Merci fir Äre Besuch op Nature.com. D'Browserversioun, déi Dir benotzt, huet limitéiert CSS-Ënnerstëtzung. Fir déi bescht Erfahrung empfeelen mir Iech, en aktualiséierte Browser ze benotzen (oder de Kompatibilitéitsmodus am Internet Explorer auszeschalten). An der Zwëschenzäit, fir weider Ënnerstëtzung ze garantéieren, wäerte mir d'Websäit ouni Stiler a JavaScript duerstellen.
TiO2 ass e Hallefleitermaterial, dat fir photoelektresch Konversioun benotzt gëtt. Fir hir Notzung vu Liicht ze verbesseren, goufen Néckel- a Sëlwersulfid-Nanopartikelen op der Uewerfläch vun TiO2-Nanodréit duerch eng einfach Tauch- a Photoreduktiounsmethod synthetiséiert. Eng Serie vu Studien iwwer d'kathodesch Schutzwierkung vun Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen op 304 Edelstol gouf duerchgefouert, an d'Morphologie, d'Zesummesetzung an d'Liichtabsorptiounseigenschaften vun de Materialien goufen ergänzt. D'Resultater weisen, datt déi virbereet Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen de beschte kathodesche Schutz fir 304 Edelstol kënne bidden, wann d'Zuel vun den Néckelsulfid-Imprägnatiouns-Nidderschlagszyklen 6 ass an d'Sëlwernitrat-Photoreduktiounskonzentratioun 0,1M ass.
D'Uwendung vun n-Typ Hallefleeder fir Photokathodeschutz mat Sonneliicht ass an de leschte Joren en heefegt Thema ginn. Wann Elektronen aus dem Valenzband (VB) vun engem Hallefleedermaterial vum Sonneliicht ugeschalt ginn, ginn se an de Leitungsband (CB) ugeschalt, fir photogeneréiert Elektronen ze generéieren. Wann de Leitungsbandpotential vum Hallefleeder oder Nanokomposit méi negativ ass wéi de Selbstätzpotential vum gebonnene Metall, ginn dës photogeneréiert Elektronen op d'Uewerfläch vum gebonnene Metall iwwerdroen. D'Akkumulatioun vun Elektronen féiert zu enger kathodescher Polariséierung vum Metall a bitt e kathodesche Schutz vum assoziéierte Metall1,2,3,4,5,6,7. Den Hallefleedermaterial gëtt theoretesch als eng net-afferlech Photoanode ugesinn, well déi anodesch Reaktioun net den Hallefleedermaterial selwer ofbaut, mä d'Oxidatioun vu Waasser duerch photogeneréiert Lächer oder adsorbéiert organesch Verschmotzungen, oder d'Präsenz vu Kollektoren fir photogeneréiert Lächer ofzespären. Am wichtegsten ass, datt den Hallefleedermaterial e CB-Potenzial muss hunn, dat méi negativ ass wéi de Korrosiounspotential vum geschützte Metall. Eréischt dann kënnen déi photogeneréiert Elektrone vum Leetungsband vum Hallefleeder an dat geschützt Metall passéieren. Studien iwwer photochemesch Korrosiounsbeständegkeet hunn sech op anorganesch n-Typ Hallefleedermaterialien mat breede Bandlücken (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7 konzentréiert, déi nëmmen op ultraviolett Liicht (< 400 nm) reagéieren, wouduerch d'Disponibilitéit vu Liicht reduzéiert gëtt. Studien iwwer photochemesch Korrosiounsbeständegkeet hunn sech op anorganesch n-Typ Hallefleedermaterialien mat breede Bandlücken (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7 konzentréiert, déi nëmmen op ultraviolett Liicht (< 400 nm) reagéieren, wouduerch d'Disponibilitéit vu Liicht reduzéiert gëtt. Исследования стойкости к фотохимической коррозии были сосредоточены op неорганических полупроводниковиковых широкой запрещенной зоной (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7, которые реагируют только op ультрафиолетовое излучно (<40 Joer), уменьшение доступности света. D'Fuerschung iwwer photochemesch Korrosiounsbeständegkeet huet sech op anorganesch Hallefleitermaterialien vum n-Typ mat enger breeder Bandlück (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7 konzentréiert, déi nëmmen op ultraviolett Stralung (< 400 nm) a reduzéierter Liichtverfügbarkeet reagéieren.光化学耐腐蚀性研究主要集中在具有宽带隙(3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 的无机n型半导体材料上，这些材料仅对紫外光（< 400 nm）有响应，减少光的可用光 化学 耐腐 蚀性 研究 主要 在 具有 宽带隙 宽带隙 宽带隙 (3.0–3.2ev) 1.52,6,6,6, 1.52,6,3 n 型 材料 上 ， 这些 材料 仅 对 （<400 nm） 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有有 有 有响应，减少光的可用性。 Исследования стойкости к фотохимической коррозии в основном были сосредоточены op неорганических полупровых n-типа с широкой запрещенной зоной (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7, которые чувствительны только к УФ-иючен (<40-ию). D'Fuerschung iwwer photochemesch Korrosiounsbeständegkeet huet sech haaptsächlech op anorganesch Hallefleitermaterialien mat breeder Bandlück (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7 vum n-Typ konzentréiert, déi nëmme empfindlech op UV-Stralung (<400 nm) reagéieren.Als Äntwert hëlt d'Disponibilitéit vu Liicht of.
Am Beräich vum Korrosiounsschutz op der Marine spillt d'Technologie vum photoelektrochemesche kathodesche Schutz eng Schlësselroll. TiO2 ass e Hallefleitmaterial mat exzellenter UV-Liichtabsorptioun an photokatalyteschen Eegeschaften. Wéinst der gerénger Liichtverbrauch rekombinéiere photogeneréiert Elektronelächer awer einfach a kënnen ënner donkelen Bedingungen net ofgeschiermt ginn. Weider Fuerschung ass néideg fir eng vernünfteg a machbar Léisung ze fannen. Et gouf bericht, datt vill Uewerflächenmodifikatiounsmethoden kënne benotzt ginn, fir d'Fotosensibilitéit vun TiO2 ze verbesseren, wéi z. B. Dotierung mat Fe, N, a Mëschung mat Ni3S2, Bi2Se3, CdTe, etc. Dofir gëtt TiO2-Komposit mat Materialien mat héijer photoelektrescher Konversiounseffizienz wäit verbreet am Beräich vum photogeneréierte kathodesche Schutz.
