Merci fir besicht Nature.com.D'Browser Versioun déi Dir benotzt huet limitéiert CSS Ënnerstëtzung.Fir déi bescht Erfahrung empfeelen mir Iech en aktualiséierte Browser ze benotzen (oder de Kompatibilitéitsmodus am Internet Explorer auszeschalten).An der Tëschenzäit, fir weider Ënnerstëtzung ze garantéieren, wäerte mir de Site ouni Stiler a JavaScript maachen.
TiO2 ass e Hallefleitmaterial dat fir photoelektresch Konversioun benotzt gëtt.Fir hir Notzung vu Liicht ze verbesseren, goufen Nickel a Sëlwer Sulfid Nanopartikel op der Uewerfläch vun TiO2 Nanowires synthetiséiert duerch eng einfach Tauchen a Photoreduktiounsmethod.Eng Serie vu Studien vun der kathodescher Schutzaktioun vun Ag/NiS/TiO2 Nanokompositen op 304 Edelstol gouf duerchgefouert, an d'Morphologie, d'Zesummesetzung an d'Liichtabsorptiounseigenschafte vu Materialien goufen ergänzt.D'Resultater weisen datt d'preparéiert Ag / NiS / TiO2 Nanokomposite de beschte kathodesche Schutz fir 304 Edelstahl ubidden wann d'Zuel vun den Nickelsulfid Imprägnatioun-Nidderschlagszyklen 6 ass an d'Sëlwernitratfotoreduktiounskonzentratioun 0.1M ass.
D'Applikatioun vun n-Typ Hallefleit fir Photocathode Schutz mat Sonneliicht ass an de leschte Joeren e waarmt Thema ginn.Wann se duerch Sonneliicht opgereegt ginn, ginn Elektronen aus der Valenzband (VB) vun engem Hallefleitmaterial an d'Leedungsband (CB) opgereegt fir fotogeneréiert Elektronen ze generéieren.Wann d'Leedungsbandpotenzial vum Hallefleeder oder Nanokomposit méi negativ ass wéi d'Selbstätsungspotenzial vum gebonnene Metall, ginn dës photogeneréiert Elektronen op d'Uewerfläch vum gebonnene Metall transferéiert.D'Akkumulation vun Elektronen féiert zur kathodescher Polariséierung vum Metall a bitt kathodesche Schutz vum assoziéierten Metall1,2,3,4,5,6,7.D'Halbleitermaterial gëtt theoretesch als net-opferend Photoanode ugesinn, well d'anodic Reaktioun net d'Halbleitermaterial selwer degradéiert, awer d'Oxidatioun vu Waasser duerch photogeneréiert Lächer oder adsorbéiert organesch Verschmotzung, oder d'Präsenz vu Sammler fir fotogeneréiert Lächer ze fangen.Virun allem muss d'Halbleitermaterial e CB Potenzial hunn dat méi negativ ass wéi d'Korrosiounspotenzial vum geschützte Metall.Nëmmen da kënnen déi photogeneréiert Elektronen vun der Leedungsband vum Hallefleit an dat geschützte Metall passéieren. Photochemesch Korrosiounsbeständegkeet Studien hu sech op anorganesch n-Typ Hallefleitmaterialien mat breet Bandlücken (3.0-3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 konzentréiert, déi nëmmen op ultraviolet Liicht reagéieren (<400 nm), wat d'Disponibilitéit vu Liicht reduzéiert. Photochemesch Korrosiounsbeständegkeet Studien hu sech op anorganesch n-Typ Hallefleitmaterialien mat breet Bandlücken (3.0-3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 konzentréiert, déi nëmmen op ultraviolet Liicht reagéieren (<400 nm), wat d'Disponibilitéit vu Liicht reduzéiert. Исследования стойкости к фотохимической коррозии были сосредоточены op неорганических полупроводниковиковых запрещенной зоной (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7, которые реагируют только на ультрафиолетовое излучение (< 40) света. Fuerschung iwwer photochemesch Korrosiounsbeständegkeet huet sech op n-Typ anorganesch Hallefleitmaterialien mat engem breet Bandgap (3.0-3.2 EV)1,2,3,4,5,6,7 konzentréiert, déi nëmmen op ultraviolet Stralung (<400 nm) reagéieren, reduzéiert Liichtverfügbarkeet.光化学耐腐蚀性研究主要集中在具有宽带隙(3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 的无潊n型於於n型些材料仅对紫外光（< 400 nm）有响应，减少光的可用性。光 化学 耐腐 蚀性 研究 主要 在 具有 宽带隙 宽带隙 宽带隙 (3.0–3.2ev) 1.52,6,3,n 1.52,6,3,n型 材料 上 ， 这些 材料 仅 对 （<400 nm） 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有有响应，减少光的可用性。 Исследования стойкости к фотохимической коррозии в основном были сосредоточены op неорганических полукпри с широкой запрещенной зоной (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7, которые чувствительны только к УФ-излучен0ию (<4). D'Fuerschung iwwer photochemesch Korrosiounsbeständegkeet huet sech haaptsächlech op breet Bandgap (3.0-3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 n-Typ anorganesch Hallefleitmaterialien konzentréiert, déi nëmme fir UV-Bestralung empfindlech sinn.(<400 nm).Als Äntwert geet d'Disponibilitéit vu Liicht erof.
Am Beräich vum Marine Korrosiounsschutz spillt photoelektrochemesch kathodesch Schutztechnologie eng Schlësselroll.TiO2 ass e Hallefleitmaterial mat exzellenter UV-Liichtabsorptioun a photokatalyteschen Eegeschaften.Wéi och ëmmer, wéinst dem nidderegen Taux vun der Notzung vu Liicht, rekombinéiere fotogeneréiert Elektronelächer liicht a kënnen net ënner donkele Bedéngungen geschützt ginn.Weider Fuerschung ass néideg fir eng raisonnabel a machbar Léisung ze fannen.Et gouf gemellt datt vill Uewerflächemodifikatiounsmethoden kënne benotzt ginn fir d'Fotosensibilitéit vun TiO2 ze verbesseren, wéi Doping mat Fe, N, a Vermëschung mat Ni3S2, Bi2Se3, CdTe, etc. Dofir gëtt TiO2 Komposit mat Materialien mat héijer photoelektrescher Konversiounseffizienz am Beräich vum photogeneréierte kathodesche Schutz wäit benotzt..
