆಯ ಹೊರತಾಗಿಯೂ, ಆಮ್ಲಜನಕದ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳು ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಫಿಲಿಸಿಟಿಯ ಅನುಪಸ್ಥಿತಿಯಿಂದಾಗಿ ಅವುಗಳ ಸಂಸ್ಕರಿಸದ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವು ನಿಧಾನವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ವಿವಿಧ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕ್ಯಾಟಲಿಸ್ಟ್‌ಗಳನ್ನು ಕಾರ್ಬನ್-ಆಧಾರಿತ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಕಾರ್ಬನ್ ನ್ಯಾನೊಸ್ಟ್ರಕ್ಚರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳು, ಎರಡೂ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು, ಇದರಿಂದಾಗಿ VRFB ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ.
C76 ನಲ್ಲಿನ ನಮ್ಮ ಹಿಂದಿನ ಕೆಲಸದ ಜೊತೆಗೆ, VO2+/VO2+ ಗಾಗಿ ಈ ಫುಲ್ಲರೀನ್‌ನ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕ್ಯಾಟಲಿಟಿಕ್ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ನಾವು ಮೊದಲು ವರದಿ ಮಾಡಿದ್ದೇವೆ, ಶಾಖ-ಸಂಸ್ಕರಿಸಿದ ಮತ್ತು ಸಂಸ್ಕರಿಸದ ಕಾರ್ಬನ್ ಬಟ್ಟೆಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಚಾರ್ಜ್ ವರ್ಗಾವಣೆ.ಪ್ರತಿರೋಧವು 99.5% ಮತ್ತು 97% ರಷ್ಟು ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ.C76 ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ ಕಾರ್ಬನ್ ವಸ್ತುಗಳ ವೇಗವರ್ಧಕ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಟೇಬಲ್ S1 ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.ಮತ್ತೊಂದೆಡೆ, CeO225, ZrO226, MoO327, NiO28, SnO229, Cr2O330 ಮತ್ತು WO331, 32, 33, 34, 35, 36, 37 ನಂತಹ ಅನೇಕ ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳನ್ನು ಅವುಗಳ ಹೆಚ್ಚಿದ ಆರ್ದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಹೇರಳವಾದ ಆಮ್ಲಜನಕದ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕತೆಯಿಂದಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ., 38. ಗುಂಪು.VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಈ ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳ ವೇಗವರ್ಧಕ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ಟೇಬಲ್ S2 ನಲ್ಲಿ ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ.ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚ, ಆಮ್ಲೀಯ ಮಾಧ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ವೇಗವರ್ಧಕ ಚಟುವಟಿಕೆ31,32,33,34,35,36,37,38 ಕಾರಣದಿಂದ WO3 ಗಮನಾರ್ಹ ಸಂಖ್ಯೆಯ ಕೆಲಸಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, WO3 ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರದಲ್ಲಿನ ಸುಧಾರಣೆಯು ಅತ್ಯಲ್ಪವಾಗಿದೆ.WO3 ನ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು, ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಚಟುವಟಿಕೆಯ ಮೇಲೆ ಕಡಿಮೆಯಾದ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (W18O49) ಅನ್ನು ಬಳಸುವ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು38.ಹೈಡ್ರೀಕರಿಸಿದ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (HWO) ಅನ್ನು VRFB ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಎಂದಿಗೂ ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಗಿಲ್ಲ, ಆದರೂ ಇದು ಜಲರಹಿತ WOx39,40 ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ವೇಗವಾದ ಕ್ಯಾಷನ್ ಪ್ರಸರಣದಿಂದಾಗಿ ಸೂಪರ್‌ಕೆಪಾಸಿಟರ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ.ಮೂರನೇ ತಲೆಮಾರಿನ ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯು ಬ್ಯಾಟರಿ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಲೈಟ್‌ನಲ್ಲಿನ ವನಾಡಿಯಮ್ ಅಯಾನುಗಳ ಕರಗುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು HCl ಮತ್ತು H2SO4 ರ ಸಂಯೋಜನೆಯ ಮಿಶ್ರ ಆಮ್ಲ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಲೈಟ್ ಅನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಪರಾವಲಂಬಿ ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಸನ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯು ಮೂರನೇ ಪೀಳಿಗೆಯ ಅನಾನುಕೂಲಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಕ್ಲೋರಿನ್ ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ತಡೆಯುವ ಮಾರ್ಗಗಳ ಹುಡುಕಾಟವು ಹಲವಾರು ಸಂಶೋಧನಾ ಗುಂಪುಗಳ ಕೇಂದ್ರಬಿಂದುವಾಗಿದೆ.
ಇಲ್ಲಿ, ಪರಾವಲಂಬಿ ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಾಸವನ್ನು ನಿಗ್ರಹಿಸುವಾಗ ಸಂಯೋಜನೆಗಳ ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಮೇಲ್ಮೈಯ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರದ ನಡುವಿನ ಸಮತೋಲನವನ್ನು ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲು ಇಂಗಾಲದ ಬಟ್ಟೆಯ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಮೇಲೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾದ HWO/C76 ಸಂಯೋಜನೆಗಳ ಮೇಲೆ VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳನ್ನು ನಡೆಸಲಾಯಿತು.ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ (ಸಿಇಆರ್).ಹೈಡ್ರೀಕರಿಸಿದ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (HWO) ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್‌ಗಳನ್ನು ಸರಳ ಜಲವಿದ್ಯುತ್ ವಿಧಾನದಿಂದ ಸಂಶ್ಲೇಷಿಸಲಾಗಿದೆ.ಪ್ರಾಯೋಗಿಕತೆಗಾಗಿ ಮೂರನೇ ತಲೆಮಾರಿನ VRFB (G3) ಅನ್ನು ಅನುಕರಿಸಲು ಮತ್ತು ಪರಾವಲಂಬಿ ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಸನ ಕ್ರಿಯೆಯ ಮೇಲೆ HWO ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ತನಿಖೆ ಮಾಡಲು ಮಿಶ್ರ ಆಮ್ಲ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಲೈಟ್ (H2SO4/HCl) ನಲ್ಲಿ ಪ್ರಯೋಗಗಳನ್ನು ನಡೆಸಲಾಯಿತು.
ವನಾಡಿಯಮ್ (IV) ಸಲ್ಫೇಟ್ ಹೈಡ್ರೇಟ್ (VOSO4, 99.9%, ಆಲ್ಫಾ-ಈಸರ್), ಸಲ್ಫ್ಯೂರಿಕ್ ಆಮ್ಲ (H2SO4), ಹೈಡ್ರೋಕ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲ (HCl), ಡೈಮಿಥೈಲ್ಫಾರ್ಮಮೈಡ್ (DMF, ಸಿಗ್ಮಾ-ಆಲ್ಡ್ರಿಚ್), ಪಾಲಿವಿನೈಲಿಡಿನ್ ಫ್ಲೋರೈಡ್ (PVDF, ಸಿಗ್ಮಾ), ಸೋಡಾಕ್ಸಿಯಮ್ 2NDrichma) 9%, ಸಿಗ್ಮಾ-ಆಲ್ಡ್ರಿಚ್) ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಫಿಲಿಕ್ ಕಾರ್ಬನ್ ಬಟ್ಟೆ ELAT (ಇಂಧನ ಕೋಶದ ಅಂಗಡಿ) ಅನ್ನು ಈ ಅಧ್ಯಯನದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ.
ಹೈಡ್ರೀಕರಿಸಿದ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (HWO) ಅನ್ನು ಜಲೋಷ್ಣೀಯ ಕ್ರಿಯೆ 43 ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ 2 ಗ್ರಾಂ Na2WO4 ಉಪ್ಪನ್ನು 12 ಮಿಲಿ H2O ನಲ್ಲಿ ಕರಗಿಸಿ ಬಣ್ಣರಹಿತ ದ್ರಾವಣವನ್ನು ನೀಡಲಾಯಿತು, ನಂತರ 2 M HCl ಯ 12 ಮಿಲಿ ತೆಳು ಹಳದಿ ಅಮಾನತು ನೀಡಲು ಡ್ರಾಪ್‌ವೈಸ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಲಾಯಿತು.ಸ್ಲರಿಯನ್ನು ಟೆಫ್ಲಾನ್ ಲೇಪಿತ ಸ್ಟೇನ್‌ಲೆಸ್ ಸ್ಟೀಲ್ ಆಟೋಕ್ಲೇವ್‌ನಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಜಲೋಷ್ಣೀಯ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ 3 ಗಂಟೆಗಳ ಕಾಲ 180 ° C. ನಲ್ಲಿ ಒಲೆಯಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಯಿತು.ಶೇಷವನ್ನು ಶೋಧನೆಯ ಮೂಲಕ ಸಂಗ್ರಹಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಎಥೆನಾಲ್ ಮತ್ತು ನೀರಿನಿಂದ 3 ಬಾರಿ ತೊಳೆದು, 70 ° C ನಲ್ಲಿ ~ 3 ಗಂಟೆಗಳ ಕಾಲ ಒಲೆಯಲ್ಲಿ ಒಣಗಿಸಿ, ನಂತರ ನೀಲಿ-ಬೂದು HWO ಪುಡಿಯನ್ನು ನೀಡಲು ಟ್ರಿಟ್ಯೂರೇಟ್ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ.