Nickelsulfid ass e Hallefleitmaterial mat enger schmueler Bandlück vun nëmmen 1,24 eV8,9. Wat méi schmuel d'Bandlück ass, wat méi staark d'Liichtnotzung ass. Nodeems de Nickelsulfid mat der Titandioxid-Uewerfläch gemëscht gouf, kann de Grad vun der Liichtnotzung erhéicht ginn. A Kombinatioun mat Titandioxid kann et d'Trennungseffizienz vu photogeneréierten Elektronen a Lächer effektiv verbesseren. Nickelsulfid gëtt wäit verbreet an der elektrokatalytescher Waasserstoffproduktioun, Batterien an der Zersetzung vu Schadstoffer8,9,10 benotzt. Seng Notzung am Photokathodeschutz gouf awer nach net beschriwwen. An dëser Studie gouf e schmueler Bandlück-Halleflichtermaterial gewielt fir de Problem vun der gerénger TiO2-Liichtnotzungseffizienz ze léisen. Nickel- a Sëlwersulfid-Nanopartikel goufen op d'Uewerfläch vun TiO2-Nanodréit duerch Tauch- respektiv Photoreduktiounsmethoden gebonnen. Den Ag/NiS/TiO2-Nanokomposit verbessert d'Liichtnotzungseffizienz a verlängert de Liichtabsorptiounsberäich vum ultraviolett Beräich bis an de siichtbare Beräich. Mëttlerweil gëtt d'Oflagerung vu Sëlwer-Nanopartikelen dem Ag/NiS/TiO2-Nanokomposit eng exzellent optesch Stabilitéit an e stabile kathodesche Schutz.
Fir d'éischt gouf eng Titanfolie mat enger Déckt vun 0,1 mm an enger Rengheet vun 99,9% fir d'Experimenter op eng Gréisst vun 30 mm × 10 mm geschnidden. Duerno gouf all Uewerfläch vun der Titanfolie 100 Mol mat 2500er Schleifpabeier poléiert an duerno hannereneen mat Aceton, absolutem Ethanol an destilléiertem Waasser gewäsch. Leet d'Titanplack 90 Minutten an eng Mëschung aus 85 °C (Natriumhydroxid:Natriumkarbonat:Waasser = 5:2:100), huelt se ewech a spült mat destilléiertem Waasser of. D'Uewerfläch gouf 1 Minutt mat enger HF-Léisung (HF:H2O = 1:5) geätzt, duerno ofwiesselnd mat Aceton, Ethanol an destilléiertem Waasser gewäsch a schliisslech fir d'Benotzung gedréchent. Titandioxid-Nanodréit goufen séier op der Uewerfläch vun der Titanfolie duerch en Een-Schrëtt-Anodiséierungsprozess fabrizéiert. Fir d'Anodiséierung gëtt e traditionellt Zweielektrodesystem benotzt, d'Aarbechtselektrode ass eng Titanplack an d'Géigeelektrode ass eng Platinelektrode. Setzt d'Titanplack mat Elektrodenklemmen an 400 ml vun enger 2 M NaOH-Léisung. De Gläichstroum vun der Stroumversuergung ass stabil bei ongeféier 1,3 A. D'Temperatur vun der Léisung gouf während der systemescher Reaktioun 180 Minutte laang op 80 °C gehalen. D'Titanplack gouf erausgeholl, mat Aceton an Ethanol gewäsch, mat destilléiertem Waasser gewäsch an natierlech gedréchent. Duerno goufen d'Prouwe bei 450 °C an e Muffeluewen geluecht (Heizungsquote 5 °C/min), 120 Minutte laang op enger konstanter Temperatur gehale an an en Dréchneschacht geluecht.
De Nickelsulfid-Titandioxid-Komposit gouf duerch eng einfach an einfach Tauchoflagerungsmethod kritt. Als éischt gouf Nickelnitrat (0,03 M) an Ethanol opgeléist a 20 Minutten ënner Magnéitrührung gehalen, fir eng Ethanolléisung vu Nickelnitrat ze kréien. Dann gouf Natriumsulfid (0,03 M) mat enger gemëschter Léisung vu Methanol (Methanol:Waasser = 1:1) preparéiert. Duerno goufen d'Titandioxid-Tabletten an déi uewe preparéiert Léisung geluecht, no 4 Minutten erausgeholl a fir 1 Minutt séier mat enger gemëschter Léisung vu Methanol a Waasser (Methanol:Waasser = 1:1) gewäsch. Nodeems d'Uewerfläch gedréchent war, goufen d'Tabletten an e Muffeluewen geluecht, 20 Minutten am Vakuum bei 380°C erhëtzt, op Raumtemperatur ofgekillt an gedréchent. Zuel vun de Zyklen 2, 4, 6 an 8.
Ag-Nanopartikelen hunn Ag/NiS/TiO2-Nanokomposite duerch Photoreduktioun modifizéiert12,13. De resultéierende Ag/NiS/TiO2-Nanokomposit gouf an d'Sëlwernitratléisung geluecht, déi fir den Experiment néideg war. Duerno goufen d'Prouwen 30 Minutte laang mat ultraviolett Liicht bestraalt, hir Uewerfläche goufe mat deioniséiertem Waasser gereinegt, an Ag/NiS/TiO2-Nanokomposite goufen duerch natierlech Trocknung kritt. Den uewe beschriwwenen experimentelle Prozess gëtt an der Figur 1 gewisen.
Ag/NiS/TiO2 Nanokomposite goufen haaptsächlech duerch Feldemissiounsrasterelektronemikroskopie (FESEM), Energiedispersiounsspektroskopie (EDS), Röntgenphotoelektronespektroskopie (XPS) a diffus Reflexioun am ultraviolette a visuelle Beräich (UV-Vis) charakteriséiert. D'FESEM gouf mat engem Nova NanoSEM 450 Mikroskop (FEI Corporation, USA) duerchgefouert. Beschleunigungsspannung 1 kV, Punktgréisst 2.0. Den Apparat benotzt eng CBS-Sond fir sekundär an zréckgestreet Elektronen fir d'Topographieanalyse ze empfänken. D'EMF gouf mat engem Oxford X-Max N50 EMF System (Oxford Instruments Technology Co., Ltd.) mat enger Beschleunigungsspannung vun 15 kV an enger Punktgréisst vun 3.0 duerchgefouert. Qualitativ a quantitativ Analyse mat charakteristesche Röntgenstrahlen. D'Röntgenphotoelektronespektroskopie gouf op engem Escalab 250Xi Spektrometer (Thermo Fisher Scientific Corporation, USA) duerchgefouert, deen an engem fixe Energiemodus mat enger Anregungsleistung vun 150 W a monochromatescher Al-Kα-Stralung (1486,6 eV) als Anregungsquell funktionéiert. E komplette Scanberäich vun 0–1600 eV, eng Gesamtenergie vun 50 eV, eng Schrëttbreet vun 1,0 eV an onreine Kuelestoff (~284,8 eV) goufen als Referenzen fir d'Korrektioun vun der Bindungsenergieladung benotzt. D'Passenergie fir enk Scannen war 20 eV mat engem Schrëtt vun 0,05 eV. D'diffus Reflexiounsspektroskopie am UV-sichtbare Beräich gouf op engem Cary 5000 Spektrometer (Varian, USA) mat enger Standard-Bariumsulfatplack am Scanberäich vun 10–80° duerchgefouert.