Nickelsulfid ass en Halbleitermaterial mat engem schmuele Bandspalt vun nëmmen 1,24 eV8,9.Wat méi schmuel de Bandspalt ass, dest méi staark ass d'Benotzung vum Liicht.Nodeems den Nickelsulfid mat der Titandioxid-Uewerfläch gemëscht ass, kann de Grad vun der Liichtverbrauch erhéicht ginn.Kombinéiert mat Titandioxid, kann et effektiv d'Trennungseffizienz vu photogeneréierten Elektronen a Lächer verbesseren.Nickelsulfid gëtt wäit an der elektrokatalytescher Waasserstoffproduktioun, Batterien a Pollutanten Zersetzung8,9,10 benotzt.Wéi och ëmmer, seng Notzung am Photocathodeschutz ass nach net gemellt ginn.An dëser Etude gouf e schmuele Bandgap Halbleitermaterial gewielt fir de Problem vun der gerénger TiO2 Liichtverbrauchseffizienz ze léisen.Nickel a Sëlwer Sulfid Nanopartikele goufen op der Uewerfläch vun TiO2 Nanowires duerch Tauche a Photoreduktiounsmethoden gebonnen, respektiv.Den Ag/NiS/TiO2 Nanokomposit verbessert d'Effizienz vun der Liichtverbrauch an erweidert d'Liichtabsorptiounsberäich vun der ultraviolet Regioun an déi sichtbar Regioun.Mëttlerweil gëtt d'Oflagerung vu Sëlwer Nanopartikel den Ag / NiS / TiO2 Nanokomposit exzellent optesch Stabilitéit a stabile kathodesche Schutz.
Als éischt gouf eng Titanfolie 0,1 mm déck mat enger Rengheet vun 99,9% op eng Gréisst vun 30 mm × 10 mm fir Experimenter geschnidden.Duerno gouf all Uewerfläch vun der Titanfolie 100 Mol mat 2500 Grit Sandpapier poléiert, an duerno successiv mat Aceton, absoluten Ethanol a destilléiert Waasser gewascht.Setzt d'Titanplack an enger Mëschung vu 85 °C (Natriumhydroxid: Natriumkarbonat: Waasser = 5:2:100) fir 90 min, ewechhuelen a spülen mat destilléiertem Waasser.D'Uewerfläch gouf mat HF ​​Léisung (HF: H2O = 1:5) fir 1 min geätzt, duerno ofwiesselnd mat Aceton, Ethanol a destilléiert Waasser gewascht, a schliisslech fir d'Benotzung gedréchent.Titandioxid Nanowires goufe séier op der Uewerfläch vun Titanfolie duerch e One-Step Anodiséierungsprozess fabrizéiert.Fir Anodiséierung gëtt en traditionellen Zwee-Elektrode-System benotzt, d'Aarbechtselektrode ass en Titanplack, an d'Konterelektrode ass eng Platinelektrode.Setzt d'Titanplack an 400 ml vun 2 M NaOH Léisung mat Elektrodenklemmen.Den DC Stroumversuergungsstroum ass stabil bei ongeféier 1,3 A. D'Temperatur vun der Léisung gouf bei 80 ° C fir 180 Minutten während der systemescher Reaktioun gehal.D'Titanplack gouf erausgeholl, mat Aceton an Ethanol gewascht, mat destilléiertem Waasser gewascht an natierlech getrocknegt.Duerno goufen d'Proben an engem Muffelofen bei 450 ° C (Heizungsgeschwindegkeet 5 ° C / min) plazéiert, bei enger konstanter Temperatur fir 120 min gehal an an engem Trocknungsschacht geluecht.
Den Néckelsulfid-Titandioxid-Komposit gouf duerch eng einfach an einfach Dip-Depositiounsmethod kritt.Als éischt gouf Nickelnitrat (0,03 M) an Ethanol opgeléist an 20 Minuten ënner magnetesche Rühr gehal fir eng Ethanolléisung vum Nickelnitrat ze kréien.Dann preparéieren Natriumsulfid (0,03 M) mat enger gemëschter Léisung vu Methanol (Methanol: Waasser = 1:1).Duerno goufen d'Titandioxid-Tabletten an d'Léisung uewe virbereet, no 4 Minutten erausgeholl a séier mat enger gemëschter Léisung vu Methanol a Waasser (Methanol: Waasser = 1: 1) fir 1 Minutt gewascht.Nodeems d'Uewerfläch getrocknegt ass, goufen d'Tabletten an e Muffelofen geluecht, am Vakuum bei 380 ° C fir 20 Minutten erhëtzt, op Raumtemperatur ofgekillt a gedréchent.Zuel vun den Zyklen 2, 4, 6 an 8.
Ag Nanopartikel geännert Ag / NiS / TiO2 Nanokomposite duerch Photoreduktioun12,13.Déi resultéierend Ag / NiS / TiO2 Nanokomposit gouf an der Sëlwernitratléisung déi néideg ass fir den Experiment gesat.Duerno goufen d'Proben mat ultravioletem Liicht fir 30 min bestrahlt, hir Flächen goufen mat deioniséiertem Waasser gereinegt, an Ag / NiS / TiO2 Nanokomposite goufen duerch natierlech Trocknung kritt.Den experimentellen Prozess uewen beschriwwen ass an der Figur 1 gewisen.
Ag/NiS/TiO2 Nanokomposite goufen haaptsächlech duerch Feldemissiounsscanning Elektronenmikroskopie (FESEM), Energiedispersiv Spektroskopie (EDS), Röntgenfotoelektronenspektroskopie (XPS) an diffus Reflexioun an den ultravioletten a sichtbare Beräicher (UV-Vis) charakteriséiert.FESEM gouf mat engem Nova NanoSEM 450 Mikroskop (FEI Corporation, USA) gesuergt.Beschleunigungsspannung 1 kV, Punktgréisst 2.0.Den Apparat benotzt eng CBS Sonde fir sekundär an zréckstreet Elektronen fir Topographieanalyse ze kréien.EMF gouf mat engem Oxford X-Max N50 EMF System (Oxford Instruments Technology Co., Ltd.) mat enger Beschleunigungsspannung vu 15 kV an enger Fleckgréisst vun 3,0 duerchgefouert.Qualitativ a quantitativ Analyse mat charakteristesche Röntgenstrahlen.Röntgenfotoelektronenspektroskopie gouf op engem Escalab 250Xi Spektrometer (Thermo Fisher Scientific Corporation, USA) gemaach, deen an engem fixen Energiemodus mat enger Excitatiounskraaft vun 150 W a monochromatescher Al Kα Stralung (1486,6 eV) als Excitatiounsquell funktionnéiert.Voll Scanbereich 0-1600 eV, Gesamtenergie 50 eV, Schrëtt Breet 1,0 eV, an onreine Kuelestoff (~ 284,8 eV) goufen als bindend Energieladungskorrektur Referenze benotzt.D'Passenergie fir schmuel Scannen war 20 eV mat engem Schrëtt vun 0,05 eV.Diffuse Reflexiounsspektroskopie an der UV-sichtbarer Regioun gouf op engem Cary 5000 Spektrometer (Varian, USA) mat enger Standard Bariumsulfatplack am Scannenberäich vun 10-80° gemaach.