ಸಂಸ್ಕರಿಸಿದ CCಗಳನ್ನು (TCC) ಪಡೆಯಲು 10 ಗಂಟೆಗಳ ಕಾಲ 15 ºC/ನಿಮಿಷದ ತಾಪನ ದರದೊಂದಿಗೆ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ 450 ° C ನಲ್ಲಿ ಟ್ಯೂಬ್ ಕುಲುಮೆಯಲ್ಲಿ ಸಂಸ್ಕರಿಸಿದ (ಸಿಸಿಟಿ) ಇಂಗಾಲದ ಬಟ್ಟೆಯ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳನ್ನು (CCT) ಹಾಗೆಯೇ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಹಿಂದಿನ ಲೇಖನ 24 ರಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಿದಂತೆ.UCC ಮತ್ತು TCC ಯನ್ನು ಸರಿಸುಮಾರು 1.5 cm ಅಗಲ ಮತ್ತು 7 cm ಉದ್ದದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳಾಗಿ ಕತ್ತರಿಸಲಾಯಿತು.C76, HWO, HWO-10% C76, HWO-30% C76 ಮತ್ತು HWO-50% C76 ನ ಅಮಾನತುಗಳನ್ನು PVDF ಬೈಂಡರ್‌ನ 20 mg .% (~2.22 mg) ಅನ್ನು ~1 ml DMF ಗೆ ಸೇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು 1 ಗಂಟೆಯವರೆಗೆ sonicated.2 ಮಿಗ್ರಾಂ C76, HWO ಮತ್ತು HWO-C76 ಸಂಯೋಜನೆಗಳನ್ನು ಅನುಕ್ರಮವಾಗಿ UCC ಸಕ್ರಿಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಪ್ರದೇಶಕ್ಕೆ ಸುಮಾರು 1.5 cm2 ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗಿದೆ.ಎಲ್ಲಾ ವೇಗವರ್ಧಕಗಳನ್ನು UCC ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಮೇಲೆ ಲೋಡ್ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು TCC ಅನ್ನು ಹೋಲಿಕೆ ಉದ್ದೇಶಗಳಿಗಾಗಿ ಮಾತ್ರ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ನಮ್ಮ ಹಿಂದಿನ ಕೆಲಸವು ಶಾಖ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ ಎಂದು ತೋರಿಸಿದೆ24.ಹೆಚ್ಚು ಸಮ ಪರಿಣಾಮಕ್ಕಾಗಿ 100 µl ಅಮಾನತು (ಲೋಡ್ 2 mg) ಅನ್ನು ಹಲ್ಲುಜ್ಜುವ ಮೂಲಕ ಇಂಪ್ರೆಷನ್ ಸೆಟ್ಲಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಸಾಧಿಸಲಾಗಿದೆ.ನಂತರ ಎಲ್ಲಾ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳನ್ನು ರಾತ್ರಿಯಲ್ಲಿ 60 ° C. ನಲ್ಲಿ ಒಲೆಯಲ್ಲಿ ಒಣಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ನಿಖರವಾದ ಸ್ಟಾಕ್ ಲೋಡಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳನ್ನು ಮುಂದಕ್ಕೆ ಮತ್ತು ಹಿಂದಕ್ಕೆ ಅಳೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ.ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಜ್ಯಾಮಿತೀಯ ಪ್ರದೇಶವನ್ನು (~1.5 cm2) ಹೊಂದಲು ಮತ್ತು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ಪರಿಣಾಮದಿಂದಾಗಿ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಕ್ಕೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ವಿದ್ಯುದ್ವಿಚ್ಛೇದ್ಯದ ಏರಿಕೆಯನ್ನು ತಡೆಯಲು, ಸಕ್ರಿಯ ವಸ್ತುವಿನ ಮೇಲೆ ಪ್ಯಾರಾಫಿನ್ನ ತೆಳುವಾದ ಪದರವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗಿದೆ.
ಫೀಲ್ಡ್ ಎಮಿಷನ್ ಸ್ಕ್ಯಾನಿಂಗ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಮೈಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (FESEM, Zeiss SEM ಅಲ್ಟ್ರಾ 60, 5 kV) ಅನ್ನು HWO ಮೇಲ್ಮೈ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು ವೀಕ್ಷಿಸಲು ಬಳಸಲಾಯಿತು.UCC ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಮೇಲೆ HWO-50%C76 ಅಂಶಗಳನ್ನು ನಕ್ಷೆ ಮಾಡಲು Feii8SEM (EDX, Zeiss Inc.) ಹೊಂದಿದ ಶಕ್ತಿ ಪ್ರಸರಣ X-ರೇ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಮೀಟರ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ.200 kV ವೇಗವರ್ಧಕ ವೋಲ್ಟೇಜ್‌ನಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಹೆಚ್ಚಿನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಟ್ರಾನ್ಸ್‌ಮಿಷನ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಮೈಕ್ರೋಸ್ಕೋಪ್ (HR-TEM, JOEL JEM-2100) ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ HWO ಕಣಗಳು ಮತ್ತು ವಿವರ್ತನೆ ಉಂಗುರಗಳನ್ನು ಚಿತ್ರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಕ್ರಿಸ್ಟಲೋಗ್ರಫಿ ಟೂಲ್‌ಬಾಕ್ಸ್ (CrysTBox) ಸಾಫ್ಟ್‌ವೇರ್ HWO ರಿಂಗ್ ಡಿಫ್ರಾಕ್ಷನ್ ಮಾದರಿಯನ್ನು ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಲು ಮತ್ತು XRD ಮಾದರಿಯೊಂದಿಗೆ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಹೋಲಿಸಲು ringGUI ಕಾರ್ಯವನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ.UCC ಮತ್ತು TCC ಯ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಗ್ರಾಫಿಟೈಸೇಶನ್ ಅನ್ನು ಎಕ್ಸ್-ರೇ ಡಿಫ್ರಾಕ್ಷನ್ (XRD) ಮೂಲಕ 2.4°/ನಿಮಿಷದ ಸ್ಕ್ಯಾನ್ ದರದಲ್ಲಿ 5° ರಿಂದ 70° ವರೆಗೆ Cu Kα (λ = 1.54060 Å) ಜೊತೆಗೆ ಪ್ಯಾನಾಲಿಟಿಕಲ್ ಎಕ್ಸ್-ರೇ ಡಿಫ್ರಾಕ್ಟೋಮೀಟರ್ (ಮಾದರಿ 3600) ಬಳಸಿ ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಲಾಗಿದೆ.XRD HWO ನ ಸ್ಫಟಿಕ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಹಂತವನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ.ಡೇಟಾಬೇಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ನಕ್ಷೆಗಳಿಗೆ HWO ಶಿಖರಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿಸಲು PANalytical X'Pert HighScore ಸಾಫ್ಟ್‌ವೇರ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ45.HWO ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು TEM ಫಲಿತಾಂಶಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಲಾಗಿದೆ.HWO ಮಾದರಿಗಳ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂಯೋಜನೆ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ಎಕ್ಸ್-ರೇ ಫೋಟೊಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (XPS, ESCALAB 250Xi, ಥರ್ಮೋಸೈಂಟಿಫಿಕ್) ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ.CASA-XPS ಸಾಫ್ಟ್‌ವೇರ್ (v 2.3.15) ಅನ್ನು ಪೀಕ್ ಡಿಕಾನ್ವಲ್ಯೂಷನ್ ಮತ್ತು ಡೇಟಾ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಗಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ.HWO ಮತ್ತು HWO-50%C76 ನ ಮೇಲ್ಮೈ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲು, ಫೋರಿಯರ್ ಟ್ರಾನ್ಸ್‌ಫಾರ್ಮ್ ಇನ್‌ಫ್ರಾರೆಡ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (FTIR, ಪರ್ಕಿನ್ ಎಲ್ಮರ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಮೀಟರ್, KBr FTIR ಬಳಸಿ) ಬಳಸಿ ಮಾಪನಗಳನ್ನು ಮಾಡಲಾಯಿತು.ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು XPS ಫಲಿತಾಂಶಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಲಾಗಿದೆ.ಸಂಪರ್ಕ ಕೋನ ಮಾಪನಗಳನ್ನು (KRUSS DSA25) ಸಹ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ತೇವವನ್ನು ನಿರೂಪಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ.
ಎಲ್ಲಾ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಅಳತೆಗಳಿಗಾಗಿ, ಜೈವಿಕ SP 300 ಕಾರ್ಯಸ್ಥಳವನ್ನು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ.VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರ ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ದರದ ಮೇಲೆ ಕಾರಕ ಪ್ರಸರಣದ (VOSO4(VO2+)) ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲು ಸೈಕ್ಲಿಕ್ ವೋಲ್ಟಮೆಟ್ರಿ (CV) ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಇಂಪೆಡೆನ್ಸ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (EIS) ಅನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಎರಡೂ ವಿಧಾನಗಳು 1 M H2SO4 + 1 M HCl (ಆಮ್ಲಗಳ ಮಿಶ್ರಣ) ನಲ್ಲಿ 0.1 M VOSO4 (V4+) ನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಲೈಟ್ ಸಾಂದ್ರತೆಯೊಂದಿಗೆ ಮೂರು-ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಕೋಶವನ್ನು ಬಳಸಿದವು.ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಿದ ಎಲ್ಲಾ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಡೇಟಾವನ್ನು ಐಆರ್ ಸರಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ.ಸ್ಯಾಚುರೇಟೆಡ್ ಕ್ಯಾಲೊಮೆಲ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ (SCE) ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಟಿನಮ್ (Pt) ಕಾಯಿಲ್ ಅನ್ನು ಕ್ರಮವಾಗಿ ಉಲ್ಲೇಖ ಮತ್ತು ಕೌಂಟರ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಆಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.CV ಗಾಗಿ, ಸ್ಕ್ಯಾನ್ ದರಗಳು (ν) 5, 20, ಮತ್ತು 50 mV/s ಅನ್ನು VO2+/VO2+ ಸಂಭಾವ್ಯ ವಿಂಡೋಗೆ (0–1) V vs. SCE ಗಾಗಿ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗಿದೆ, ನಂತರ SHE ಗಾಗಿ ಪ್ಲ್ಯಾಟ್ ಮಾಡಲು (VSCE = 0.242 V vs. HSE) ಹೊಂದಿಸಲಾಗಿದೆ.ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಚಟುವಟಿಕೆಯ ಧಾರಣವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲು, UCC, TCC, UCC-C76, UCC-HWO, ಮತ್ತು UCC-HWO-50% C76 ಗಾಗಿ ν 5 mV/s ನಲ್ಲಿ ಪುನರಾವರ್ತಿತ ಸೈಕ್ಲಿಕ್ CV ಗಳನ್ನು ನಡೆಸಲಾಯಿತು.EIS ಮಾಪನಗಳಿಗಾಗಿ, VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಆವರ್ತನ ಶ್ರೇಣಿಯು 0.01-105 Hz, ಮತ್ತು ಓಪನ್-ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ವೋಲ್ಟೇಜ್ (OCV) ನಲ್ಲಿ ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಪರ್ಟರ್ಬೇಷನ್ 10 mV ಆಗಿತ್ತು.ಫಲಿತಾಂಶಗಳ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ಪ್ರತಿ ಪ್ರಯೋಗವನ್ನು 2-3 ಬಾರಿ ಪುನರಾವರ್ತಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ವೈವಿಧ್ಯಮಯ ದರ ಸ್ಥಿರಾಂಕಗಳನ್ನು (k0) ನಿಕೋಲ್ಸನ್ ವಿಧಾನದಿಂದ ಪಡೆಯಲಾಗಿದೆ46,47.
ಹೈಡ್ರೀಕರಿಸಿದ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (HVO) ಅನ್ನು ಜಲವಿದ್ಯುತ್ ವಿಧಾನದಿಂದ ಯಶಸ್ವಿಯಾಗಿ ಸಂಶ್ಲೇಷಿಸಲಾಗಿದೆ.ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿ SEM ಚಿತ್ರ.ಠೇವಣಿ ಮಾಡಿದ HWO 25-50 nm ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಗಾತ್ರಗಳೊಂದಿಗೆ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್‌ಗಳ ಸಮೂಹಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ ಎಂದು 1a ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.