An dëser Aarbecht ass d'Zesummesetzung (Gewiichtsprozent) vum 304 Edelstol 0,08 C, 1,86 Mn, 0,72 Si, 0,035 P, 0,029 s, 18,25 Cr, 8,5 Ni, an de Rescht ass Fe. 10mm x 10mm x 10mm 304 Edelstol, Epoxy-gegott mat enger fräier Uewerfläch vun 1 cm2. Seng Uewerfläch gouf mat Siliziumcarbid-Sandpapier mat enger Korngréisst vun 2400 geschleeft an mat Ethanol gewäsch. Den Edelstol gouf dann 5 Minutten an deioniséiertem Waasser sonikéiert an duerno an engem Uewen gelagert.
Am OCP-Experiment goufen 304 Edelstol an eng Ag/NiS/TiO2 Photoanode respektiv an eng Photoanodezell placéiert (Fig. 2). D'Korrosiounszell gouf mat enger 3,5% NaCl-Léisung gefëllt, an 0,25 M Na2SO3 gouf als Lächerfalle an d'Photoanodenzell gegoss. Déi zwee Elektrolyte goufen aus der Mëschung mat enger Naphtholmembran getrennt. D'OCP gouf op enger elektrochemescher Aarbechtsstatioun (P4000+, USA) gemooss. D'Referenzelektrode war eng gesättigte Kalomelelektrode (SCE). Eng Liichtquell (Xenonlampe, PLS-SXE300C, Poisson Technologies Co., Ltd.) an eng Ofgrenzungsplack 420 goufen um Ausgang vun der Liichtquell placéiert, sou datt siichtbaart Liicht duerch d'Quarzglas op d'Photoanod passéiere kann. D'304 Edelstolelektrode ass mat engem Kofferdrot mat der Photoanode verbonnen. Virum Experiment gouf d'Elektrode aus 304 Edelstol 2 Stonnen an enger 3,5% NaCl-Léisung gedränkt, fir e stationären Zoustand ze garantéieren. Um Ufank vum Experiment, wann d'Luucht un- an ausgeschalt gëtt, erreechen déi ugereegt Elektronen vun der Photoanode d'Uewerfläch vum 304 Edelstol duerch den Drot.
An Experimenter iwwer d'Fotostroumdicht goufen 304SS- an Ag/NiS/TiO2-Photoanoden a Korrosiounszellen respektiv Photoanodenzellen placéiert (Fig. 3). D'Fotostroumdicht gouf um selwechten Opbau wéi um OCP gemooss. Fir déi tatsächlech Fotostroumdicht tëscht 304 Edelstol an der Photoanode ze kréien, gouf e Potentiostat als Nullwiderstandsamperemeter benotzt fir 304 Edelstol an d'Photoanod ënner net-polariséierte Konditiounen ze verbannen. Fir dëst ze maachen, goufen d'Referenz- an d'Géigeelektroden am experimentellen Opbau kuerzgeschloss, sou datt d'elektrochemesch Aarbechtsstatioun als Nullwiderstandsamperemeter funktionéiert huet, deen déi tatsächlech Stroumdicht moosse konnt. D'304 Edelstolelektrode ass mat der Mass vun der elektrochemescher Aarbechtsstatioun verbonnen, an d'Photoanod ass mat der Aarbechtselektrodenklemme verbonnen. Um Ufank vum Experiment, wann d'Luucht un- an ausgeschalt gëtt, erreechen déi ugereegt Elektrone vun der Photoanode duerch den Drot d'Uewerfläch vum 304 Edelstol. Zu dësem Zäitpunkt kann eng Ännerung vun der Photostroumdicht op der Uewerfläch vum 304 Edelstol observéiert ginn.
Fir d'kathodesch Schutzleistung vun Nanokompositen op 304 Edelstol ze studéieren, goufen Ännerungen am Photoioniséierungspotenzial vun 304 Edelstol an Nanokompositen, souwéi Ännerungen an der Photoioniséierungsstroumdicht tëscht Nanokompositen an 304 Edelstol getest.
An der Fig. 4 ginn d'Ännerungen am Open-Circuit-Potenzial vun 304 Edelstol a Nanokompositen ënner Bestrahlung mat siichtbarem Liicht an ënner donkelen Bedingungen gewisen. An der Fig. 4a gëtt den Afloss vun der NiS-Oflagerungszäit duerch Tauchen op den Open-Circuit-Potenzial gewisen, an der Fig. 4b gëtt den Effekt vun der Sëlwernitratkonzentratioun op den Open-Circuit-Potenzial während der Photoreduktioun gewisen. An der Fig. 4a gëtt gewisen, datt den Open-Circuit-Potenzial vum NiS/TiO2-Nanokomposit, deen un 304 Edelstol gebonnen ass, am Moment wou d'Lamp ageschalt gëtt, am Verglach zum Nickelsulfid-Komposit däitlech reduzéiert gëtt. Zousätzlech ass den Open-Circuit-Potenzial méi negativ wéi dee vu puren TiO2-Nanodréit, wat drop hiweist, datt den Nickelsulfid-Komposit méi Elektronen generéiert an den Photokathode-Schutzeffekt duerch TiO2 verbessert. Um Enn vun der Beliichtung klëmmt den Leerlaaschtpotenzial awer séier op den Leerlaaschtpotenzial vun Edelstol, wat drop hiweist, datt Nickelsulfid keen Energiespeichereffekt huet. Den Effekt vun der Unzuel vun den Tauchenoflagerungszyklen op den Open-Circuit-Potenzial kann an der Fig. 4a observéiert ginn. Bei enger Oflagerungszäit vu 6 erreecht dat extremt Potenzial vum Nanokomposit -550 mV am Verhältnes zu der gesättigter Kalomelelektrode, an dat Potenzial vum ofgesaten Nanokomposit ëm e Faktor 6 ass däitlech méi niddreg wéi dat vum Nanokomposit ënner anere Konditiounen. Dofir hunn d'NiS/TiO2-Nanokompositen, déi no 6 Oflagerungszyklen kritt goufen, dee beschte kathodesche Schutz fir 304 Edelstol geliwwert.
Ännerungen am OCP vun 304 Edelstahlelektroden mat NiS/TiO2 Nanokompositen (a) an Ag/NiS/TiO2 Nanokompositen (b) mat an ouni Beliichtung (λ > 400 nm).