An dësem Wierk ass d'Zesummesetzung (Gewiicht Prozent) vum 304 Edelstol 0,08 C, 1,86 Mn, 0,72 Si, 0,035 P, 0,029 s, 18,25 Cr, 8,5 Ni, an de Rescht ass Fe.10mm x 10mm x 10mm 304 STAINLESS Stol, epoxy potted mat 1 cm2 ausgesat Fläch.Seng Uewerfläch gouf mat 2400 Grit Siliziumkarbid Sandpapier geschleeft a mat Ethanol gewascht.D'Edelstahl gouf duerno an deioniséiertem Waasser fir 5 Minutten sonicated an dann an engem Ofen gespäichert.
Am OCP Experiment goufen 304 Edelstahl an eng Ag / NiS / TiO2 Photoanode an enger Korrosiounszell an enger Photoanodezelle respektiv (Fig. 2) plazéiert.D'Korrosiounszell gouf mat enger 3,5% NaCl-Léisung gefëllt, an 0,25 M Na2SO3 gouf an d'Fotoanodezelle als Lachfall gegoss.Déi zwee Elektrolyte goufen aus der Mëschung mat enger Naphthol-Membran getrennt.OCP gouf op enger elektrochemescher Workstation (P4000+, USA) gemooss.D'Referenzelektrode war eng gesättigte Kalomelelektrode (SCE).Eng Liichtquell (Xenon-Lampe, PLS-SXE300C, Poisson Technologies Co., Ltd.) an eng Ofschnëttplack 420 goufen am Outlet vun der Liichtquell plazéiert, sou datt sichtbar Liicht duerch d'Quarzglas an d'Fotoanode passéiert.D'304 Edelstahlelektrode ass mat der Photoanode mat engem Kupferdraht verbonnen.Virum Experiment gouf d'304 Edelstahl Elektrode an 3,5% NaCl Léisung fir 2 h getäuscht fir e stännegen Zoustand ze garantéieren.Am Ufank vum Experiment, wann d'Liicht op an ausgeschalt gëtt, erreechen d'exitéiert Elektronen vun der Photoanode d'Uewerfläch vum 304 Edelstol duerch den Drot.
An Experimenter op der photocurrent Dicht, 304SS an Ag /NiS /TiO2 photoanodes sech an corrosion Zellen an photoanode Zellen bzw. (Fig. 3).D'photocurrent Dicht gouf op der selwechter Setup wéi den OCP gemooss.Fir déi aktuell Fotostroumdicht tëscht 304 Edelstol an der Photoanode ze kréien, gouf e Potentiostat als Nullresistenz Ammeter benotzt fir 304 Edelstol an d'Fotoanode ënner net-polariséierte Bedéngungen ze verbannen.Fir dëst ze maachen, goufen d'Referenz- an d'Konterelektroden am Experimental-Opstellung kuerz gemaach, sou datt d'elektrochemesch Aarbechtsstatioun als Null-Resistenz Ammeter geschafft huet, deen déi richteg Stroumdicht moosse konnt.D'304 Edelstahlelektrode ass mam Buedem vun der elektrochemescher Aarbechtsstatioun verbonnen, an d'Fotoanode ass mat der Aarbechtselektrodeklemm verbonnen.Am Ufank vum Experiment, wann d'Liicht op an ausgeschalt gëtt, erreechen d'exitéiert Elektronen vun der Photoanode duerch den Drot d'Uewerfläch vum 304 Edelstol.Zu dëser Zäit kann eng Verännerung vun der Fotostroumdicht op der Uewerfläch vum 304 Edelstol observéiert ginn.
Fir d'kathodesch Schutzleistung vun Nanokompositen op 304 Edelstahl ze studéieren, goufen Ännerungen am Photoioniséierungspotenzial vun 304 Edelstahl an Nanokompositen, souwéi Ännerungen an der Photoioniséierungsstroumdicht tëscht Nanokompositen an 304 Edelstahl getest.
Op Fig.4 weist Ännerungen am Open Circuit Potential vun 304 STAINLESS Stol an Nanocomposites ënner siichtbar Liichtjoer Bestrahlung an ënner donkel Konditiounen.Op Fig.4a weist den Afloss vun der NiS Oflagerungszäit duerch Tauche op den Open Circuit Potential, a Fig.4b weist den Effekt vun der Sëlwernitratkonzentratioun op Open Circuit Potential wärend der Photoreduktioun.Op Fig.4a weist datt den Open Circuit Potential vum NiS / TiO2 Nanokomposit, deen op 304 Edelstol gebonnen ass, wesentlech reduzéiert gëtt am Moment wou d'Lampe ageschalt gëtt am Verglach zum Nickelsulfidkomposit.Zousätzlech ass den Open Circuit Potential méi negativ wéi dee vu pure TiO2 Nanowires, wat beweist datt den Nickelsulfidkomposit méi Elektronen generéiert an de Photocathode Schutzeffekt vum TiO2 verbessert.Wéi och ëmmer, um Enn vun der Belaaschtung klëmmt d'No-Laaspotential séier op d'No-load Potential vun Edelstol, wat beweist datt Nickelsulfid keen Energielagerungseffekt huet.Den Effet vun der Zuel vun immersion Oflagerung Zyklen op der oppen Circuit Potential kann an Lalumi 4a observéiert ginn.Bei enger Oflagerungszäit vu 6 erreecht den extremen Potenzial vum Nanokomposit -550 mV relativ zu der gesättigter Kalomelelektrode, an de Potenzial vum Nanokomposit, deen duerch e Faktor vu 6 deposéiert ass, ass wesentlech méi niddereg wéi dee vum Nanokomposit ënner anerem Bedingungen.Also hunn d'NiS / TiO2 Nanokomposite kritt no 6 Oflagerungszyklen dee beschten kathodesche Schutz fir 304 Edelstol.
Ännerungen an OCP vun 304 Edelstahl Elektroden mat NiS / TiO2 Nanocomposites (a) an Ag / NiS / TiO2 Nanocomposites (b) mat an ouni Beliichtung (λ> 400 nm).