HWO ನ ಎಕ್ಸ್-ರೇ ಡಿಫ್ರಾಕ್ಷನ್ ಮಾದರಿಯು ಕ್ರಮವಾಗಿ ~23.5 ° ಮತ್ತು ~47.5 ° ನಲ್ಲಿ ಶಿಖರಗಳನ್ನು (001) ಮತ್ತು (002) ತೋರಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ನಾನ್‌ಸ್ಟೊಯಿಕಿಯೊಮೆಟ್ರಿಕ್ WO2.63 (W32O84) (PDF 077–0810, a = 21 = Å, = 8.4 Å, Å, β = γ = 90°), ಇದು ಅವುಗಳ ಸ್ಪಷ್ಟ ನೀಲಿ ಬಣ್ಣಕ್ಕೆ ಅನುರೂಪವಾಗಿದೆ (Fig. 1b) 48.49.ಸರಿಸುಮಾರು 20.5°, 27.1°, 28.1°, 30.8°, 35.7°, 36.7° ಮತ್ತು 52.7° ನಲ್ಲಿ ಇತರ ಶಿಖರಗಳನ್ನು (140), (620), ( 350), (720), (740), (560°) ಗೆ ನಿಗದಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ.) ) ಮತ್ತು (970) ಕ್ರಮವಾಗಿ WO2.63 ಗೆ ಆರ್ಥೋಗೋನಲ್ ಡಿಫ್ರಾಕ್ಷನ್ ಪ್ಲೇನ್‌ಗಳು.ಅದೇ ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ವಿಧಾನವನ್ನು ಸೊಂಗರಾ ಮತ್ತು ಇತರರು ಬಳಸಿದ್ದಾರೆ.43 ಬಿಳಿ ಉತ್ಪನ್ನವನ್ನು ಪಡೆಯಲು, ಇದು WO3(H2O)0.333 ಉಪಸ್ಥಿತಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಈ ಕೆಲಸದಲ್ಲಿ, ವಿಭಿನ್ನ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಿಂದಾಗಿ, ನೀಲಿ-ಬೂದು ಉತ್ಪನ್ನವನ್ನು ಪಡೆಯಲಾಗಿದೆ, ಇದು WO3(H2O)0.333 (PDF 087-1203, a = 7.3 Å, b = 12.5 Å, c = 7 .7 Å, α = β = γ) ಮತ್ತು ox = 90 ರೂಪವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಿದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.X'Pert HighScore ಸಾಫ್ಟ್‌ವೇರ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಸೆಮಿಕ್ವಾಂಟಿಟೇಟಿವ್ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯು 26% WO3(H2O)0.333:74% W32O84 ಅನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ.W32O84 W6+ ಮತ್ತು W4+ (1.67:1 W6+:W4+) ಒಳಗೊಂಡಿರುವುದರಿಂದ, W6+ ಮತ್ತು W4+ ನ ಅಂದಾಜು ವಿಷಯವು ಕ್ರಮವಾಗಿ 72% W6+ ಮತ್ತು 28% W4+ ಆಗಿದೆ.SEM ಚಿತ್ರಗಳು, ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯಸ್ ಮಟ್ಟದಲ್ಲಿ 1-ಸೆಕೆಂಡ್ XPS ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಾ, TEM ಚಿತ್ರಗಳು, FTIR ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಾ ಮತ್ತು C76 ಕಣಗಳ ರಾಮನ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಾವನ್ನು ನಮ್ಮ ಹಿಂದಿನ ಲೇಖನದಲ್ಲಿ ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ.Kawada et al., 50,51 ಪ್ರಕಾರ C76 ನ ಎಕ್ಸ್-ರೇ ವಿವರ್ತನೆಯು ಟೊಲುಯೆನ್ ಅನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಿದ ನಂತರ FCC ಯ ಮಾನೋಕ್ಲಿನಿಕ್ ರಚನೆಯನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ.
ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿ SEM ಚಿತ್ರಗಳು.2a ಮತ್ತು b HWO ಮತ್ತು HWO-50%C76 ಯುಸಿಸಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್‌ನ ಕಾರ್ಬನ್ ಫೈಬರ್‌ಗಳ ಮೇಲೆ ಮತ್ತು ನಡುವೆ ಯಶಸ್ವಿಯಾಗಿ ಠೇವಣಿಯಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿ SEM ಚಿತ್ರಗಳ ಮೇಲೆ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್, ಕಾರ್ಬನ್ ಮತ್ತು ಆಮ್ಲಜನಕದ EDX ಅಂಶ ನಕ್ಷೆಗಳು.2c ಅನ್ನು ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.2d-f ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಮತ್ತು ಇಂಗಾಲವು ಸಂಪೂರ್ಣ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಸಮವಾಗಿ ಮಿಶ್ರಣವಾಗಿದೆ (ಒಂದೇ ರೀತಿಯ ವಿತರಣೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ) ಮತ್ತು ಠೇವಣಿ ವಿಧಾನದ ಸ್ವರೂಪದಿಂದಾಗಿ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಏಕರೂಪವಾಗಿ ಠೇವಣಿಯಾಗುವುದಿಲ್ಲ.
ಠೇವಣಿ ಮಾಡಿದ HWO ಕಣಗಳ SEM ಚಿತ್ರಗಳು (a) ಮತ್ತು HWO-C76 ಕಣಗಳು (b).ಚಿತ್ರ (ಸಿ) ನಲ್ಲಿನ ಪ್ರದೇಶವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು UCC ನಲ್ಲಿ ಲೋಡ್ ಮಾಡಲಾದ HWO-C76 ನಲ್ಲಿನ EDX ಮ್ಯಾಪಿಂಗ್ ಮಾದರಿಯಲ್ಲಿ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ (d), ಕಾರ್ಬನ್ (e), ಮತ್ತು ಆಮ್ಲಜನಕ (f) ವಿತರಣೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.
HR-TEM ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ ವರ್ಧಕ ಚಿತ್ರಣ ಮತ್ತು ಸ್ಫಟಿಕಶಾಸ್ತ್ರದ ಮಾಹಿತಿಗಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ (ಚಿತ್ರ 3).HWO ನ್ಯಾನೊಕ್ಯೂಬ್ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು ಚಿತ್ರ 3a ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿ ಚಿತ್ರ 3b ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಆಯ್ದ ಪ್ರದೇಶಗಳ ವಿವರ್ತನೆಗಾಗಿ ನ್ಯಾನೊಕ್ಯೂಬ್ ಅನ್ನು ವರ್ಧಿಸುವ ಮೂಲಕ, ವಸ್ತುವಿನ ಸ್ಫಟಿಕೀಯತೆಯನ್ನು ದೃಢೀಕರಿಸುವ ಚಿತ್ರ 3c ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ, ಬ್ರ್ಯಾಗ್ ನಿಯಮವನ್ನು ಪೂರೈಸುವ ಗ್ರ್ಯಾಟಿಂಗ್ ರಚನೆ ಮತ್ತು ವಿವರ್ತನೆ ವಿಮಾನಗಳನ್ನು ದೃಶ್ಯೀಕರಿಸಬಹುದು.Fig. 3c ಗೆ ಇನ್‌ಸೆಟ್‌ನಲ್ಲಿ ಕ್ರಮವಾಗಿ 43,44,49 WO3(H2O)0.333 ಮತ್ತು W32O84 ಹಂತಗಳಲ್ಲಿ ಕಂಡುಬರುವ (022) ಮತ್ತು (620) ಡಿಫ್ರಾಕ್ಷನ್ ಪ್ಲೇನ್‌ಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾದ d 3.3 Å ದೂರವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಇದು ಮೇಲೆ ವಿವರಿಸಿದ XRD ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯೊಂದಿಗೆ ಸ್ಥಿರವಾಗಿದೆ (Fig. 1b) ಗಮನಿಸಿದ ಗ್ರ್ಯಾಟಿಂಗ್ ಪ್ಲೇನ್ ದೂರ d (Fig. 3c) HWO ಮಾದರಿಯಲ್ಲಿನ ಪ್ರಬಲವಾದ XRD ಪೀಕ್‌ಗೆ ಅನುರೂಪವಾಗಿದೆ.ಮಾದರಿ ಉಂಗುರಗಳನ್ನು ಸಹ ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.3d, ಅಲ್ಲಿ ಪ್ರತಿ ಉಂಗುರವು ಪ್ರತ್ಯೇಕ ಸಮತಲಕ್ಕೆ ಅನುರೂಪವಾಗಿದೆ.WO3(H2O)0.333 ಮತ್ತು W32O84 ವಿಮಾನಗಳು ಕ್ರಮವಾಗಿ ಬಿಳಿ ಮತ್ತು ನೀಲಿ ಬಣ್ಣವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ಅನುಗುಣವಾದ XRD ಶಿಖರಗಳನ್ನು ಸಹ ಚಿತ್ರ 1b ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.ರಿಂಗ್ ರೇಖಾಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವ ಮೊದಲ ಉಂಗುರವು (022) ಅಥವಾ (620) ಡಿಫ್ರಾಕ್ಷನ್ ಪ್ಲೇನ್‌ನ ಕ್ಷ-ಕಿರಣ ಮಾದರಿಯಲ್ಲಿ ಮೊದಲ ಗುರುತಿಸಲಾದ ಶಿಖರಕ್ಕೆ ಅನುರೂಪವಾಗಿದೆ.(022) ನಿಂದ (402) ಉಂಗುರಗಳವರೆಗೆ, d- ಅಂತರದ ಮೌಲ್ಯಗಳು 3.30, 3.17, 2.38, 1.93, ಮತ್ತು 1.69 Å, 3.30, 3.17, 2, 45, 1.93 ರ XRD ಮೌಲ್ಯಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿರುತ್ತವೆ.ಮತ್ತು 1.66 Å, ಇದು ಕ್ರಮವಾಗಿ 44, 45 ಕ್ಕೆ ಸಮಾನವಾಗಿರುತ್ತದೆ.
(a) HWO ನ HR-TEM ಚಿತ್ರ, (b) ವಿಸ್ತರಿಸಿದ ಚಿತ್ರವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಗ್ರ್ಯಾಟಿಂಗ್ ಪ್ಲೇನ್‌ಗಳ ಚಿತ್ರಗಳನ್ನು (ಸಿ) ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಇನ್‌ಸೆಟ್ (ಸಿ) ಸಮತಲಗಳ ವಿಸ್ತೃತ ಚಿತ್ರವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು (002) ಮತ್ತು (620) ಪ್ಲೇನ್‌ಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾದ 0.33 nm ನ ಪಿಚ್ ಡಿ ಅನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.(ಡಿ) WO3(H2O)0.333 (ಬಿಳಿ) ಮತ್ತು W32O84 (ನೀಲಿ) ಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ವಿಮಾನಗಳನ್ನು ತೋರಿಸುವ HWO ರಿಂಗ್ ಮಾದರಿ.
ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ನ ಮೇಲ್ಮೈ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರ ಮತ್ತು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲು XPS ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯನ್ನು ನಡೆಸಲಾಯಿತು (ಅಂಕಿ S1 ಮತ್ತು 4).ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ HWO ನ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ XPS ಸ್ಕ್ಯಾನ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಮ್ ಅನ್ನು ಚಿತ್ರ S1 ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಇದು ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಇರುವಿಕೆಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.W 4f ಮತ್ತು O 1s ಕೋರ್ ಮಟ್ಟಗಳ XPS ಕಿರಿದಾದ ಸ್ಕ್ಯಾನ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಾವನ್ನು ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.ಕ್ರಮವಾಗಿ 4a ಮತ್ತು b.W 4f ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಮ್ W ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಸ್ಥಿತಿಯ ಬಂಧಿಸುವ ಶಕ್ತಿಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಎರಡು ಸ್ಪಿನ್-ಕಕ್ಷೆಯ ದ್ವಿಗುಣಗಳಾಗಿ ವಿಭಜಿಸುತ್ತದೆ.ಮತ್ತು W 4f7/2 ನಲ್ಲಿ 36.6 ಮತ್ತು 34.9 eV ಕ್ರಮವಾಗಿ 40 ರ W4+ ಸ್ಥಿತಿಯ ಲಕ್ಷಣವಾಗಿದೆ.)0.333ಅಳವಡಿಸಲಾದ ಡೇಟಾವು W6+ ಮತ್ತು W4+ ನ ಪರಮಾಣು ಶೇಕಡಾವಾರು ಅನುಕ್ರಮವಾಗಿ 85% ಮತ್ತು 15% ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಎರಡು ವಿಧಾನಗಳ ನಡುವಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳನ್ನು ಪರಿಗಣಿಸಿ XRD ಡೇಟಾದಿಂದ ಅಂದಾಜು ಮಾಡಲಾದ ಮೌಲ್ಯಗಳಿಗೆ ಹತ್ತಿರದಲ್ಲಿದೆ.ಎರಡೂ ವಿಧಾನಗಳು ಕಡಿಮೆ ನಿಖರತೆಯೊಂದಿಗೆ ಪರಿಮಾಣಾತ್ಮಕ ಮಾಹಿತಿಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತವೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ XRD.ಅಲ್ಲದೆ, ಈ ಎರಡು ವಿಧಾನಗಳು ವಸ್ತುವಿನ ವಿವಿಧ ಭಾಗಗಳನ್ನು ವಿಶ್ಲೇಷಿಸುತ್ತವೆ ಏಕೆಂದರೆ XRD ಒಂದು ಬೃಹತ್ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ ಆದರೆ XPS ಕೆಲವು ನ್ಯಾನೊಮೀಟರ್‌ಗಳನ್ನು ಮಾತ್ರ ಸಮೀಪಿಸುವ ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ.O 1s ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಮ್ ಅನ್ನು 533 (22.2%) ಮತ್ತು 530.4 eV (77.8%) ನಲ್ಲಿ ಎರಡು ಶಿಖರಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಲಾಗಿದೆ.ಮೊದಲನೆಯದು OH ಗೆ ಅನುರೂಪವಾಗಿದೆ, ಮತ್ತು ಎರಡನೆಯದು WO ನಲ್ಲಿನ ಲ್ಯಾಟಿಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಆಮ್ಲಜನಕ ಬಂಧಗಳಿಗೆ.OH ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳ ಉಪಸ್ಥಿತಿಯು HWO ನ ಜಲಸಂಚಯನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ.
ಹೈಡ್ರೀಕರಿಸಿದ HWO ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳು ಮತ್ತು ಸಮನ್ವಯ ನೀರಿನ ಅಣುಗಳ ಉಪಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲು ಈ ಎರಡು ಮಾದರಿಗಳಲ್ಲಿ FTIR ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯನ್ನು ಸಹ ನಡೆಸಲಾಯಿತು.ಫಲಿತಾಂಶಗಳು HWO-50% C76 ಮಾದರಿ ಮತ್ತು FT-IR HWO ಫಲಿತಾಂಶಗಳು HWO ಇರುವಿಕೆಯಿಂದ ಒಂದೇ ರೀತಿ ಕಂಡುಬರುತ್ತವೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಗಾಗಿ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ವಿಭಿನ್ನ ಪ್ರಮಾಣದ ಮಾದರಿಯಿಂದಾಗಿ ಶಿಖರಗಳ ತೀವ್ರತೆಯು ಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತದೆ (Fig. 5a).) HWO-50% C76 ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ನ ಶಿಖರವನ್ನು ಹೊರತುಪಡಿಸಿ ಎಲ್ಲಾ ಶಿಖರಗಳು ಫುಲ್ಲರೀನ್ 24 ಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿವೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಲಾಗಿದೆ.HWO ಲ್ಯಾಟಿಸ್ ರಚನೆಯಲ್ಲಿ OWO ಸ್ಟ್ರೆಚಿಂಗ್ ಆಂದೋಲನಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾದ ~710/cm ನಲ್ಲಿ ಎರಡೂ ಮಾದರಿಗಳು ಬಲವಾದ ವಿಶಾಲವಾದ ಬ್ಯಾಂಡ್ ಅನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತವೆ ಎಂದು 5a ತೋರಿಸುತ್ತದೆ, ~ 840/cm ನಲ್ಲಿ ಬಲವಾದ ಭುಜವು WO ಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ.ಸ್ಟ್ರೆಚಿಂಗ್ ಕಂಪನಗಳಿಗೆ, ಸುಮಾರು 1610/cm ನಲ್ಲಿ ತೀಕ್ಷ್ಣವಾದ ಬ್ಯಾಂಡ್ OH ನ ಬಾಗುವ ಕಂಪನಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ 3400/cm ನಲ್ಲಿ ವಿಶಾಲವಾದ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಬ್ಯಾಂಡ್ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಲ್ ಗುಂಪುಗಳಲ್ಲಿ OH ನ ಕಂಪನಗಳನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸುವುದಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ.ಈ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿನ XPS ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಾಗೆ ಹೊಂದಿಕೆಯಾಗುತ್ತವೆ.4b, ಅಲ್ಲಿ WO ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳು VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ ಸಕ್ರಿಯ ಸೈಟ್‌ಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು.
HWO ಮತ್ತು HWO-50% C76 (a) ನ FTIR ವಿಶ್ಲೇಷಣೆ, ಸೂಚಿಸಿದ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳು ಮತ್ತು ಸಂಪರ್ಕ ಕೋನ ಮಾಪನಗಳು (b, c).
OH ಗುಂಪು VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ವೇಗವರ್ಧಿಸುತ್ತದೆ, ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಹೈಡ್ರೋಫಿಲಿಸಿಟಿಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಪ್ರಸರಣ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆಯ ದರವನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸುತ್ತದೆ.ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ, HWO-50% C76 ಮಾದರಿಯು C76 ಗಾಗಿ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಗರಿಷ್ಠವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.~2905, 2375, 1705, 1607, ಮತ್ತು 1445 cm3 ನಲ್ಲಿರುವ ಶಿಖರಗಳನ್ನು ಕ್ರಮವಾಗಿ CH, O=C=O, C=O, C=C, ಮತ್ತು CO ಸ್ಟ್ರೆಚಿಂಗ್ ವೈಬ್ರೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ ನಿಯೋಜಿಸಬಹುದು.ಆಮ್ಲಜನಕದ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳು C=O ಮತ್ತು CO ವೆನಾಡಿಯಂನ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಸಕ್ರಿಯ ಕೇಂದ್ರಗಳಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ ಎಂದು ತಿಳಿದಿದೆ.ಎರಡು ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ತೇವವನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲು ಮತ್ತು ಹೋಲಿಸಲು, Fig. 5b,c ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ಸಂಪರ್ಕ ಕೋನ ಮಾಪನಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಲಾಗಿದೆ.HWO ವಿದ್ಯುದ್ವಾರವು ತಕ್ಷಣವೇ ನೀರಿನ ಹನಿಗಳನ್ನು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ, ಲಭ್ಯವಿರುವ OH ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ಸೂಪರ್ಹೈಡ್ರೋಫಿಲಿಸಿಟಿಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.HWO-50% C76 ಹೆಚ್ಚು ಹೈಡ್ರೋಫೋಬಿಕ್ ಆಗಿದೆ, 10 ಸೆಕೆಂಡುಗಳ ನಂತರ ಸುಮಾರು 135 ° ಸಂಪರ್ಕ ಕೋನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಅಳತೆಗಳಲ್ಲಿ, HWO-50%C76 ವಿದ್ಯುದ್ವಾರವು ಒಂದು ನಿಮಿಷಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಅವಧಿಯಲ್ಲಿ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ತೇವವಾಯಿತು.ತೇವದ ಮಾಪನಗಳು XPS ಮತ್ತು FTIR ಫಲಿತಾಂಶಗಳೊಂದಿಗೆ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತವೆ, HWO ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ OH ಗುಂಪುಗಳು ಅದನ್ನು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚು ಹೈಡ್ರೋಫಿಲಿಕ್ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.
HWO ಮತ್ತು HWO-C76 ನ್ಯಾನೊಕಾಂಪೊಸಿಟ್‌ಗಳ VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಮಿಶ್ರ ಆಮ್ಲದಲ್ಲಿನ VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ HWO ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಾಸವನ್ನು ನಿಗ್ರಹಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು C76 ಅಪೇಕ್ಷಿತ VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ವೇಗವರ್ಧಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ನಿರೀಕ್ಷಿಸಲಾಗಿತ್ತು.HWO ಅಮಾನತುಗಳಲ್ಲಿ %, 30%, ಮತ್ತು 50% C76 ಮತ್ತು CCC ಸುಮಾರು 2 mg/cm2 ಒಟ್ಟು ಲೋಡಿಂಗ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಠೇವಣಿಯಾಗಿದೆ.
ಅಂಜೂರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ.6, ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿನ VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು CV ಯಿಂದ ಮಿಶ್ರ ಆಮ್ಲೀಯ ವಿದ್ಯುದ್ವಿಚ್ಛೇದ್ಯದಲ್ಲಿ ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು.ಗ್ರಾಫ್‌ನಲ್ಲಿ ನೇರವಾಗಿ ವಿವಿಧ ವೇಗವರ್ಧಕಗಳಿಗೆ ΔEp ಮತ್ತು Ipa/Ipc ಗಳ ಸುಲಭ ಹೋಲಿಕೆಗಾಗಿ ಪ್ರವಾಹಗಳನ್ನು I/Ipa ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.ಪ್ರಸ್ತುತ ಪ್ರದೇಶದ ಘಟಕದ ಡೇಟಾವನ್ನು ಚಿತ್ರ 2S ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.ಅಂಜೂರದ ಮೇಲೆ.HWO ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ದರವನ್ನು ಸ್ವಲ್ಪ ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಪರಾವಲಂಬಿ ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಾಸದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ನಿಗ್ರಹಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ಚಿತ್ರ 6a ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, C76 ಗಣನೀಯವಾಗಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ದರವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಾಸದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ವೇಗವರ್ಧಿಸುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಸರಿಯಾಗಿ ರೂಪಿಸಲಾದ HWO ಮತ್ತು C76 ಸಂಯೋಜನೆಯು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ಮತ್ತು ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಸನ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಪ್ರತಿಬಂಧಿಸುವ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಎಂದು ನಿರೀಕ್ಷಿಸಲಾಗಿದೆ.C76 ನ ವಿಷಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಿದ ನಂತರ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್‌ಗಳ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಚಟುವಟಿಕೆಯು ಸುಧಾರಿಸಿದೆ ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ, ಇದು ΔEp ನಲ್ಲಿನ ಇಳಿಕೆ ಮತ್ತು Ipa/Ipc ಅನುಪಾತದಲ್ಲಿ (ಟೇಬಲ್ S3) ಹೆಚ್ಚಳದಿಂದ ಸಾಕ್ಷಿಯಾಗಿದೆ.ಚಿತ್ರ 6d (ಟೇಬಲ್ S3) ನಲ್ಲಿನ ನೈಕ್ವಿಸ್ಟ್ ಪ್ಲಾಟ್‌ನಿಂದ ಹೊರತೆಗೆಯಲಾದ RCT ಮೌಲ್ಯಗಳಿಂದ ಇದು ದೃಢೀಕರಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ, ಇದು ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ C76 ವಿಷಯದೊಂದಿಗೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗುವುದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ.ಈ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ಲಿ ಅವರ ಅಧ್ಯಯನದೊಂದಿಗೆ ಸ್ಥಿರವಾಗಿವೆ, ಇದರಲ್ಲಿ ಮೆಸೊಪೊರಸ್ WO3 ಗೆ ಮೆಸೊಪೊರಸ್ ಕಾರ್ಬನ್ ಸೇರಿಸುವಿಕೆಯು VO2+/VO2+35 ನಲ್ಲಿ ಸುಧಾರಿತ ಚಾರ್ಜ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ.ನೇರ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯು ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಾಹಕತೆ (C=C ಬಂಧ) 18, 24, 35, 36, 37 ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚು ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿದೆ ಎಂದು ಇದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. ಇದು [VO(H2O)5]2+ ಮತ್ತು [VO2(H2O)4]+ ನಡುವಿನ ಸಮನ್ವಯ ರೇಖಾಗಣಿತದಲ್ಲಿನ ಬದಲಾವಣೆಯ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿರಬಹುದು, C76 ವೋಲ್ಟ್ ಶಕ್ತಿಯ ಮೇಲೆ ಅಂಗಾಂಶದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, HWO ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳೊಂದಿಗೆ ಇದು ಸಾಧ್ಯವಾಗದಿರಬಹುದು.
(a) 0.1 M VOSO4/1 M H2SO4 + 1 M HCl ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಲೈಟ್‌ನಲ್ಲಿ ವಿಭಿನ್ನ HWO:C76 ಅನುಪಾತಗಳೊಂದಿಗೆ UCC ಮತ್ತು HWO-C76 ಸಂಯೋಜನೆಗಳ VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಆವರ್ತಕ ವೋಲ್ಟಾಮೆಟ್ರಿಕ್ ನಡವಳಿಕೆ (ν = 5 mV/s).(b) Randles-Sevchik ಮತ್ತು (c) ನಿಕೋಲ್ಸನ್ VO2+/VO2+ ವಿಧಾನ ಪ್ರಸರಣ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮತ್ತು k0 (d) ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಲು.
HWO-50% C76 VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ C76 ನಂತೆ ಬಹುತೇಕ ಅದೇ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕ್ಯಾಟಲಿಟಿಕ್ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ, ಹೆಚ್ಚು ಆಸಕ್ತಿಕರವಾಗಿ, ಇದು ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ C76 ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಸನವನ್ನು ನಿಗ್ರಹಿಸಿತು, ಚಿತ್ರ 6a ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ಮತ್ತು ಚಿಕ್ಕದಾದ ಅರ್ಧವೃತ್ತವನ್ನು ಸಹ ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ.6d (ಕೆಳಗಿನ RCT).C76 HWO-50% C76 (ಟೇಬಲ್ S3) ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಪಷ್ಟವಾದ Ipa/Ipc ಅನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ, ಆದರೆ ಸುಧಾರಿತ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಹಿಮ್ಮುಖತೆಯ ಕಾರಣದಿಂದಲ್ಲ, ಆದರೆ 1.2 V ನಲ್ಲಿ SHE ಯೊಂದಿಗೆ ಕ್ಲೋರಿನ್ ಕಡಿತದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಗರಿಷ್ಠ ಅತಿಕ್ರಮಣದಿಂದಾಗಿ. HWO- 50% C76 ನ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯು ಋಣಾತ್ಮಕವಾಗಿ ವಿದ್ಯುದಾವೇಶದ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿದೆ. HWO ನಲ್ಲಿ ವೇಗವರ್ಧಕ ಕಾರ್ಯ.ಕಡಿಮೆ ಕ್ಲೋರಿನ್ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆಯು ಪೂರ್ಣ ಕೋಶದ ಚಾರ್ಜಿಂಗ್ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಸುಧಾರಿತ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವು ಪೂರ್ಣ ಸೆಲ್ ವೋಲ್ಟೇಜ್ನ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.
ಸಮೀಕರಣ S1 ಪ್ರಕಾರ, ಪ್ರಸರಣದಿಂದ ನಿಯಂತ್ರಿಸಲ್ಪಡುವ ಅರೆ-ಹಿಂತಿರುಗಿಸಬಹುದಾದ (ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ನಿಧಾನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆ) ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ, ಗರಿಷ್ಠ ಪ್ರವಾಹ (IP) ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳ ಸಂಖ್ಯೆ (n), ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಪ್ರದೇಶ (A), ಡಿಫ್ಯೂಷನ್ ಗುಣಾಂಕ (D), ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳ ಸಂಖ್ಯೆ ವರ್ಗಾವಣೆ ಗುಣಾಂಕ (α) ಮತ್ತು ಸ್ಕ್ಯಾನಿಂಗ್ ವೇಗ (ν) ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಪರೀಕ್ಷಿತ ವಸ್ತುಗಳ ಪ್ರಸರಣ-ನಿಯಂತ್ರಿತ ನಡವಳಿಕೆಯನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲು, IP ಮತ್ತು ν1/2 ನಡುವಿನ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ಚಿತ್ರಿಸಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಚಿತ್ರ 6b ನಲ್ಲಿ ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ.ಎಲ್ಲಾ ವಸ್ತುಗಳು ರೇಖೀಯ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ತೋರಿಸುವುದರಿಂದ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯು ಪ್ರಸರಣದಿಂದ ನಿಯಂತ್ರಿಸಲ್ಪಡುತ್ತದೆ.VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯು ಅರೆ-ರಿವರ್ಸಿಬಲ್ ಆಗಿರುವುದರಿಂದ, ರೇಖೆಯ ಇಳಿಜಾರು ಪ್ರಸರಣ ಗುಣಾಂಕ ಮತ್ತು α (ಸಮೀಕರಣ S1) ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ.ಪ್ರಸರಣ ಗುಣಾಂಕವು ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುವುದರಿಂದ (≈ 4 × 10-6 cm2/s) 52, ರೇಖೆಯ ಇಳಿಜಾರಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ನೇರವಾಗಿ α ನ ವಿಭಿನ್ನ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ದರವನ್ನು C76 ಮತ್ತು HWO -50% C76 ಕಡಿದಾದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ದರ (ಅಧಿಕ) ಗೆ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.
ಟೇಬಲ್ S3 (Fig. 6d) ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವ ಕಡಿಮೆ ಆವರ್ತನಗಳಿಗೆ ಲೆಕ್ಕಹಾಕಿದ ವಾರ್ಬರ್ಗ್ ಇಳಿಜಾರುಗಳು (W) ಎಲ್ಲಾ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ 1 ಕ್ಕೆ ಹತ್ತಿರವಿರುವ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ಇದು ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಜಾತಿಗಳ ಪರಿಪೂರ್ಣ ಪ್ರಸರಣವನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ν1/ 2 ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ IP ಯ ರೇಖೀಯ ನಡವಳಿಕೆಯನ್ನು ದೃಢೀಕರಿಸುತ್ತದೆ. CV ಅನ್ನು ಅಳೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ.HWO-50% C76 ಗಾಗಿ, ವಾರ್ಬರ್ಗ್ ಇಳಿಜಾರು 1 ರಿಂದ 1.32 ಕ್ಕೆ ವಿಚಲನಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ, ಇದು ಕಾರಕದ (VO2+) ಅರೆ-ಅನಂತ ಪ್ರಸರಣವನ್ನು ಮಾತ್ರ ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಸರಂಧ್ರತೆಯ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ ಪ್ರಸರಣ ವರ್ತನೆಗೆ ತೆಳುವಾದ-ಪದರದ ನಡವಳಿಕೆಯ ಸಂಭವನೀಯ ಕೊಡುಗೆಯಾಗಿದೆ.
VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಹಿಮ್ಮುಖತೆಯನ್ನು (ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ದರ) ಮತ್ತಷ್ಟು ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಲು, ನಿಕೋಲ್ಸನ್ ಕ್ವಾಸಿ-ರಿವರ್ಸಿಬಲ್ ರಿಯಾಕ್ಷನ್ ವಿಧಾನವನ್ನು ಸಹ ಪ್ರಮಾಣಿತ ದರ ಸ್ಥಿರ k041.42 ಅನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಆಯಾಮವಿಲ್ಲದ ಚಲನ ನಿಯತಾಂಕ Ψ ಅನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸಲು S2 ಸಮೀಕರಣವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಇದನ್ನು ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ΔEp ನ ಕಾರ್ಯವಾಗಿದೆ, ಇದು ν-1/2 ನ ಕಾರ್ಯವಾಗಿದೆ.ಪ್ರತಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಪಡೆದ Ψ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಟೇಬಲ್ S4 ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು (Fig. 6c) ಸಮೀಕರಣ S3 (ಪ್ರತಿ ಸಾಲಿನ ಮುಂದೆ ಬರೆಯಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಟೇಬಲ್ S4 ನಲ್ಲಿ ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ) ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಪ್ರತಿ ಪ್ಲಾಟ್‌ನ ಇಳಿಜಾರಿನಿಂದ k0 × 104 cm/s ಅನ್ನು ಪಡೆಯಲು ಯೋಜಿಸಲಾಗಿದೆ.HWO-50% C76 ಅತ್ಯಧಿಕ ಇಳಿಜಾರು (Fig. 6c) ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ, ಹೀಗಾಗಿ k0 ನ ಗರಿಷ್ಠ ಮೌಲ್ಯವು 2.47 × 10-4 cm/s ಆಗಿದೆ.ಇದರರ್ಥ ಈ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರವು ವೇಗವಾದ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಸಾಧಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು CV ಮತ್ತು EIS ಫಲಿತಾಂಶಗಳೊಂದಿಗೆ Fig. 6a ಮತ್ತು d ಮತ್ತು ಟೇಬಲ್ S3 ನಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, RCT ಮೌಲ್ಯವನ್ನು (ಟೇಬಲ್ S3) ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಸಮೀಕರಣ S4 ನ ನೈಕ್ವಿಸ್ಟ್ ಪ್ಲಾಟ್ (Fig. 6d) ನಿಂದ k0 ನ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಸಹ ಪಡೆಯಲಾಗಿದೆ.EIS ನಿಂದ ಈ k0 ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಟೇಬಲ್ S4 ನಲ್ಲಿ ಸಂಕ್ಷೇಪಿಸಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಸಿನರ್ಜಿಸ್ಟಿಕ್ ಪರಿಣಾಮದಿಂದಾಗಿ HWO-50% C76 ಅತ್ಯಧಿಕ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ದರವನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಪ್ರತಿ ವಿಧಾನದ ವಿಭಿನ್ನ ಮೂಲಗಳಿಂದಾಗಿ k0 ಮೌಲ್ಯಗಳು ವಿಭಿನ್ನವಾಗಿದ್ದರೂ ಸಹ, ಅವು ಇನ್ನೂ ಅದೇ ಪ್ರಮಾಣದ ಕ್ರಮವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ.