Wéi an der Fig. 4b gewisen, gouf den Open-Circuit-Potenzial vun 304 Edelstol an Ag/NiS/TiO2 Nanokompositen däitlech reduzéiert, wann se Liicht ausgesat waren. No der Uewerflächenoflagerung vu Sëlwer-Nanopartikelen gouf den Open-Circuit-Potenzial am Verglach mat puren TiO2-Nanodréit däitlech reduzéiert. De Potenzial vum NiS/TiO2 Nanokomposit ass méi negativ, wat drop hiweist, datt den kathodesche Schutzeffekt vum TiO2 sech däitlech verbessert, nodeems Ag-Nanopartikel ofgesat goufen. Den Open-Circuit-Potenzial ass um Enn vun der Beliichtung séier eropgaang, an am Verglach mat der gesättigte Kalomelelektrode konnt den Open-Circuit-Potenzial -580 mV erreechen, wat méi niddreg war wéi dee vum 304 Edelstol (-180 mV). Dëst Resultat weist drop hin, datt den Nanokomposit en bemierkenswäerten Energiespäichereffekt huet, nodeems Sëlwerpartikelen op senger Uewerfläch ofgesat goufen. An der Fig. 4b gëtt och den Effekt vun der Sëlwernitratkonzentratioun op den Open-Circuit-Potenzial gewisen. Bei enger Sëlwernitratkonzentratioun vun 0,1 M erreecht de Limit-Potenzial am Verglach zu enger gesättigte Kalomelelektrode -925 mV. No 4 Uwendungszyklen ass de Potenzial um Niveau vun der éischter Uwendung bliwwen, wat op déi exzellent Stabilitéit vum Nanokomposit hiweist. Sou huet den resultéierenden Ag/NiS/TiO2 Nanokomposit bei enger Sëlwernitratkonzentratioun vun 0,1 M dee beschten kathodesche Schutzeffekt op 304 Edelstol.
D'NiS-Oflagerung op der Uewerfläch vun TiO2-Nanodréit verbessert sech graduell mat der zouhuelender NiS-Oflagerungszäit. Wann siichtbaart Liicht op d'Uewerfläch vum Nanodrot trëfft, ginn méi Nickelsulfid-aktiv Plazen ugereegt fir Elektronen ze generéieren, an de Photoioniséierungspotenzial hëlt weider of. Wann awer Nickelsulfid-Nanopartikelen exzessiv op der Uewerfläch ofgesat ginn, gëtt den ugereegten Nickelsulfid reduzéiert, wat net zur Liichtabsorptioun bäidréit. Nodeems d'Sëlwerpartikelen op der Uewerfläch ofgesat sinn, ginn déi generéiert Elektronen duerch den Uewerflächenplasmonresonanzeffekt vun de Sëlwerpartikelen séier op d'Uewerfläch vum 304 Edelstol transferéiert, wat zu engem exzellenten kathodesche Schutzeffekt féiert. Wann ze vill Sëlwerpartikelen op der Uewerfläch ofgesat ginn, ginn d'Sëlwerpartikelen zu engem Rekombinatiounspunkt fir Photoelektronen a Lächer, wat net zur Generatioun vu Photoelektronen bäidréit. Zesummefaassend kënnen Ag/NiS/TiO2-Nanokomposite de beschte kathodesche Schutz fir 304 Edelstol no enger 6-facher Nickelsulfidoflagerung ënner 0,1 M Sëlwernitrat ubidden.
De Wäert vun der Photostroumdicht representéiert d'Trennkraaft vu photogeneréierten Elektronen a Lächer, a wat méi grouss d'Photostroumdicht ass, wat méi staark d'Trennkraaft vu photogeneréierten Elektronen a Lächer ass. Et gi vill Studien, déi weisen, datt NiS wäit verbreet an der Synthese vu photokatalytesche Materialien agesat gëtt, fir d'photoelektresch Eegeschafte vu Materialien ze verbesseren an d'Lächer ze trennen15,16,17,18,19,20. Chen et al. hunn edelmetallfräie Graphen- a g-C3N4-Kompositen studéiert, déi mat NiS15 ko-modifizéiert goufen. Déi maximal Intensitéit vum Photostroum vum modifizéierte g-C3N4/0,25%RGO/3%NiS ass 0,018 μA/cm2. Chen et al. hunn CdSe-NiS mat enger Photostroumdicht vu ronn 10 µA/cm2,16 studéiert. Liu et al. hunn e CdS@NiS-Komposit mat enger Photostroumdicht vun 15 µA/cm2,18 synthetiséiert. D'Benotzung vun NiS fir de Schutz vun der Photokathode ass awer nach net gemellt ginn. An eiser Studie gouf d'Fotostroumdicht vun TiO2 duerch d'Modifikatioun vun NiS däitlech erhéicht. Abb. 5 weist Ännerungen an der Fotostroumdicht vun 304 Edelstol an Nanokompositen ënner siichtbare Liichtbedingungen an ouni Beliichtung. Wéi an Abb. 5a gewisen, klëmmt d'Fotostroumdicht vum NiS/TiO2 Nanokomposit séier am Moment wou d'Liicht ugeschalt gëtt, an d'Fotostroumdicht ass positiv, wat de Floss vun Elektronen vum Nanokomposit op d'Uewerfläch duerch d'elektrochemesch Aarbechtsstatioun weist. 304 Edelstol. No der Virbereedung vun Néckelsulfidkompositen ass d'Fotostroumdicht méi grouss wéi déi vu puren TiO2 Nanodréit. D'Fotostroumdicht vun NiS erreecht 220 μA/cm2, wat 6,8 Mol méi héich ass wéi déi vun TiO2 Nanodréit (32 μA/cm2), wann NiS 6 Mol agetaucht an ofgesat gëtt. Wéi an Abb. 5b war d'Photostroumdicht tëscht dem Ag/NiS/TiO2-Nanokomposit an dem 304 Edelstol däitlech méi héich wéi tëscht purem TiO2 an dem NiS/TiO2-Nanokomposit, wann en ënner enger Xenonlampe ugeschalt gouf. An der Fig. 5b weist d'Figur och den Effekt vun der AgNO-Konzentratioun op d'Photostroumdicht während der Photoreduktioun. Bei enger Sëlwernitratkonzentratioun vun 0,1 M erreecht seng Photostroumdicht 410 μA/cm2, wat 12,8-mol méi héich ass wéi dat vun TiO2-Nanodréit (32 μA/cm2) an 1,8-mol méi héich wéi dat vun NiS/TiO2-Nanokompositen. En Heterojunction-elektrescht Feld gëtt op der Ag/NiS/TiO2-Nanokomposit-Grenzfläche geformt, wat d'Trennung vu photogeneréierten Elektronen vu Lächer erliichtert.
Ännerungen an der Photostroumdicht vun enger 304 Edelstahlelektrode mat (a) NiS/TiO2 Nanokomposit an (b) Ag/NiS/TiO2 Nanokomposit mat an ouni Beliichtung (λ > 400 nm).
Sou erreecht d'Fotostroumdicht tëscht Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen an 304-Edelstol no 6 Zyklen vun Tauchung an 0,1 M konzentréiertem Sëlwernitrat 410 μA/cm2, wat méi héich ass wéi déi vun de gesättigte Kalomelelektroden. -925 mV erreecht ënner dëse Konditiounen. 304-Edelstol a Kombinatioun mat Ag/NiS/TiO2 kann de beschte kathodesche Schutz bidden.