Wéi an der Fig.4b, den Open Circuit Potential vun 304 STAINLESS Stol an Ag / NiS / TiO2 Nanocomposites war wesentlech reduzéiert wann Liicht ausgesat.No Uewerflächenablagerung vu Sëlwer Nanopartikele gouf den oppene Circuitpotential wesentlech reduzéiert am Verglach mat pure TiO2 Nanowires.D'Potenzial vum NiS / TiO2 Nanokomposit ass méi negativ, wat beweist datt de kathodesche Schutzeffekt vum TiO2 wesentlech verbessert nodeems Ag Nanopartikel deposéiert ginn.Den Open Circuit Potential ass séier um Enn vun der Belaaschtung eropgaang, a verglach mat der gesättigter Kalomelelektrode konnt den Open Circuit Potential -580 mV erreechen, wat méi niddereg war wéi dee vun 304 Edelstol (-180 mV).Dëst Resultat weist datt den Nanokomposit e bemierkenswäerten Energielagerungseffekt huet nodeems Sëlwerpartikelen op senger Uewerfläch deposéiert ginn.Op Fig.4b weist och den Effekt vun der Sëlwernitratkonzentratioun op den Open Circuit Potential.Bei enger Sëlwernitratkonzentratioun vun 0,1 M erreecht de Limitatiounspotenzial relativ zu enger gesättigter Kalomelelektrode -925 mV.No 4 Applikatiounszyklen blouf d'Potenzial um Niveau no der éischter Applikatioun, wat d'exzellente Stabilitéit vum Nanokomposit weist.Also, bei enger Sëlwernitratkonzentratioun vun 0,1 M, huet de resultéierende Ag/NiS/TiO2 Nanokomposit dee beschten kathodesche Schutzeffekt op 304 Edelstol.
NiS Oflagerung op der Uewerfläch vun TiO2 Nanowires verbessert graduell mat enger Erhéijung vun NiS Oflagerung Zäit.Wann siichtbar Liicht op d'Uewerfläch vum Nanowire fällt, ginn méi Nickelsulfidaktive Siten opgereegt fir Elektronen ze generéieren, an d'Fotoioniséierungspotenzial fällt méi.Wéi och ëmmer, wann Nickelsulfid Nanopartikel exzessiv op der Uewerfläch deposéiert ginn, gëtt opgereegt Nickelsulfid amplaz reduzéiert, wat net zur Liichtabsorptioun bäidréit.Nodeems d'Sëlwerpartikelen op der Uewerfläch deposéiert sinn, wéinst dem Uewerflächeplasmonresonanzeffekt vun de Sëlwerpartikelen, ginn déi generéiert Elektronen séier op d'Uewerfläch vum 304 Edelstol transferéiert, wat zu engem exzellente kathodesche Schutzeffekt resultéiert.Wann ze vill Sëlwerpartikelen op der Uewerfläch deposéiert ginn, ginn d'Sëlwerpartikelen e Rekombinatiounspunkt fir Photoelektronen a Lächer, wat net zur Generatioun vu Photoelektronen bäidréit.Als Conclusioun kënnen Ag / NiS / TiO2 Nanokomposite de beschte kathodesche Schutz fir 304 Edelstol no 6-fach Nickelsulfiddepositioun ënner 0,1 M Sëlwernitrat ubidden.
De Photostroumdichtewäert representéiert d'Trennkraaft vu fotogeneréierten Elektronen a Lächer, a wat méi grouss d'Fotostroumdensitéit ass, wat méi staark d'Trennkraaft vu fotogeneréierten Elektronen a Lächer ass.Et gi vill Studien déi weisen datt NiS wäit an der Synthese vu fotokatalytesche Materialien benotzt gëtt fir d'fotoelektresch Eegeschafte vu Materialien ze verbesseren an Lächer ze trennen15,16,17,18,19,20.Chen et al.studéiert Edelmetallfräi Graphen a g-C3N4 Kompositen, déi mat NiS15 komodifizéiert goufen.Déi maximal Intensitéit vum Photostroum vum modifizéierten g-C3N4/0,25%RGO/3%NiS ass 0,018 μA/cm2.Chen et al.studéiert CdSe-NiS mat enger Fotostroum Dicht vu ronn 10 µA/cm2.16.Liu et al.synthetiséiert e CdS@NiS Komposit mat enger Fotostroumdicht vun 15 µA/cm218.Allerdéngs ass d'Benotzung vun NiS fir photocathode Schutz nach net gemellt ginn.An eiser Etude, war d'photocurrent Dicht vun TiO2 wesentlech erhéicht duerch d'Modifikatioun vun NiS.Op Fig.5 weist Ännerungen an der photocurrent Dicht vun 304 STAINLESS Stol an Nanocomposites ënner siichtbar Liichtjoer Konditiounen an ouni Beliichtung.Wéi an der Fig.5a, erhéicht d'Fotostroum Dicht vum NiS / TiO2 Nanokomposit séier am Moment wou d'Liicht ageschalt gëtt, an d'Fotostroumdicht ass positiv, wat de Flux vun Elektronen aus dem Nanokomposit op d'Uewerfläch duerch d'elektrochemesch Aarbechtsstatioun beweist.304 STAINLESS Stol.No der Preparatioun vun Nickelsulfid-Kompositen ass d'Fotostroumdicht méi grouss wéi déi vu pure TiO2 Nanowires.D'Photostroum Dicht vun NiS erreecht 220 μA / cm2, wat 6,8 Mol méi héich ass wéi déi vun TiO2 Nanowires (32 μA / cm2), wann NiS ënnerdaucht a 6 Mol deposéiert ass.Wéi an der Fig.5b war d'Fotostroumdicht tëscht dem Ag/NiS/TiO2 Nanokomposit an dem 304 Edelstol wesentlech méi héich wéi tëscht reinen TiO2 an dem NiS/TiO2 Nanokomposit, wann se ënner enger Xenonlampe ageschalt goufen.Op Fig.Figur 5b weist och den Effet vun der AgNO Konzentratioun op der photocurrent Dicht während photoreduction.Bei enger Sëlwernitratkonzentratioun vun 0,1 M erreecht seng Fotostroumdicht 410 μA/cm2, wat 12,8 Mol méi héich ass wéi déi vun TiO2 Nanowires (32 μA/cm2) an 1,8 Mol méi héich wéi déi vun NiS/TiO2 Nanokomposite.En heterojunction elektrescht Feld gëtt um Ag/NiS/TiO2 Nanokompositt-Interface geformt, wat d'Trennung vu fotogeneréierten Elektronen vu Lächer erliichtert.
Ännerungen an der photocurrent Dicht vun enger 304 STAINLESS Stol Elektrode mat (a) NiS / TiO2 Nanocomposite an (b) Ag / NiS / TiO2 Nanocomposite mat an ouni Beliichtung (λ> 400 nm).