ಪಡೆದ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು, ಸೂಕ್ತವಾದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಅನ್ಕೋಟೆಡ್ UCC ಮತ್ತು TCC ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸುವುದು ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ, HWO-C76 ಕೇವಲ ಕಡಿಮೆ ΔEp ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ರಿವರ್ಸಿಬಿಲಿಟಿಯನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ, ಆದರೆ TCC ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಪರಾವಲಂಬಿ ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಸನದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ನಿಗ್ರಹಿಸಿದೆ, SHE ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ 1.45 V ನಲ್ಲಿ ಪ್ರಸ್ತುತದಿಂದ ಅಳೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ (Fig. 7a).ಸ್ಥಿರತೆಯ ವಿಷಯದಲ್ಲಿ, ವೇಗವರ್ಧಕವನ್ನು PVDF ಬೈಂಡರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿ ನಂತರ ಕಾರ್ಬನ್ ಬಟ್ಟೆಯ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸುವುದರಿಂದ HWO-50% C76 ಭೌತಿಕವಾಗಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿದೆ ಎಂದು ನಾವು ಭಾವಿಸಿದ್ದೇವೆ.HWO-50% C76 ಯುಸಿಸಿಗೆ 50 mV ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ 150 ಚಕ್ರಗಳ ನಂತರ 44 mV (ಡಿಗ್ರೇಡೇಶನ್ ದರ 0.29 mV/ಸೈಕಲ್) ಗರಿಷ್ಠ ಬದಲಾವಣೆಯನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ (ಚಿತ್ರ 7b).ಇದು ದೊಡ್ಡ ವ್ಯತ್ಯಾಸವಲ್ಲ, ಆದರೆ UCC ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವು ತುಂಬಾ ನಿಧಾನವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸೈಕ್ಲಿಂಗ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಕ್ಷೀಣಿಸುತ್ತದೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಹಿಮ್ಮುಖ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ.TCC ಯ ರಿವರ್ಸಿಬಿಲಿಟಿ UCC ಗಿಂತ ಉತ್ತಮವಾಗಿದ್ದರೂ, TCC 150 ಚಕ್ರಗಳ ನಂತರ 73 mV ಯ ದೊಡ್ಡ ಶಿಫ್ಟ್ ಶಿಫ್ಟ್ ಅನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ, ಇದು ಅದರ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ಕ್ಲೋರಿನ್ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿರಬಹುದು.ಇದರಿಂದ ವೇಗವರ್ಧಕವು ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ಚೆನ್ನಾಗಿ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.ಪರೀಕ್ಷಿಸಿದ ಎಲ್ಲಾ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳಿಂದ ನೋಡಬಹುದಾದಂತೆ, ಬೆಂಬಲಿತ ವೇಗವರ್ಧಕಗಳಿಲ್ಲದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳು ಸಹ ಸೈಕ್ಲಿಂಗ್ ಅಸ್ಥಿರತೆಯ ವಿವಿಧ ಹಂತಗಳನ್ನು ತೋರಿಸಿದವು, ಸೈಕ್ಲಿಂಗ್ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಗರಿಷ್ಠ ಬೇರ್ಪಡಿಕೆಯಲ್ಲಿನ ಬದಲಾವಣೆಯು ವೇಗವರ್ಧಕ ಬೇರ್ಪಡಿಕೆಗಿಂತ ರಾಸಾಯನಿಕ ಬದಲಾವಣೆಗಳಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ವಸ್ತುವಿನ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯಿಂದ ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ, ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಮಾಣದ ವೇಗವರ್ಧಕ ಕಣಗಳನ್ನು ಬೇರ್ಪಡಿಸಬೇಕಾದರೆ, ಇದು ಗರಿಷ್ಠ ಬೇರ್ಪಡಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ಹೆಚ್ಚಳಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ (ಕೇವಲ 44 mV), ಏಕೆಂದರೆ ತಲಾಧಾರವು (UCC) VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗೆ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯವಾಗಿದೆ.
UCC (a) ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುವಿನ CV ಯ ಹೋಲಿಕೆ ಮತ್ತು VO2+/VO2+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ (b) ಸ್ಥಿರತೆ.0.1 M VOSO4/1 M H2SO4 + 1 M HCl ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಲೈಟ್‌ನಲ್ಲಿರುವ ಎಲ್ಲಾ CV ಗಳಿಗೆ ν = 5 mV/s.
VRFB ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಆರ್ಥಿಕ ಆಕರ್ಷಣೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸುವುದು ಮತ್ತು ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಅತ್ಯಗತ್ಯ.HWO-C76 ಸಂಯೋಜನೆಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲಾಯಿತು ಮತ್ತು VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮೇಲೆ ಅವುಗಳ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕ್ಯಾಟಲಿಟಿಕ್ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಯಿತು.HWO ಮಿಶ್ರ ಆಮ್ಲೀಯ ವಿದ್ಯುದ್ವಿಚ್ಛೇದ್ಯಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ವಲ್ಪ ಚಲನಶೀಲ ವರ್ಧನೆಯನ್ನು ತೋರಿಸಿತು ಆದರೆ ಕ್ಲೋರಿನ್ ವಿಕಾಸವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ನಿಗ್ರಹಿಸಿತು.HWO-ಆಧಾರಿತ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ಉತ್ತಮಗೊಳಿಸಲು HWO:C76 ನ ವಿವಿಧ ಅನುಪಾತಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗಿದೆ.C76 ಅನ್ನು HWO ಗೆ ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದರಿಂದ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರದಲ್ಲಿ VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ HWO-50% C76 ಅತ್ಯುತ್ತಮ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಇದು ಚಾರ್ಜ್ ವರ್ಗಾವಣೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು C76 ಮತ್ತು TCC ಠೇವಣಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಕ್ಲೋರಿನ್ ಅನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ನಿಗ್ರಹಿಸುತ್ತದೆ..ಇದು C=C sp2 ಹೈಬ್ರಿಡೈಸೇಶನ್, OH ಮತ್ತು W-OH ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳ ನಡುವಿನ ಸಿನರ್ಜಿಸ್ಟಿಕ್ ಪರಿಣಾಮದಿಂದಾಗಿ.HWO-50% C76 ನ ಪುನರಾವರ್ತಿತ ಸೈಕ್ಲಿಂಗ್ ನಂತರ ಅವನತಿ ದರವು 0.29 mV/ಸೈಕಲ್ ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದರೆ, UCC ಮತ್ತು TCC ಯ ಅವನತಿ ದರವು ಕ್ರಮವಾಗಿ 0.33 mV/cycle ಮತ್ತು 0.49 mV/cycle ಆಗಿದ್ದು, ಇದು ತುಂಬಾ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಮಿಶ್ರ ಆಮ್ಲ ವಿದ್ಯುದ್ವಿಚ್ಛೇದ್ಯಗಳಲ್ಲಿ.ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಿದ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ವೇಗದ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆಯೊಂದಿಗೆ VO2+/VO2+ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಯಶಸ್ವಿಯಾಗಿ ಗುರುತಿಸುತ್ತವೆ.ಇದು ಔಟ್ಪುಟ್ ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ VRFB ಯ ಶಕ್ತಿಯ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಹೀಗಾಗಿ ಅದರ ಭವಿಷ್ಯದ ವಾಣಿಜ್ಯೀಕರಣದ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.
ಪ್ರಸ್ತುತ ಅಧ್ಯಯನದಲ್ಲಿ ಬಳಸಿದ ಮತ್ತು/ಅಥವಾ ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಿದ ಡೇಟಾಸೆಟ್‌ಗಳು ಸಮಂಜಸವಾದ ವಿನಂತಿಯ ಮೇರೆಗೆ ಆಯಾ ಲೇಖಕರಿಂದ ಲಭ್ಯವಿದೆ.
ಲುಡೆರರ್ ಜಿ. ಮತ್ತು ಇತರರು.ಜಾಗತಿಕ ಕಡಿಮೆ-ಕಾರ್ಬನ್ ಶಕ್ತಿಯ ಸನ್ನಿವೇಶಗಳಲ್ಲಿ ಗಾಳಿ ಮತ್ತು ಸೌರ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಅಂದಾಜು ಮಾಡುವುದು: ಒಂದು ಪರಿಚಯ.ಇಂಧನ ಉಳಿತಾಯ.64, 542–551.https://doi.org/10.1016/j.eneco.2017.03.027 (2017).
ಲೀ, HJ, ಪಾರ್ಕ್, S. & ಕಿಮ್, H. ವೆನಾಡಿಯಮ್/ಮ್ಯಾಂಗನೀಸ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ MnO2 ಮಳೆಯ ಪರಿಣಾಮದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆ. ಲೀ, HJ, ಪಾರ್ಕ್, S. & ಕಿಮ್, H. ವೆನಾಡಿಯಮ್/ಮ್ಯಾಂಗನೀಸ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ MnO2 ಮಳೆಯ ಪರಿಣಾಮದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆ.ಲೀ, HJ, ಪಾರ್ಕ್, S. ಮತ್ತು ಕಿಮ್, H. ವೆನಾಡಿಯಮ್ ಮ್ಯಾಂಗನೀಸ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ MnO2 ಶೇಖರಣೆಯ ಪರಿಣಾಮದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆ. ಲೀ, HJ, ಪಾರ್ಕ್, S. & ಕಿಮ್, H. MnO2 沉淀对钒/锰氧化还原液流电池性能影响的分析。 ಲೀ, HJ, ಪಾರ್ಕ್, S. & ಕಿಮ್, H. MnO2ಲೀ, HJ, ಪಾರ್ಕ್, S. ಮತ್ತು ಕಿಮ್, H. ವೆನಾಡಿಯಮ್ ಮ್ಯಾಂಗನೀಸ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ MnO2 ಶೇಖರಣೆಯ ಪರಿಣಾಮದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆ.ಜೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.ಸಮಾಜವಾದಿ ಪಕ್ಷ.165(5), A952-A956.https://doi.org/10.1149/2.0881805jes (2018).