Op Fig. 6 weisen Uewerflächenelektronenmikroskopbiller vu puren Titandioxid-Nanodréit, Komposit-Nanodréit aus Nickelsulfid a Sëlwernanodréit ënner optimale Konditiounen. Op Fig. 6a, d weisen puren TiO2-Nanodréit, déi duerch Eenstuf-Anodiséierung kritt goufen. D'Uewerflächenverdeelung vun den Titandioxid-Nanodréit ass gläichméisseg, d'Strukturen vun den Nanodréit si no beieneen, an d'Poregréisstverdeelung ass gläichméisseg. D'Figuren 6b an e sinn Elektronemikroskopfotoe vun Titandioxid no 6-facher Imprägnatioun an Oflagerung vu Nickelsulfid-Kompositen. Aus engem 200.000-fach vergréisserten elektronenmikroskopesche Bild an der Fig. 6e kann een erkennen, datt d'Nanodréit aus Nickelsulfid relativ homogen sinn an eng grouss Partikelgréisst vun ongeféier 100–120 nm am Duerchmiesser hunn. E puer Nanopartikel kënnen an der raimlecher Positioun vun den Nanodréit observéiert ginn, an Titandioxid-Nanodréit si kloer ze gesinn. Op Fig. 6c,f weisen elektronemikroskopesch Biller vun NiS/TiO2-Nanokompositen bei enger AgNO3-Konzentratioun vun 0,1 M. Am Verglach mat de Fig. 6b an der Fig. 6e weisen d'Fig. 6c an d'Fig. 6f, datt d'Ag-Nanopartikelen op der Uewerfläch vum Kompositmaterial ofgesat sinn, woubäi d'Ag-Nanopartikelen gläichméisseg mat engem Duerchmiesser vu ronn 10 nm verdeelt sinn. Op der Fig. 7 weist een e Querschnitt vun Ag/NiS/TiO2-Nanofilmer, déi 6 Zyklen vun NiS-Tauchoflagerung bei enger AgNO3-Konzentratioun vun 0,1 M ënnerworf goufen. Aus Biller mat héijer Vergréisserung war déi gemoossene Filmdicke 240-270 nm. Sou sinn Néckel- a Sëlwersulfid-Nanopartikelen op der Uewerfläch vun TiO2-Nanodréit zesummegesat.
Rengt TiO2 (a, d), NiS/TiO2 Nanokomposite mat 6 Zyklen NiS Tauchoflagerung (b, e) an Ag/NiS/NiS mat 6 Zyklen NiS Tauchoflagerung bei 0,1 M AgNO3 SEM-Biller vun TiO2 Nanokomposite (c, e).
Querschnitt vun Ag/NiS/TiO2-Nanofilmer, déi 6 Zyklen NiS-Tauchoflagerung bei enger AgNO3-Konzentratioun vun 0,1 M ënnerworf goufen.
An der Fig. 8 gëtt d'Uewerflächenverdeelung vun den Elementer iwwer d'Uewerfläch vun Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen gewisen, déi aus 6 Zyklen vun Néckelsulfid-Tauchoflagerung bei enger Sëlwernitratkonzentratioun vun 0,1 M kritt goufen. D'Uewerflächenverdeelung vun den Elementer weist, datt Ti, O, Ni, S an Ag mat Hëllef vun der Energiespektroskopie nogewise goufen. Wat den Inhalt ugeet, sinn Ti an O déi heefegst Elementer an der Verdeelung, während Ni an S ongeféier d'selwecht sinn, awer hiren Inhalt vill méi niddereg ass wéi dee vum Ag. Et kann och bewisen ginn, datt d'Quantitéit vun den Uewerflächenkomposit-Sëlwer-Nanopartikelen méi grouss ass wéi déi vum Néckelsulfid. Déi gläichméisseg Verdeelung vun den Elementer op der Uewerfläch weist drop hin, datt Néckel a Sëlwersulfid gläichméisseg op der Uewerfläch vun den TiO2-Nanodréit gebonnen sinn. Zousätzlech gouf eng Röntgenphotoelektronespektroskopesch Analyse duerchgefouert, fir déi spezifesch Zesummesetzung an den Bindungszoustand vun de Substanzen z'analyséieren.
Verdeelung vun den Elementer (Ti, O, Ni, S an Ag) vun Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen bei enger AgNO3-Konzentratioun vun 0,1 M fir 6 Zyklen vun NiS-Tauchoflagerung.
An der Fig. 9 weist d'XPS-Spektre vun Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen, déi mat 6 Zyklen vun Néckelsulfid-Oflagerung duerch Immersioun an 0,1 M AgNO3 kritt goufen, woubäi d'Fig. 9a de ganze Spektrum ass, an de Rescht vun de Spektre Spektre mat héijer Opléisung vun den Elementer sinn. Wéi um Vollspektrum an der Fig. 9a ze gesinn ass, goufen Absorptiounspeaken vun Ti, O, Ni, S an Ag am Nanokomposit fonnt, wat d'Existenz vun dëse fënnef Elementer beweist. D'Testergebnisse waren am Aklang mam EDS. Den Iwwerschosspeak an der Figur 9a ass de Kuelestoffpeak, deen benotzt gëtt fir d'Bindungsenergie vun der Prouf ze korrigéieren. An der Fig. 9b weist en héichopléisende Energiespektrum vun Ti. D'Absorptiounspeaken vun den 2p-Orbitalen leien bei 459,32 an 465 eV, wat der Absorptioun vun den Ti 2p3/2- an Ti 2p1/2-Orbitalen entspriechen. Zwee Absorptiounspeaken beweisen, datt Titan eng Ti4+-Valenz huet, déi dem Ti an TiO2 entsprécht.
XPS-Spektre vun Ag/NiS/TiO2-Miessungen (a) an héichopléisend XPS-Spektre vun Ti2p(b), O1s(c), Ni2p(d), S2p(e) an Ag3d(f).
An der Fig. 9d ass en héichopléisenden Ni-Energiespektrum mat véier Absorptiounspeaken fir den Ni 2p-Orbital ze gesinn. D'Absorptiounspeaken bei 856 an 873,5 eV entspriechen den Ni 2p3/2- an Ni 2p1/2-8.10-Orbitalen, wou d'Absorptiounspeaken zum NiS gehéieren. D'Absorptiounspeaken bei 881 an 863 eV si fir Néckelnitrat a gi vum Néckelnitratreagens während der Proufvirbereedung verursaacht. An der Fig. 9e ass en héichopléisenden S-Spektrum ze gesinn. D'Absorptiounspeaken vun den S 2p-Orbitalen leien bei 161,5 an 168,1 eV, déi den S 2p3/2- an S 2p1/2-Orbitalen 21, 22, 23, 24 entspriechen. Dës zwou Peaken gehéieren zu Néckelsulfidverbindungen. D'Absorptiounspeaken bei 169,2 an 163,4 eV si fir den Natriumsulfidreagens. An der Fig. 9f weist en héichopléisend Ag-Spektrum, an deem d'3D-Orbitalabsorptiounspeaken vum Sëlwer bei 368,2 respektiv 374,5 eV leien, an zwou Absorptiounspeaken den Absorptiounsëmlafbunne vun Ag 3d5/2 an Ag 3d3/212 entspriechen, 13. D'Speaken op dësen zwou Plazen beweisen, datt Sëlwer-Nanopartikelen am Zoustand vum elementare Sëlwer existéieren. Dofir bestinn d'Nanokomposite haaptsächlech aus Ag, NiS an TiO2, wat duerch Röntgenphotoelektronespektroskopie bestëmmt gouf, déi bewisen huet, datt Néckel- a Sëlwersulfid-Nanopartikel erfollegräich op der Uewerfläch vun TiO2-Nanodréit kombinéiert goufen.