Also, no 6 Zyklen vun Néckelsulfid Immersiounsdepositioun an 0,1 M konzentréiert Sëlwernitrat, erreecht d'Fotostroumdicht tëscht Ag / NiS / TiO2 Nanokompositen an 304 Edelstol 410 μA / cm2, wat méi héich ass wéi dee vu gesättigte Kalomel.Elektroden erreecht -925 mV.Ënner dëse Bedéngungen kann 304 Edelstahl kombinéiert mat Ag / NiS / TiO2 de beschte kathodesche Schutz ubidden.
Op Fig.6 weist Uewerflächeelektronenmikroskopbilder vu reinen Titandioxid Nanowires, Komposit Néckelsulfid Nanopartikelen a Sëlwer Nanopartikelen ënner optimal Bedéngungen.Op Fig.6a, d weisen reng TiO2 Nanowires, déi duerch Single-Etapp Anodiséierung kritt ginn.D'Uewerfläch Verdeelung vun Titan Dioxid Nanowires ass eenheetlech, d'Strukturen vun Nanowires sinn no bei all aner, an der Pore Gréisst Verdeelung ass eenheetlech.Figuren 6b an e sinn Elektronenmikrographen vun Titandioxid no 6-fach Imprägnatioun an Oflagerung vun Nickelsulfidkompositen.Vun engem elektronenmikroskopescht Bild, dat 200.000 mol vergréissert ass an der Fig.E puer Nanopartikele kënnen an der raimlecher Positioun vun den Nanowires beobachtet ginn, an Titandioxid Nanowires si kloer ze gesinn.Op Fig.6c, f weisen elektronmikroskopesch Biller vun NiS / TiO2 Nanokomposite bei enger AgNO Konzentratioun vun 0,1 M. Am Verglach mat Fig.6b a fig.6 e,fir.6c a fig.6f weisen datt d'Ag Nanopartikelen op der Uewerfläch vum Kompositmaterial deposéiert sinn, mat den Ag Nanopartikelen gläichméisseg verdeelt mat engem Duerchmiesser vu ronn 10 nm.Op Fig.7 weist e Querschnitt vun Ag/NiS/TiO2 Nanofilmer ënnerworf 6 Zyklen vun NiS Dip Oflagerung bei enger AgNO3 Konzentratioun vun 0,1 M. Vun héijer Vergréisserungsbiller war déi gemoossene Filmdicke 240-270 nm.Also, Nickel a Sëlwer Sulfid Nanopartikel sinn op der Uewerfläch vun TiO2 Nanowires versammelt.
Pure TiO2 (a, d), NiS / TiO2 Nanocomposites mat 6 Zyklen vun NiS Dip Oflagerung (b, e) an Ag / NiS / NiS mat 6 Zyklen vun NiS Dip Oflagerung bei 0,1 M AgNO3 SEM Biller vun TiO2 Nanocomposites (c, e).
Querschnitt vun Ag / NiS / TiO2 Nanofilmer ënnerworf 6 Zyklen vun NiS Dip Oflagerung bei enger AgNO3 Konzentratioun vun 0,1 M.
Op Fig.8 weist d'Uewerfläch Verdeelung vun Elementer iwwer d'Uewerfläch vun Ag / NiS / TiO2 Nanocomposites kritt aus 6 Zyklen vun Nickel sulfide Dip Oflagerung bei engem Sëlwer Nitrat Konzentratioun vun 0,1 M. D'Uewerfläch Verdeelung vun Elementer weist, datt Ti, O, Ni, S an Ag entdeckt goufen.mat Energiespektroskopie.Wat den Inhalt ugeet, Ti an O sinn déi heefegst Elementer an der Verdeelung, während Ni a S ongeféier d'selwecht sinn, awer hiren Inhalt ass vill méi niddereg wéi Ag.Et kann och bewisen ginn datt d'Quantitéit u Uewerflächkomposit Sëlwer Nanopartikele méi grouss ass wéi dee vum Nickelsulfid.Déi eenheetlech Verdeelung vun Elementer op der Uewerfläch weist datt Nickel a Sëlwersulfid gläichméisseg op der Uewerfläch vun den TiO2 Nanowires gebonnen sinn.Röntgenfotoelektronspektroskopesch Analyse gouf zousätzlech duerchgefouert fir d'spezifesch Zesummesetzung an d'Verbindungszoustand vu Stoffer ze analyséieren.
Verdeelung vun Elementer (Ti, O, Ni, S, an Ag) vun Ag / NiS / TiO2 Nanokomposite bei enger AgNO3 Konzentratioun vun 0,1 M fir 6 Zyklen vun NiS Dip Oflagerung.
Op Fig.Figur 9 weist d'XPS Spektrum vun Ag / NiS / TiO2 Nanocomposites kritt mat 6 Zyklen vun Nickel sulfide Oflagerung duerch Tauche an 0,1 M AgNO3, wou Fig.9a ass de ganze Spektrum, an de Rescht vun de Spektrum sinn Héichopléisende Spektrum vun den Elementer.Wéi aus dem ganze Spektrum an der Fig.D'Testresultater waren am Aklang mat der EDS.Den iwwerschësseg Peak an der Figur 9a ass de Kuelestoff Peak benotzt fir d'Bindungsenergie vun der Probe ze korrigéieren.Op Fig.9b weist en héich Opléisung Energie Spektrum vun Ti.D'Absorptiounspëtzten vun den 2p-Orbitaler leien bei 459,32 a 465 eV, déi der Absorptioun vun den Ti 2p3/2- an Ti 2p1/2-Orbitaler entspriechen.Zwee Absorptiounspeaks beweisen datt Titan eng Ti4+ Valenz huet, déi dem Ti an TiO2 entsprécht.
XPS Spektrum vun Ag/NiS/TiO2 Miessunge (a) an Héichopléisende XPS Spektrum vun Ti2p(b), O1s(c), Ni2p(d), S2p(e), an Ag 3d(f).
Op Fig.9d weist en héichopléisende Ni-Energiespektrum mat véier Absorptiounspeaks fir den Ni 2p Ëmlafbunn.D'Absorptionspeaks bei 856 an 873,5 eV entspriechen den Ni 2p3/2 an Ni 2p1/2 8,10 Orbitalen, wou d'Absorptiounspeaks zu NiS gehéieren.D'Absorptiounspeaks bei 881 an 863 eV si fir Nickelnitrat a gi vum Nickelnitratreagens während der Probepräparatioun verursaacht.Op Fig.9e weist eng héich Opléisung S-Spektrum.D'Absorptiounspëtze vun de S 2p-Orbitaler leien bei 161,5 an 168,1 eV, déi zu de S 2p3/2- a S 2p1/2-Orbitaler 21, 22, 23, 24 entspriechen.D'Absorptiounspeaks bei 169,2 an 163,4 eV si fir den Natriumsulfidreagens.Op Fig.9f weist eng héich-Resolutioun Ag Spektrum an deem den 3d Ëmlafbunn Absorptioun Biergspëtzten vun Sëlwer läit op 368,2 an 374,5 eV, bzw., an zwee Absorptioun Biergspëtzten entspriechen der Absorptioun Bunnen vun Ag 3d5/2 an Ag 3d3/212, 13. D'Zwee Plazen provparticle Sëlwer Element existéieren an dësen zwee Plaze provparticle der na.Also sinn d'Nanokomposite haaptsächlech aus Ag, NiS an TiO2 zesummegesat, wat duerch Röntgenfotoelektronespektroskopie bestëmmt gouf, wat bewisen huet datt Nickel- a Sëlwersulfid-Nanopartikele mat Erfolleg op der Uewerfläch vun TiO2-Nanowires kombinéiert goufen.