ಶಾ, ಎಎ, ತಂಗಿರಾಲಾ, ಆರ್., ಸಿಂಗ್, ಆರ್., ವಿಲ್ಸ್, ಆರ್‌ಜಿಎ & ವಾಲ್ಷ್, ಎಫ್‌ಸಿ ಎ ಡೈನಾಮಿಕ್ ಯುನಿಟ್ ಸೆಲ್ ಮಾಡೆಲ್ ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಾಗಿ. ಶಾ, ಎಎ, ತಂಗಿರಾಲಾ, ಆರ್., ಸಿಂಗ್, ಆರ್., ವಿಲ್ಸ್, ಆರ್‌ಜಿಎ & ವಾಲ್ಷ್, ಎಫ್‌ಸಿ ಎ ಡೈನಾಮಿಕ್ ಯುನಿಟ್ ಸೆಲ್ ಮಾಡೆಲ್ ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಾಗಿ.ಶಾ ಎಎ, ತಂಗಿರಾಲ ಆರ್, ಸಿಂಗ್ ಆರ್, ವಿಲ್ಸ್ ಆರ್ಜಿ.ಮತ್ತು ವಾಲ್ಷ್ ಎಫ್‌ಕೆ ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಎಲಿಮೆಂಟರಿ ಸೆಲ್‌ನ ಡೈನಾಮಿಕ್ ಮಾದರಿ. ಶಾ, ಎಎ, ತಂಗಿರಾಲಾ, ಆರ್., ಸಿಂಗ್, ಆರ್., ವಿಲ್ಸ್, ಆರ್ಜಿಎ & ವಾಲ್ಷ್, ಎಫ್ಸಿ 全钒液流电池的动态单元电池模型。 ಷಾ, AA, ತಂಗಿರಾಲಾ, R., ಸಿಂಗ್, R., ವಿಲ್ಸ್, RGA & ವಾಲ್ಷ್, FC.ಶಾ ಎಎ, ತಂಗಿರಾಲ ಆರ್, ಸಿಂಗ್ ಆರ್, ವಿಲ್ಸ್ ಆರ್ಜಿ.ಮತ್ತು ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ವಾಲ್ಷ್ ಎಫ್‌ಕೆ ಮಾಡೆಲ್ ಡೈನಾಮಿಕ್ ಸೆಲ್.ಜೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.ಸಮಾಜವಾದಿ ಪಕ್ಷ.158(6), A671.https://doi.org/10.1149/1.3561426 (2011).
ಗ್ಯಾಂಡೊಮಿ, YA, ಆರನ್, ಡಿಎಸ್, ಝವೊಡ್ಜಿನ್ಸ್ಕಿ, ಟಿಎ & ಮೆಂಚ್, ಎಂಎಂ ಇನ್ ಸಿತು ಸಂಭಾವ್ಯ ವಿತರಣಾ ಮಾಪನ ಮತ್ತು ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಾಗಿ ಮೌಲ್ಯೀಕರಿಸಿದ ಮಾದರಿ. ಗ್ಯಾಂಡೊಮಿ, YA, ಆರನ್, ಡಿಎಸ್, ಝವೊಡ್ಜಿನ್ಸ್ಕಿ, ಟಿಎ & ಮೆಂಚ್, ಎಂಎಂ ಇನ್ ಸಿತು ಸಂಭಾವ್ಯ ವಿತರಣಾ ಮಾಪನ ಮತ್ತು ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಾಗಿ ಮೌಲ್ಯೀಕರಿಸಿದ ಮಾದರಿ.ಗಾಂಡೋಮಿ, ಯು.A., ಆರನ್, DS, Zavodzinski, TA ಮತ್ತು ಮೆನ್ಚ್, MM ಇನ್-ಸಿಟು ಸಂಭಾವ್ಯ ವಿತರಣಾ ಮಾಪನ ಮತ್ತು ಆಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯಕ್ಕಾಗಿ ಮೌಲ್ಯೀಕರಿಸಿದ ಮಾದರಿ. ಗಾಂಡೋಮಿ, YA, ಆರನ್, DS, ಝವೊಡ್ಜಿನ್ಸ್ಕಿ, TA & ಮೆನ್ಚ್, MM ಗಾಂಡೋಮಿ, YA, ಆರನ್, DS, ಝವೊಡ್ಜಿನ್ಸ್ಕಿ, TA & ಮೆಂಚ್, MM.全ವನಾಡಿಯಮ್ ಆಕ್ಸಿಡೇಸ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ 液流液的原位 ಸಂಭಾವ್ಯ ವಿತರಣೆಯ ಮಾಪನ ಮತ್ತು ಮೌಲ್ಯೀಕರಣ ಮಾದರಿ.ಗಾಂಡೋಮಿ, ಯು.A., ಆರನ್, DS, Zavodzinski, TA ಮತ್ತು ಮೆಂಚ್, MM ಮಾಡೆಲ್ ಮಾಪನ ಮತ್ತು ಎಲ್ಲಾ-ವನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗಾಗಿ ಇನ್-ಸಿಟು ಸಂಭಾವ್ಯ ವಿತರಣೆಯ ಪರಿಶೀಲನೆ.ಜೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.ಸಮಾಜವಾದಿ ಪಕ್ಷ.163(1), A5188-A5201.https://doi.org/10.1149/2.0211601jes (2016).
Tsushima, S. & Suzuki, T. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಆರ್ಕಿಟೆಕ್ಚರ್ ಅನ್ನು ಆಪ್ಟಿಮೈಜ್ ಮಾಡಲು ಇಂಟರ್ ಡಿಜಿಟೇಟೆಡ್ ಫ್ಲೋ ಫೀಲ್ಡ್‌ನೊಂದಿಗೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಮಾಡೆಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಸಿಮ್ಯುಲೇಶನ್. Tsushima, S. & Suzuki, T. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಆರ್ಕಿಟೆಕ್ಚರ್ ಅನ್ನು ಆಪ್ಟಿಮೈಜ್ ಮಾಡಲು ಇಂಟರ್ ಡಿಜಿಟೇಟೆಡ್ ಫ್ಲೋ ಫೀಲ್ಡ್‌ನೊಂದಿಗೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಮಾಡೆಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಸಿಮ್ಯುಲೇಶನ್.Tsushima, S. ಮತ್ತು ಸುಜುಕಿ, T. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಆರ್ಕಿಟೆಕ್ಚರ್ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್‌ಗಾಗಿ ಕೌಂಟರ್-ಪೋಲರೈಸ್ಡ್ ಫ್ಲೋ ಜೊತೆಗೆ ಫ್ಲೋ-ಥ್ರೂ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಮಾಡೆಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಸಿಮ್ಯುಲೇಶನ್. ತ್ಸುಶಿಮಾ, ಎಸ್. & ಸುಜುಕಿ, ಟಿ. Tsushima, S. & Suzuki, T. 叉指流场的叉指流场的Vanadium ಆಕ್ಸೈಡ್ ರಿಡಕ್ಷನ್ ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಸ್ಟ್ರೀಮ್ ಬ್ಯಾಟರಿTsushima, S. ಮತ್ತು ಸುಜುಕಿ, T. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ರಚನೆಯ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್‌ಗಾಗಿ ಕೌಂಟರ್-ಪಿನ್ ಫ್ಲೋ ಫೀಲ್ಡ್‌ಗಳೊಂದಿಗೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳ ಮಾಡೆಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಸಿಮ್ಯುಲೇಶನ್.ಜೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.ಸಮಾಜವಾದಿ ಪಕ್ಷ.167(2), 020553. https://doi.org/10.1149/1945-7111/ab6dd0 (2020).
ಸನ್, ಬಿ ಸನ್, ಬಿSun, B. ಮತ್ತು Scyllas-Kazakos, M. ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗಾಗಿ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮಾರ್ಪಾಡು - I. ಸನ್, ಬಿ Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. ವೆನಾಡಿಯಮ್ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಕಡಿತ ದ್ರವ ಬ್ಯಾಟರಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ನಲ್ಲಿ 石墨 ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮಾರ್ಪಾಡು——I.Sun, B. ಮತ್ತು Scyllas-Kazakos, M. ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಕೆಗಾಗಿ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮಾರ್ಪಾಡು - I.ಶಾಖ ಚಿಕಿತ್ಸೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮ್.ಆಕ್ಟಾ 37(7), 1253-1260.https://doi.org/10.1016/0013-4686(92)85064-R (1992).
ಲಿಯು, ಟಿ., ಲಿ, ಎಕ್ಸ್., ಝಾಂಗ್, ಎಚ್. & ಚೆನ್, ಜೆ. ಸುಧಾರಿತ ಶಕ್ತಿ ಸಾಂದ್ರತೆಯೊಂದಿಗೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳ (ವಿಎಫ್‌ಬಿ) ಕಡೆಗೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲೆ ಪ್ರಗತಿ. ಲಿಯು, ಟಿ., ಲಿ, ಎಕ್ಸ್., ಝಾಂಗ್, ಎಚ್. & ಚೆನ್, ಜೆ. ಸುಧಾರಿತ ಶಕ್ತಿ ಸಾಂದ್ರತೆಯೊಂದಿಗೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳ (ವಿಎಫ್‌ಬಿ) ಕಡೆಗೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲೆ ಪ್ರಗತಿ.ಲಿಯು, ಟಿ., ಲಿ, ಎಕ್ಸ್., ಝಾಂಗ್, ಎಚ್. ಮತ್ತು ಚೆನ್, ಜೆ. ಸುಧಾರಿತ ವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಂದ್ರತೆಯೊಂದಿಗೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗೆ (ವಿಎಫ್‌ಬಿ) ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಪ್ರಗತಿ. ಲಿಯು, ಟಿ., ಲಿ, ಎಕ್ಸ್., ಜಾಂಗ್, ಎಚ್. & ಚೆನ್, ಜೆ. 提高功率密度的钒液流电池(VFB) 电极材料的进展。 ಲಿಯು, ಟಿ., ಲಿ, ಎಕ್ಸ್., ಜಾಂಗ್, ಹೆಚ್. & ಚೆನ್, ಜೆ.ಲಿಯು, ಟಿ., ಲಿ, ಎಸ್., ಜಾಂಗ್, ಎಚ್. ಮತ್ತು ಚೆನ್, ಜೆ. ಹೆಚ್ಚಿದ ಪವರ್ ಡೆನ್ಸಿಟಿಯೊಂದಿಗೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗೆ (ವಿಎಫ್‌ಬಿ) ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಮೆಟೀರಿಯಲ್ಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಅಡ್ವಾನ್ಸ್.J. ಎನರ್ಜಿ ಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.27(5), 1292-1303.https://doi.org/10.1016/j.jechem.2018.07.003 (2018).