An der Fig. 10 sinn UV-VIS diffus Reflexiounsspektre vu frësch preparéierten TiO2-Nanodréit, NiS/TiO2-Nanokompositen an Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen ze gesinn. Aus der Figur ass ze gesinn, datt d'Absorptiounsschwell vun TiO2-Nanodréit ongeféier 390 nm ass, an d'absorbéiert Liicht haaptsächlech am ultraviolettberäich konzentréiert ass. Aus der Figur ass ze gesinn, datt no der Kombinatioun vun Néckel- a Sëlwersulfid-Nanopartikelen op der Uewerfläch vun den Titandioxid-Nanodréit 21, 22, d'absorbéiert Liicht an de siichtbare Liichtberäich ausbreet. Gläichzäiteg huet den Nanokomposit eng erhéicht UV-Absorptioun, wat mat enger schmueler Bandlück vum Néckelsulfid verbonnen ass. Wat méi schmuel d'Bandlück ass, wat méi niddreg d'Energiebarrière fir elektronesch Iwwergäng ass an de Grad vun der Liichtausnotzung méi héich ass. Nodeems d'NiS/TiO2-Uewerfläch mat Sëlwernanopartikelen kombinéiert gouf, sinn d'Absorptiounsintensitéit an d'Liichtwellelängt net signifikant eropgaang, haaptsächlech wéinst dem Effekt vun der Plasmonresonanz op der Uewerfläch vun de Sëlwernanopartikelen. D'Absorptiounswellelängt vun TiO2-Nanodréit verbessert sech net wesentlech am Verglach mat der schmueler Bandlück vun de komposit NiS-Nanopartikelen. Zesummegefaasst, nodeems Komposit-Néckelsulfid- a Sëlwernanopartikelen op der Uewerfläch vun Titandioxid-Nanodréit fonnt goufen, sinn hir Liichtabsorptiounseigenschaften däitlech verbessert ginn, an de Liichtabsorptiounsberäich gëtt vun ultraviolett bis siichtbaart Liicht erweidert, wat d'Auslastungsquote vun Titandioxid-Nanodréit verbessert. Liicht, dat d'Fäegkeet vum Material verbessert, Photoelektrone ze generéieren.
UV/Vis diffus Reflexiounsspektre vu frëschen TiO2-Nanodréit, NiS/TiO2-Nanokompositen an Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen.
An der Fig. 11 gëtt de Mechanismus vun der photochemescher Korrosiounsbeständegkeet vun Ag/NiS/TiO2 Nanokompositen ënner Bestrahlung mat siichtbarem Liicht gewisen. Baséierend op der Potenzialverdeelung vu Sëlwer-Nanopartikelen, Néckelsulfid an dem Leitungsband vun Titandioxid, gëtt eng méiglech Kaart vum Mechanismus vun der Korrosiounsbeständegkeet virgeschloen. Well de Leitungsbandpotenzial vun Nanosëlwer negativ ass am Verglach zum Néckelsulfid, an de Leitungsbandpotenzial vum Néckelsulfid negativ ass am Verglach zum Titandioxid, ass d'Richtung vum Elektronenfloss ongeféier Ag→NiS→TiO2→304 Edelstol. Wann Liicht op d'Uewerfläch vum Nanokomposit bestraalt gëtt, kann Nanosëlwer wéinst dem Effekt vun der Uewerflächenplasmonresonanz vum Nanosëlwer séier photogeneréiert Lächer an Elektronen generéieren, an photogeneréiert Elektronen réckelen séier vun der Valenzbandpositioun an d'Leedungsbandpositioun wéinst der Anregung. Titandioxid a Néckelsulfid. Well d'Leetfäegkeet vu Sëlwer-Nanopartikelen méi negativ ass wéi déi vum Néckelsulfid, ginn d'Elektronen an der TS vu Sëlwer-Nanopartikelen séier an TS vu Néckelsulfid ëmgewandelt. De Konduktivitéitspotenzial vum Néckelsulfid ass méi negativ wéi dee vum Titandioxid, sou datt d'Elektronen vum Néckelsulfid an d'Konduktivitéit vum Sëlwer sech séier am CB vum Titandioxid sammelen. Déi generéiert photogeneréiert Elektronen erreechen d'Uewerfläch vum 304 Edelstol duerch d'Titanmatrix, an déi beräichert Elektronen huelen um kathodesche Sauerstoffreduktiounsprozess vum 304 Edelstol deel. Dëse Prozess reduzéiert d'kathodesch Reaktioun an ënnerdréckt gläichzäiteg d'anodesch Opléisungsreaktioun vum 304 Edelstol, wouduerch de kathodesche Schutz vum 304 Edelstol realiséiert gëtt. Duerch d'Bildung vum elektresche Feld vun der Heterojunction am Ag/NiS/TiO2 Nanokomposit gëtt de konduktivitéitspotenzial vum Nanokomposit op eng méi negativ Positioun verréckelt, wat de kathodesche Schutzeffekt vum 304 Edelstol méi effektiv verbessert.
Schematesch Duerstellung vum photoelektrochemeschen Antikorrosiounsprozess vun Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen a siichtbarem Liicht.
An dëser Aarbecht goufen Néckel- a Sëlwersulfid-Nanopartikelen op der Uewerfläch vun TiO2-Nanodréit duerch eng einfach Tauch- a Photoreduktiounsmethod synthetiséiert. Eng Serie vu Studien iwwer de kathodesche Schutz vun Ag/NiS/TiO2-Nanokompositen op 304 Edelstol gouf duerchgefouert. Baséierend op de morphologesche Charakteristiken, der Analyse vun der Zesummesetzung an der Analyse vun de Liichtabsorptiounseigenschaften, goufen déi folgend Haaptconclusiounen gezunn:
Mat enger Rei vun Imprägnatiouns-Depositiounszyklen vu Nickelsulfid vu 6 an enger Konzentratioun vu Sëlwernitrat fir Photoreduktioun vun 0,1 mol/l haten déi resultéierend Ag/NiS/TiO2 Nanokompositen eng besser kathodesch Schutzwierkung op 304 Edelstol. Am Verglach mat enger gesättigter Kalomelelektrode erreecht de Schutzpotenzial -925 mV an de Schutzstroum erreecht 410 μA/cm2.