Op Fig.10 weist UV-VIS diffus Reflexiounsspektre vu frësch preparéierten TiO2 Nanowires, NiS/TiO2 Nanokompositen, an Ag/NiS/TiO2 Nanokomposite.Et kann aus der Figur gesi ginn datt d'Absorptiounsschwell vun TiO2 Nanowires ongeféier 390 nm ass, an dat absorbéiert Liicht ass haaptsächlech an der ultraviolet Regioun konzentréiert.Et kann aus der Figur gesi ginn, datt no der Kombinatioun vun Néckel- a Sëlwersulfid Nanopartikelen op der Uewerfläch vun Titandioxid Nanowires 21, 22, dat absorbéiert Liicht an d'sichtbar Liichtregioun propagéiert.Zur selwechter Zäit huet den Nanokomposit d'UV-Absorptioun erhéicht, wat mat enger schmueler Bandspalt vum Nickelsulfid assoziéiert ass.Wat méi schmuel de Bandspalt ass, wat méi niddereg d'Energiebarriär fir elektronesch Iwwergäng ass an dest méi héich ass de Grad vun der Liichtverbrauch.Nodeem d'NiS / TiO2 Uewerfläch mat Sëlwer Nanopartikelen zesummegesat gouf, ass d'Absorptiounsintensitéit an d'Liichtwellelängt net wesentlech eropgaang, haaptsächlech wéinst dem Effekt vun der Plasmonresonanz op der Uewerfläch vu Sëlwer Nanopartikel.D'Absorptiounswellelängt vun TiO2 Nanowire verbessert net wesentlech am Verglach zum schmuele Bandspalt vu Komposit NiS Nanopartikelen.Zesummegefaasst, no Komposit Néckelsulfid a Sëlwer Nanopartikelen op der Uewerfläch vun Titan Dioxid Nanowires, sinn hir Liichtabsorptiounseigenschaften staark verbessert, an d'Liichtabsorptiounsberäich gëtt vun ultraviolet bis sichtbar Liicht erweidert, wat d'Notzungsquote vun Titandioxid Nanowires verbessert.Liicht dat d'Fäegkeet vum Material verbessert fir Photoelektronen ze generéieren.
UV/Vis diffuse Reflexiounsspektre vu frësche TiO2 Nanodraht, NiS/TiO2 Nanokomposite, an Ag/NiS/TiO2 Nanokomposite.
Op Fig.11 weist de Mechanismus vun photochemical corrosion Resistenz vun Ag / NiS / TiO2 Nanocomposites ënner siichtbar Liichtjoer Bestrahlung.Baséierend op d'potenziell Verdeelung vu Sëlwer Nanopartikelen, Nickelsulfid an der Leedungsband vun Titandioxid, gëtt eng méiglech Kaart vum Mechanismus vun der Korrosiounsbeständegkeet proposéiert.Well d'Leedungsbandpotenzial vum NanoSëlwer negativ ass am Verglach zum Nickelsulfid, an d'Leedungsbandpotenzial vum Nickelsulfid negativ ass am Verglach zum Titandioxid, ass d'Richtung vum Elektronenfloss ongeféier Ag→NiS→TiO2→304 Edelstol.Wann d'Liicht op der Uewerfläch vum Nanokomposit bestraalt gëtt, wéinst Effekt vun der Uewerflächeplasmonresonanz vum Nanosëlwer, kann Nanosëlwer séier photogeneréiert Lächer an Elektronen generéieren, a photogeneréiert Elektronen réckelen séier vun der Valenzbandpositioun an d'Leedungsbandpositioun wéinst der Excitatioun.Titandioxid an Néckelsulfid.Zënter datt d'Konduktivitéit vu Sëlwer Nanopartikel méi negativ ass wéi déi vum Nickelsulfid, ginn Elektronen am TS vu Sëlwer Nanopartikele séier an TS vum Nickelsulfid ëmgewandelt.D'Leedungspotenzial vum Nickelsulfid ass méi negativ wéi dee vum Titandioxid, sou datt d'Elektronen vum Nickelsulfid an d'Konduktivitéit vum Sëlwer séier an der CB vum Titandioxid accumuléieren.Déi generéiert photogeneréiert Elektronen erreechen d'Uewerfläch vum 304 Edelstol duerch d'Titanmatrix, an déi beräichert Elektronen huelen un de kathodesche Sauerstoffreduktiounsprozess vun 304 Edelstol deel.Dëse Prozess reduzéiert d'kathodesch Reaktioun a gläichzäiteg ënnerdréckt d'anodic Opléisungsreaktioun vum 304 Edelstahl, doduerch de kathodesche Schutz vum Edelstahl 304 ze realiséieren. Duerch d'Bildung vum elektresche Feld vun der Heterojunction am Ag/NiS/TiO2 Nanokomposit gëtt de konduktiven Potenzial vum Nanokomposit méi effektiv op den negativen Effekt vun der Nanokomposit verännert, wat méi effektiv op d'Katho-Positioun verbessert gëtt. 4 Edelstahl.
Schematesch Diagramm vum photoelektrochemeschen Anti-Korrosiounsprozess vun Ag/NiS/TiO2 Nanokomposite a sichtbar Liicht.
An dëser Aarbecht goufen Nickel- a Sëlwersulfid Nanopartikele op der Uewerfläch vun TiO2 Nanowires synthetiséiert duerch eng einfach Tauche a Photoreduktiounsmethod.Eng Serie vu Studien iwwer de kathodesche Schutz vun Ag/NiS/TiO2 Nanokomposite op 304 Edelstol gouf duerchgefouert.Baséierend op de morphologesche Charakteristiken, Analyse vun der Zesummesetzung an Analyse vun de Liichtabsorptiounseigenschaften, goufen déi folgend Haaptschluss gemaach:
Mat enger Rei vun Imprägnatiouns-Oflagerungszyklen vum Nickelsulfid vu 6 an enger Konzentratioun vu Sëlwernitrat fir Fotoreduktioun vun 0,1 mol/l, haten déi entstinn Ag/NiS/TiO2 Nanokomposite e bessere kathodesche Schutzeffekt op 304 Edelstol.Am Verglach mat enger gesättigter Kalomelelektrode erreecht de Schutzpotenzial -925 mV, an de Schutzstroum erreecht 410 μA / cm2.