ಲಿಯು, ಕ್ಯೂಎಚ್ ಮತ್ತು ಇತರರು.ಆಪ್ಟಿಮೈಸ್ಡ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ಕಾನ್ಫಿಗರೇಶನ್ ಮತ್ತು ಮೆಂಬರೇನ್ ಆಯ್ಕೆಯೊಂದಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ದಕ್ಷತೆಯ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಸೆಲ್.ಜೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.ಸಮಾಜವಾದಿ ಪಕ್ಷ.159(8), A1246-A1252.https://doi.org/10.1149/2.051208jes (2012).
ವೆಯಿ, ಜಿ., ಜಿಯಾ, ಸಿ., ಲಿಯು, ಜೆ ವೆಯಿ, ಜಿ., ಜಿಯಾ, ಸಿ., ಲಿಯು, ಜೆವೆಯ್, ಜಿ., ಜಿಯಾ, ಕ್ಯೂ., ಲಿಯು, ಜೆ. ಮತ್ತು ಯಾಂಗ್, ಕೆ. ಇಂಗಾಲದ ನ್ಯಾನೊಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಕಾರ್ಬನ್ ನ್ಯಾನೊಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳನ್ನು ಆಧರಿಸಿದ ಸಂಯೋಜಿತ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವೇಗವರ್ಧಕಗಳು ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಲು ತಲಾಧಾರವನ್ನು ಅನುಭವಿಸುತ್ತವೆ. ವೀ, ಜಿ., ಜಿಯಾ, ಸಿ., ಲಿಯು, ಜೆ. & ಯಾನ್, ಸಿ. ವೇಯ್, ಜಿ., ಜಿಯಾ, ಸಿ., ಲಿಯು, ಜೆವೆಯ್, ಜಿ., ಜಿಯಾ, ಕ್ಯೂ., ಲಿಯು, ಜೆ. ಮತ್ತು ಯಾಂಗ್, ಕೆ. ಇಂಗಾಲದ ನ್ಯಾನೊಟ್ಯೂಬ್ ವೇಗವರ್ಧಕದ ಸಂಯೋಜಿತ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರವು ಇಂಗಾಲದೊಂದಿಗೆ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಲ್ಲಿ ಅನ್ವಯಿಸಲು ತಲಾಧಾರವನ್ನು ಅನುಭವಿಸುತ್ತದೆ.ಜೆ. ಪವರ್220, 185–192.https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2012.07.081 (2012).
ಮೂನ್, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ ಆಮ್ಲೀಕೃತ CNT ಮೇಲೆ ಲೇಪಿತ ಬಿಸ್ಮತ್ ಸಲ್ಫೇಟ್ನ ಪರಿಣಾಮ. ಮೂನ್, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ ಆಮ್ಲೀಕೃತ CNT ಮೇಲೆ ಲೇಪಿತ ಬಿಸ್ಮತ್ ಸಲ್ಫೇಟ್ನ ಪರಿಣಾಮ.ಮೂನ್, ಎಸ್., ಕ್ವಾನ್, ಬಿಡಬ್ಲ್ಯೂ, ಚಾಂಗ್, ವೈ. ಮತ್ತು ಕ್ವಾನ್, ವೈ. ಫ್ಲೋ-ಥ್ರೂ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಆಕ್ಸಿಡೀಕೃತ ಸಿಎನ್‌ಟಿಗಳ ಮೇಲೆ ಬಿಸ್ಮತ್ ಸಲ್ಫೇಟ್‌ನ ಪ್ರಭಾವ. ಮೂನ್, ಎಸ್., ಕ್ವಾನ್, ಬಿಡಬ್ಲ್ಯೂ, ಚುಂಗ್, ವೈ. & ಕ್ವಾನ್, ವೈ. 涂在酸化CNT ಮೂನ್, ಎಸ್., ಕ್ವಾನ್, ಬಿಡಬ್ಲ್ಯೂ, ಚುಂಗ್, ವೈ. & ಕ್ವಾನ್, ವೈ. ಸಿಎನ್‌ಟಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣದ ಮೇಲೆ ಬಿಸ್ಮತ್ ಸಲ್ಫೇಟ್‌ನ ಪರಿಣಾಮ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಕಡಿತ ದ್ರವ ಹರಿವಿನ ಬ್ಯಾಟರಿ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ.ಮೂನ್, ಎಸ್., ಕ್ವಾನ್, ಬಿಡಬ್ಲ್ಯೂ, ಚಾಂಗ್, ವೈ. ಮತ್ತು ಕ್ವಾನ್, ವೈ. ಫ್ಲೋ-ಥ್ರೂ ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಆಕ್ಸಿಡೀಕೃತ ಸಿಎನ್‌ಟಿಗಳ ಮೇಲೆ ಬಿಸ್ಮತ್ ಸಲ್ಫೇಟ್‌ನ ಪ್ರಭಾವ.ಜೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.ಸಮಾಜವಾದಿ ಪಕ್ಷ.166(12), A2602.https://doi.org/10.1149/2.1181912jes (2019).
ಹುವಾಂಗ್ ಆರ್.-ಎಚ್.ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗಾಗಿ Pt/ಮಲ್ಟಿಲೇಯರ್ ಕಾರ್ಬನ್ ನ್ಯಾನೊಟ್ಯೂಬ್ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸಕ್ರಿಯ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರಗಳು.ಜೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.ಸಮಾಜವಾದಿ ಪಕ್ಷ.159(10), A1579.https://doi.org/10.1149/2.003210jes (2012).
ಕಾನ್, ಎಸ್. ಮತ್ತು ಇತರರು.ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳು ಆರ್ಗನೊಮೆಟಾಲಿಕ್ ಸ್ಕ್ಯಾಫೋಲ್ಡ್‌ಗಳಿಂದ ಪಡೆದ ಸಾರಜನಕ-ಡೋಪ್ಡ್ ಕಾರ್ಬನ್ ನ್ಯಾನೊಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳಿಂದ ಅಲಂಕರಿಸಲ್ಪಟ್ಟ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕ್ಯಾಟಲಿಸ್ಟ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತವೆ.ಜೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಸ್ಟ್ರಿ.ಸಮಾಜವಾದಿ ಪಕ್ಷ.165(7), A1388.https://doi.org/10.1149/2.0621807jes (2018).
ಖಾನ್, ಪಿ. ಮತ್ತು ಇತರರು.ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ನ್ಯಾನೊಶೀಟ್‌ಗಳು ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಲ್ಲಿ VO2+/ ಮತ್ತು V2+/V3+ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಜೋಡಿಗಳಿಗೆ ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲಿ ಸಕ್ರಿಯ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ.ಕಾರ್ಬನ್ 49(2), 693–700.https://doi.org/10.1016/j.carbon.2010.10.022 (2011).
ಗೊನ್ಜಾಲೆಜ್ Z. ಮತ್ತು ಇತರರು.ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್-ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್‌ನ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮಿಕಲ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯು ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಬ್ಯಾಟರಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗಾಗಿ ಭಾವಿಸಿದೆ.ಜೆ. ಪವರ್338, 155-162.https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2016.10.069 (2017).
Gonzalez, Z., Vizireanu, S., Dinescu, G., Blanco, C. & Santamaría, R. ಕಾರ್ಬನ್ ನ್ಯಾನೊವಾಲ್‌ಗಳು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಲ್ಲಿ ನ್ಯಾನೊಸ್ಟ್ರಕ್ಚರ್ಡ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. Gonzalez, Z., Vizireanu, S., Dinescu, G., Blanco, C. & Santamaría, R. ಕಾರ್ಬನ್ ನ್ಯಾನೊವಾಲ್‌ಗಳು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಲ್ಲಿ ನ್ಯಾನೊಸ್ಟ್ರಕ್ಚರ್ಡ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.ಗೊನ್ಜಾಲೆಜ್ Z., ವಿಜಿರಿಯಾನು S., ಡೈನೆಸ್ಕು G., ಬ್ಲಾಂಕೊ C. ಮತ್ತು Santamaria R. ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಲ್ಲಿ ನ್ಯಾನೊಸ್ಟ್ರಕ್ಚರ್ಡ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳಂತೆ ಕಾರ್ಬನ್ ನ್ಯಾನೊವಾಲ್‌ಗಳ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು.ಗೊನ್ಜಾಲೆಜ್ Z., ವಿಜಿರಿಯಾನು S., ಡೈನೆಸ್ಕು G., ಬ್ಲಾಂಕೊ S. ಮತ್ತು Santamaria R. ಕಾರ್ಬನ್ ನ್ಯಾನೊವಾಲ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು ವೆನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಲ್ಲಿ ನ್ಯಾನೊಸ್ಟ್ರಕ್ಚರ್ಡ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಡ್ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿವೆ.ನ್ಯಾನೋ ಎನರ್ಜಿ 1(6), 833–839.https://doi.org/10.1016/j.nanoen.2012.07.003 (2012).
Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. ಮೂರು-ಆಯಾಮದ ಮೆಸೊಪೊರಸ್ ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್-ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಕಾರ್ಬನ್ ಉನ್ನತ-ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗಾಗಿ ಭಾವಿಸಲಾಗಿದೆ. Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. ಮೂರು-ಆಯಾಮದ ಮೆಸೊಪೊರಸ್ ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್-ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಕಾರ್ಬನ್ ಉನ್ನತ-ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗಾಗಿ ಭಾವಿಸಲಾಗಿದೆ.Opar DO, Nankya R., Lee J., ಮತ್ತು Yung H. ಮೂರು-ಆಯಾಮದ ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್-ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಮೆಸೊಪೊರಸ್ ಕಾರ್ಬನ್ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗಾಗಿ ಭಾವಿಸಿದರು. ಓಪರ್, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. ಓಪರ್, DO, ನಂಕ್ಯಾ, R., ಲೀ, J. & ಜಂಗ್, H.Opar DO, Nankya R., Lee J., ಮತ್ತು Yung H. ಮೂರು-ಆಯಾಮದ ಗ್ರ್ಯಾಫೀನ್-ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಮೆಸೊಪೊರಸ್ ಕಾರ್ಬನ್ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ವನಾಡಿಯಮ್ ರೆಡಾಕ್ಸ್ ಫ್ಲೋ ಬ್ಯಾಟರಿಗಳಿಗಾಗಿ ಭಾವಿಸಿದರು.ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕೆಮ್.ಕಾಯಿದೆ 330, 135276. https://doi.org/10.1016/j.electacta.2019.135276 (2020).