En Heterojunction-elektrescht Feld gëtt op der Ag/NiS/TiO2-Nanokomposit-Grenzfläche geformt, wat d'Trennkraaft vu photogeneréierten Elektronen a Lächer verbessert. Gläichzäiteg gëtt d'Liichtausnotzungseffizienz erhéicht an de Liichtabsorptiounsberäich gëtt vum ultraviolettberäich bis zum siichtbare Beräich verlängert. Den Nanokomposit behält säin ursprénglechen Zoustand mat gudder Stabilitéit no 4 Zyklen.
Experimentell preparéiert Ag/NiS/TiO2 Nanokomposite hunn eng eenheetlech an dicht Uewerfläch. Nickelsulfid a Sëlwer-Nanopartikel sinn eenheetlech op der Uewerfläch vun TiO2-Nanodréit zesummegesat. Komposit-Kobaltferrit- a Sëlwer-Nanopartikel si vun héijer Rengheet.
Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Photokathodesche Schutzeffekt vun TiO2-Filmer fir Kuelestol a 3% NaCl-Léisungen. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Photokathodesche Schutzeffekt vun TiO2-Filmer fir Kuelestol a 3% NaCl-Léisungen. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Photokathode-Schutzeffekt vun TiO2-Filmer fir Kuelestol a 3% NaCl-Léisungen. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN . Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Photokathodeschutz vu Kuelestol mat TiO2-Dënnschichten an 3% NaCl-Léisung.Elektrochem. Acta 50, 3401–3406 (2005).
Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG Photogeneréierte kathodesche Schutz vu blumenähnlechen, nanostrukturéierten, N-dotierten TiO2-Film op Edelstol. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG Photogeneréierte kathodesche Schutz vu blumenähnlechen, nanostrukturéierten, N-dotierten TiO2-Film op Edelstol.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK an Du, RG Photogeneréierte kathodesche Schutz vun engem nanostrukturéierten, stickstoff-dotierten TiO2-Film a Form vun enger Blumm op Edelstol. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG 花状纳米结构N 掺杂TiO2 薄膜在不锈钢上的光生阴极保护。 Li J, Lin CJ, Lai YK, Du RG.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK an Du, RG Photogeneréierte kathodesche Schutz vu stickstoffdotierten TiO2 blumefërmegen nanostrukturéierte Dënnschichten op Edelstol.Surfen E Mantel. Technologie 205, 557–564 (2010).
Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Photogeneréiert Kathodeschutzeigenschaften vun enger TiO2/WO3 Beschichtung an Nanogréisst. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Photogeneréiert Kathodeschutzeigenschaften vun enger TiO2/WO3 Beschichtung an Nanogréisst.Zhou, MJ, Zeng, ZO a Zhong, L. Photogeneréiert kathodesch Schutzeigenschaften vun enger TiO2/WO3-Nanoskala-Beschichtung. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能.Zhou MJ, Zeng ZO a Zhong L. Photogeneréiert kathodesch Schutzeigenschaften vun Nano-TiO2/WO3 Beschichtungen.Koros. D'Wëssenschaft. 51, 1386–1397 (2009).
Park, H., Kim, KY & Choi, W. Photoelektrochemesch Approche fir d'Verhënnerung vu Metallkorrosioun mat Hëllef vun enger Hallefleederphotoanode. Park, H., Kim, KY & Choi, W. Photoelektrochemesch Approche fir d'Verhënnerung vu Metallkorrosioun mat Hëllef vun enger Hallefleederphotoanode.Park, H., Kim, K.Yu. a Choi, V. E photoelektrochemeschen Usaz fir d'Verhënnerung vu Metallkorrosioun mat Hëllef vun enger Hallefleederphotoanode. Park, H., Kim, KY & Choi, W. 使用半导体光阳极防止金属腐蚀的光电化学方法. Park, H., Kim, KY & Choi, W.Park H., Kim K.Yu. a Choi V. Photoelektrochemesch Methoden zur Verhënnerung vu Korrosioun vu Metaller mat Hëllef vu Hallefleederphotoanoden.J. Physik. Chemie. V. 106, 4775–4781 (2002).
Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Studie iwwer eng hydrophob Nano-TiO2 Beschichtung an hir Eegeschafte fir de Korrosiounsschutz vu Metaller. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Studie iwwer eng hydrophob Nano-TiO2 Beschichtung an hir Eegeschafte fir de Korrosiounsschutz vu Metaller. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. . Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Ënnersichung vun enger hydrophober Nano-TiO2-Beschichtung an hiren Eegeschafte fir de Korrosiounsschutz vu Metaller. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Studie iwwer 疵水 Nano-Titandioxidbeschichtung a seng Metallkorrosiounsschutzeigenschaften. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Hydrophob Beschichtunge vun Nano-TiO2 an hir Korrosiounsschutzeigenschaften fir Metaller.Elektrochem. Acta 50, 5083–5089 (2005).
Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Eng Studie iwwer déi N-, S- a Cl-modifizéiert Nano-TiO2-Beschichtunge fir de Korrosiounsschutz vun Edelstol. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Eng Studie iwwer déi N-, S- a Cl-modifizéiert Nano-TiO2-Beschichtunge fir de Korrosiounsschutz vun Edelstol.Yun, H., Li, J., Chen, HB a Lin, SJ Ënnersichung vun Nano-TiO2-Beschichtungen, déi mat Stéckstoff, Schwefel a Chlor modifizéiert goufen, fir de Korrosiounsschutz vun Edelstol. Yun H, Li J, Chen HB, Lin CJ, Cl 改性纳米二氧化钛涂层用于不锈钢腐蚀防护的砂 Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ N, S a Cl Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Покрытия N, S и Cl, модифицированные нано-TiO2, fir защиты от коррозии нержавеющ. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Nano-TiO2 modifizéiert N-, S- a Cl-Beschichtunge fir de Korrosiounsschutz vun Edelstol.Elektrochemie. Band 52, 6679–6685 (2007).
Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Photokathodesch Schutzeigenschaften vun dräidimensionalen Titanat-Nanodrot-Netzwierkfilmer, déi duerch eng kombinéiert Sol-Gel- a hydrothermesch Method hiergestallt goufen. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Photokathodesch Schutzeigenschaften vun dräidimensionalen Titanat-Nanodrot-Netzwierkfilmer, déi duerch eng kombinéiert Sol-Gel- a hydrothermesch Method hiergestallt goufen. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ. приготовленных комбинированным золь-гель a гидротермическим методом. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Photokathodesch Schutzeigenschaften vun dräidimensionalen Netzfilmer aus Titanat-Nanodréit, déi duerch kombinéiert Sol-Gel- a hydrothermesch Method hiergestallt goufen. Zhu YF, Du RG, Chen W, Qi HQ, Lin CJ溶胶-凝胶和水热法制备三维钛酸盐纳米线网络薄膜的光阴极保护性能。 Zhu YF, Du RG, Chen W, Qi HQ, Lin CJ. D'Schutzeigenschaften vun 消铺-铲和水热法发气小水小水化用线线电视电器电影电影电影电影电影电影电影电影电 Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ. приготовленных золь-гель a гидротермическими методами. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Photokathodesch Schutzeigenschaften vun dräidimensionalen Titanat-Nanodrot-Netzwierk-Dënnschichten, déi duerch Sol-Gel- a hydrothermesch Methoden hiergestallt goufen.Elektrochemie. communicate 12, 1626–1629 (2010).
Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. E pn-Heterojunction NiS-sensibiliséiert TiO2 photokatalytescht System fir effizient Photoreduktioun vu Kuelendioxid zu Methan. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. E pn Heterojunction NiS-sensibiliséiert TiO2 photokatalytescht System fir effizient Photoreduktioun vu Kuelendioxid zu Methan.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM, a Kang, M. E pn-Heterojunction NiS-sensibiliséiert TiO2 photokatalytescht System fir effizient Photoreduktioun vu Kuelendioxid zu Methan. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. 一种pn 异质结NiS 敏化TiO2光催化系统，用于将二氧化碳高效光还原为甲烷。 Lee JH, Kim SI, Park SM, Kang M.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM, a Kang, M. E pn-Heterojunction NiS-sensibiliséiert TiO2 photokatalytescht System fir effizient Photoreduktioun vu Kuelendioxid zu Methan.Keramik. Interpretatioun. 43, 1768–1774 (2017).
Wang, QZ et al. CuS an NiS handelen als Kokatalysatoren fir d'photokatalytesch Waasserstoffentwécklung op TiO2 ze verbesseren. Interpretatioun. J.Hydro. Energy 39, 13421–13428 (2014).
Liu, Y. & Tang, C. Verbesserung vun der photokatalytescher H2-Evolutioun iwwer TiO2-Nanofolien duerch Uewerflächenbelaaschtung vun NiS2-Nanopartikelen. Liu, Y. & Tang, C. Verbesserung vun der photokatalytescher H2-Evolutioun iwwer TiO2-Nanofolien duerch Uewerflächenbelaaschtung vun NiS2-Nanopartikelen.Liu, Y. an Tang, K. Verbesserung vun der photokatalytescher H2-Fräisetzung an TiO2-Nanoschichtfilmer duerch Uewerflächenbelaaschtung vun NiS2-Nanopartikelen. Liu, Y. & Tang, C. 通过表面负载NiS 纳米颗粒增强TiO2 纳米片薄膜上的光催化产氢。 Liu, Y. & Tang, C.Liu, Y. an Tang, K. Verbessert photokatalytesch Waasserstoffproduktioun op dënnen Schichten aus TiO2-Nanoschichten duerch d'Oflagerung vun NiS2-Nanopartikelen op der Uewerfläch.las. J. Physik. Chemie. A 90, 1042–1048 (2016).
Huang, XW & Liu, ZJ Vergläichend Studie vun der Struktur an den Eegeschafte vun Ti-O-baséierten Nanodrotfilmer, déi duerch Anodiséierungs- a chemesch Oxidatiounsmethoden hiergestallt goufen. Huang, XW & Liu, ZJ Vergläichend Studie vun der Struktur an den Eegeschafte vun Ti-O-baséierten Nanodrotfilmer, déi duerch Anodiséierungs- a chemesch Oxidatiounsmethoden hiergestallt goufen. Huang, XW & Liu, ZJ. химического окисления. Huang, XW & Liu, ZJ Eng Vergläichsstudie vun der Struktur an den Eegeschafte vun Ti-O-Nanodrotfilmer, déi duerch Anodiséierungs- a chemesch Oxidatiounsmethoden kritt goufen. Huang, XW & Liu, ZJ 阳极氧化法和化学氧化法制备的Ti-O Huang, XW & Liu, ZJ 阳极oxidation法和chemicaloxidation法Virbereedung的Ti-O基基基小线Dënn Filmstruktur 和Property的Comparative Research. Huang, XW & Liu, ZJ. химическим окислением. Huang, XW & Liu, ZJ Eng Vergläichsstudie vun der Struktur an den Eegeschafte vun Ti-O-Nanodrot-Dënnschichten, déi duerch Anodiséierung a chemesch Oxidatioun hiergestallt goufen.J. Alma mater. Wëssenschaft an Technologie 30, 878–883 (2014).
Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag an SnO2 kosensibiliséiert TiO2 Photoanoden fir de Schutz vun 304SS ënner siichtbarem Liicht. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag an SnO2 kosensibiliséiert TiO2 Photoanoden fir de Schutz vun 304SS ënner siichtbarem Liicht. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag a SnO2 совместно сенсибилизировали фотоаноды TiO2 fir защиты 304SS в видимом свете. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag an SnO2 hunn TiO2 Photoanoden kosensibiliséiert fir 304SS a siichtbarem Liicht ze schützen. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag 和SnO2 共敏化TiO2 光阳极，用于在可见光下保护304SS。 Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Фотоанод TiO2, совместно сенсибилизированный Ag a SnO2, fir защиты 304SS в видимом светет. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Eng TiO2-Photoanod, déi mat Ag an SnO2 kosensibiliséiert ass, fir de sichtbare Liichtabschirmung vun 304SS.Koros. D'Wëssenschaft. 82, 145–153 (2014).
Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag a CoFe2O4 kosensibiliséiert TiO2 Nanodrot fir de photokathodesche Schutz vun 304 SS ënner siichtbarem Liicht. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag a CoFe2O4 kosensibiliséiert TiO2 Nanodrot fir de photokathodesche Schutz vun 304 SS ënner siichtbarem Liicht.Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. an Howe, BR Ag a CoFe2O4 goufen mat TiO2-Nanodrot fir 304 SS Photokathodeschutz a siichtbarem Liicht kosensibiliséiert. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag. Wen ZH, Wang N, Wang J, Hou BR AgWen, ZH, Wang, N., Wang, J. an Howe, BR Ag a CoFe2O4 hunn TiO2-Nanodréit kosensibiliséiert fir 304 SS Photokathodeschutz a siichtbarem Liicht.Interpretatioun. J. Elektrochemie. d'Wëssenschaft. 13, 752–761 (2018).
Bu, YY & Ao, JP E Réckbléck op photoelektrochemesch kathodesch Schutz-Hallefleeder-Dënnschichten fir Metaller. Bu, YY & Ao, JP E Réckbléck op de photoelektrochemesche kathodesche Schutz vu Hallefleeder-Dënnschichten fir Metaller. Bu, YY & Ao, JP. Bu, YY & Ao, JP Iwwerpréiwung vum photoelektrochemesche kathodesche Schutz vun Hallefleiter-Dënnschichten fir Metaller. Bu, YY & Ao, JP 金属光电化学阴极保护半导体薄膜综述。 Bu, YY & Ao, JP Metalliséierung 光电视光阴极电影电影电影电视设计. Bu, YY & Ao, JP. Bu, YY & Ao, JP Eng Iwwerpréiwung vum metallesche photoelektrochemesche kathodesche Schutz vu dënne Hallefleiterfilmer.Eng gréng Energieëmwelt. 2, 331–362 (2017).