En heterojunction elektrescht Feld gëtt um Ag/NiS/TiO2 Nanokompositt-Interface geformt, wat d'Trennkraaft vu fotogeneréierten Elektronen a Lächer verbessert.Zur selwechter Zäit gëtt d'Liichtverbrauchseffizienz erhéicht an d'Liichtabsorptiounsberäich gëtt vun der ultraviolet Regioun an déi sichtbar Regioun verlängert.Den Nanokomposit behält nach ëmmer säin ursprénglechen Zoustand mat gudder Stabilitéit no 4 Zyklen.
Experimentell virbereet Ag / NiS / TiO2 Nanokomposite hunn eng eenheetlech an dichter Uewerfläch.Nickel Sulfid a Sëlwer Nanopartikel sinn eenheetlech op der Uewerfläch vun TiO2 Nanowires zesummegesat.Komposit Kobalt Ferrit a Sëlwer Nanopartikel si vu héijer Rengheet.
Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Photocathodic Schutz Effekt vun TiO2 Filmer fir Kuelestoff Stol an 3% NaCl Léisungen. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Photocathodic Schutz Effekt vun TiO2 Filmer fir Kuelestoff Stol an 3% NaCl Léisungen. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Photocathode Schutz Effekt vun TiO2 Filmer fir Kuelestoff Stol an 3% NaCl Léisungen. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN . Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Photocathode Schutz vun Kuelestoff Stol mat TiO2 dënn Filmer an 3% NaCl Léisung.Electrochem.Acta 50, 3401-3406 (2005).
Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG Photogeneréierte kathodesche Schutz vu bloemähnlechen, nanostrukturéierten, N-dotéierten TiO2 Film op Edelstol. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG Photogeneréierte kathodesche Schutz vu bloemähnlechen, nanostrukturéierten, N-dotéierten TiO2 Film op Edelstol.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK an Du, RG Photogeneréiert kathodesche Schutz vun engem nanostrukturéierten, Stickstoff-dotéierten TiO2-Film a Form vun enger Blummen op Edelstol. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG 花状纳米结构N 掺杂TiO2 薄膜在不锈钢上的光生阴极保护。 Li J, Lin CJ, Lai YK, Du RG.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK an Du, RG Photogeneréierte kathodesche Schutz vu Stickstoff-dotéierten TiO2 bloemfërmege nanostrukturéierte dënnen Filmer op Edelstol.surfen Ee Mantel.Technologie 205, 557-564 (2010).
Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Photogenerated cathode Schutz Eegeschafte vun Nano-Gréisst TiO2 / WO3 Beschichtung. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Photogenerated cathode Schutz Eegeschafte vun Nano-Gréisst TiO2 / WO3 Beschichtung.Zhou, MJ, Zeng, ZO an Zhong, L. Photogeneréiert kathodesch Schutzeigenschaften vun TiO2 / WO3 Nanoskala Beschichtung. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能.Zhou MJ, Zeng ZO an Zhong L. Photogeneréiert kathodesch Schutzeigenschaften vun Nano-TiO2 / WO3 Beschichtungen.koros.d'Wëssenschaft.51, 1386-1397 (2009).
Park, H., Kim, KY & Choi, W. Photoelectrochemical Approche fir Metallkorrosiounsverhënnerung mat enger Hallefleitung Photoanode. Park, H., Kim, KY & Choi, W. Photoelectrochemical Approche fir Metallkorrosiounsverhënnerung mat enger Hallefleitung Photoanode.Park, H., Kim, K. Yu.an Choi, V. A photoelectrochemical Approche zu Metal corrosion Préventioun engem semiconductor photoanode benotzt. Park, H., Kim, KY & Choi, W. 使用半导体光阳极防止金属腐蚀的光电化学方法. Park, H., Kim, KY, & Choi, W.Park H., Kim K.Yu.an Choi V. Photoelectrochemical Methoden fir eng verhënneren corrosion vun Metaller benotzt semiconductor photoanodes.J. Physik.Chemesch.V. 106, 4775-4781 (2002).
Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Studie iwwer eng hydrophobe Nano-TiO2 Beschichtung a seng Eegeschafte fir Korrosiounsschutz vu Metaller. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Studie iwwer eng hydrophobe Nano-TiO2 Beschichtung a seng Eegeschafte fir Korrosiounsschutz vu Metaller. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. . Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Untersuchung vun enger hydrophobescher Nano-TiO2 Beschichtung a seng Eegeschafte fir Korrosiounsschutz vu Metalle. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Etude vun 疵水 Nano-Titandioxid Beschichtung a seng Metallkorrosiounsschutzeigenschaften. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Hydrophobe Beschichtungen vun Nano-TiO2 an hir Korrosiounsschutzeigenschaften fir Metaller.Electrochem.Acta 50, 5083-5089 (2005).
Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ.Yun, H., Li, J., Chen, HB a Lin, SJ Untersuchung vun Nano-TiO2 Beschichtungen, déi mat Stickstoff, Schwefel a Chlor geännert goufen fir Korrosiounsschutz vun Edelstahl. Yun H, Li J, Chen HB, Lin CJ, Cl 改性纳米二氧化钛涂层用于不锈钢腐蚀防护的砂 Yun, H., Li, J., Chen, HB, Lin, CJ N, S和Cl. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Покрытия N, S и Cl, модифицированные нано-TiO2, fir защиты от коррозии нержавеющ. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Nano-TiO2 modifizéiert N, S a Cl Beschichtungen fir Korrosiounsschutz vun Edelstol.Electrochem.Band 52, 6679-6685 (2007).
Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Photocathodic Schutz Eegeschafte vun dräi-zweedimensional titanate Nanowire Reseau Filmer virbereet duerch eng kombinéiert Sol-Gel an hydrothermal Method. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Photocathodic Schutz Eegeschafte vun dräi-zweedimensional titanate Nanowire Reseau Filmer virbereet duerch eng kombinéiert Sol-Gel an hydrothermal Method. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ. х комбинированным золь-гель a гидротермическим методом. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Photocathodic Schutzmoossnamen Eegeschafte vun dräi-zweedimensional Net Filmer vun titanate Nanowires virbereet duerch kombinéiert Sol-Gel an hydrothermal Method. Zh, d'du, rg, getnen, w., Qi, HQ, HQ, CSU, CJ 溶胶 性能 性能 性能 性能 性能 性能 法制 性能 性能 法制 性能 法制 法制 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能 性能. Zhu YF, Du RG, Chen W, Qi HQ, Lin CJ.D'Schutzeigenschaften vun 消铺-铲和水热法发气小水小水化用线线电视电器电影电影电影电影电影电影电影电影电 Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ. ленных золь-гель a гидротермическими методами. Zhu, YF, Du, RG.Elektrochemie.kommunizéieren 12, 1626-1629 (2010).
Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. A pn ​​heterojunction NiS-sensibiliséiert TiO2 photocatalytic System fir efficace photoreduction vun Kuelendioxid zu Methan. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. A pn-heterojunction NiS-sensibiliséiert TiO2 photocatalytic System fir efficace photoreduction vun Kuelendioxid zu Methan.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM, an Kang, M. A pn-heterojunction NiS sensibiliséiert TiO2 photocatalytic System fir efficace photoreduction vun Kuelendioxid zu Methan. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. Lee JH, Kim SI, Park SM, Kang M.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM, an Kang, M. A pn-heterojunction NiS sensibiliséiert TiO2 photocatalytic System fir efficace photoreduction vun Kuelendioxid zu Methan.Keramik.Interpretatioun.43, 1768–1774 (2017).
Wang, QZ et al.CuS an NiS handelen als Kokatalysator fir d'fotokatalytesch Waasserstoffevolutioun op TiO2 ze verbesseren.Interpretatioun.J. Hydro.Energie 39, 13421-13428 (2014).
Liu, Y. & Tang, C. Erhéijung vun photokatalytic H2 Evolutioun iwwer TiO2 Nano-Sheet Filmer vun Uewerfläch Luede NiS Nanopartikel. Liu, Y. & Tang, C. Erhéijung vun photokatalytic H2 Evolutioun iwwer TiO2 Nano-Sheet Filmer vun Uewerfläch Luede NiS Nanopartikel.Liu, Y. an Tang, K. Verbesserung vun photokatalytic H2 Verëffentlechung an TiO2 Nanosheet Filmer vun Uewerfläch Belaaschtung vun NiS Nanopartikel. Liu, Y. & Tang, C. 通过表面负载NiS 纳米颗粒增强TiO2 纳米片薄膜上的光催化产氢。 Liu, Y. & Tang, C.Liu, Y. an Tang, K. Verbessert photocatalytic Wasserstoff Produktioun op dënn Filmer vun TiO2 Nanosheets vun NiS Nanopartikel op der Uewerfläch deposéieren.las.J. Physik.Chemesch.A 90, 1042–1048 (2016).
Huang, XW & Liu, ZJ Comparativ Studie vun der Struktur an Eegeschafte vun Ti-O-baséiert Nanowire Filmer virbereet duerch Anodiséierung a chemesch Oxidatiounsmethoden. Huang, XW & Liu, ZJ Comparativ Studie vun der Struktur an Eegeschafte vun Ti-O-baséiert Nanowire Filmer virbereet duerch Anodiséierung a chemesch Oxidatiounsmethoden. Huang, XW & Liu, ZJ. го окисления. Huang, XW & Liu, ZJ Eng Comparativ Studie vun der Struktur an Eegeschafte vun Ti-O Nanowire Filmer kritt duerch anodizing a chemesch Oxidatioun Methoden. Huang, XW & Liu, ZJ 阳极氧化法和化学氧化法制备的Ti-O Huang, XW & Liu, ZJ 阳极oxidation法和chemicaloxidation法Virbereedung的Ti-O基基基小线Dënn Filmstruktur 和Property的Comparative Research. Huang, XW & Liu, ZJ. ическим окислением. Huang, XW & Liu, ZJ Eng Comparativ Studie vun der Struktur an Eegeschafte vun Ti-O Nanowire dënn Filmer virbereet duerch Anodiséierung a chemesch Oxidatioun.J. Alma mater.Wëssenschaft Technologie 30, 878-883 (2014).
Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag a SnO2 co-sensibiliséiert TiO2 photoanodes fir Schutz vun 304SS ënner siichtbar Liichtjoer. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag a SnO2 co-sensibiliséiert TiO2 photoanodes fir Schutz vun 304SS ënner siichtbar Liichtjoer. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag a SnO2 совместно сенсибилизировали фотоаноды TiO2 fir защиты 304SS в видимом свете. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag a SnO2 cosensibiliséiert TiO2 Photoanodes fir 304SS am sichtbare Liicht ze schützen. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag 和SnO2 共敏化TiO2 光阳极，用于在可见光下保护304SS。 Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Фотоанод TiO2, совместно сенсибилизированный Ag a SnO2, fir защиты 304SS в видимом светет. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR A TiO2 photoanode co-sensibiliséiert mat Ag an SnO2 fir siichtbar Liichtjoer shielding vun 304SS.koros.d'Wëssenschaft.82, 145–153 (2014).
Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag a CoFe2O4 co-sensibiliséiert TiO2 Nanowire fir photocathodic Schutz vun 304 SS ënner siichtbar Liichtjoer. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag a CoFe2O4 co-sensibiliséiert TiO2 Nanowire fir photocathodic Schutz vun 304 SS ënner siichtbar Liichtjoer.Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. an Howe, BR Ag a CoFe2O4 co-sensibiliséiert mat TiO2 Nanowire fir 304 SS photocathode Schutz am siichtbar Liichtjoer. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag. Wen ZH, Wang N, Wang J, Hou BR AgWen, ZH, Wang, N., Wang, J. an Howe, BR Ag a CoFe2O4 co-sensibiliséiert TiO2 Nanowires fir 304 SS photocathode Schutz am siichtbar Liichtjoer.Interpretatioun.J. Elektrochemie.d'Wëssenschaft.13, 752-761 (2018).
Bu, YY & Ao, JP Eng Iwwerpréiwung iwwer photoelectrochemical cathodic Schutz semiconductor dënn Filmer fir Metaller. Bu, YY & Ao, JP Eng Iwwerpréiwung iwwer photoelectrochemical cathodic Schutz vun semiconductor dënn Filmer fir Metaller. Bu, YY & Ao, JP. Bu, YY & Ao, JP Bewäertung vum Photoelectrochemical Cathodic Protection of Semiconductor Thin Films for Metals. Bu, YY & Ao, JP 金属光电化学阴极保护半导体薄膜综述。 Bu, YY & Ao, JP Metalliséierung 光电视光阴极电影电影电影电视设计. Bu, YY & Ao, JP. Bu, YY & Ao, JP Eng Iwwerpréiwung vum metallesche fotoelektrochemesche kathodesche Schutz vun dënnen Hallefleitfilmer.Eng gréng Energie Ëmwelt.2, 331–362 (2017).