Terima kasih kerana melawat Nature.com.Versi penyemak imbas yang anda gunakan mempunyai sokongan CSS yang terhad.Untuk pengalaman terbaik, kami mengesyorkan agar anda menggunakan penyemak imbas yang dikemas kini (atau lumpuhkan Mod Keserasian dalam Internet Explorer).Sementara itu, untuk memastikan sokongan berterusan, kami akan menjadikan tapak tanpa gaya dan JavaScript.
TiO2 ialah bahan semikonduktor yang digunakan untuk penukaran fotoelektrik.Untuk menambah baik penggunaan nanozarah cahaya, nikel dan perak sulfida telah disintesis pada permukaan wayar nano TiO2 dengan kaedah celupan dan pengurangan foto yang mudah.Satu siri kajian tindakan perlindungan katodik nanokomposit Ag/NiS/TiO2 pada keluli tahan karat 304 telah dijalankan, dan ciri-ciri morfologi, komposisi, dan penyerapan cahaya bahan telah ditambah.Keputusan menunjukkan bahawa nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang disediakan boleh memberikan perlindungan katodik terbaik untuk keluli tahan karat 304 apabila bilangan kitaran impregnasi-kerpasan nikel sulfida ialah 6 dan kepekatan fotoreduksi perak nitrat ialah 0.1M.
Aplikasi semikonduktor jenis-n untuk perlindungan fotokatod menggunakan cahaya matahari telah menjadi topik hangat sejak beberapa tahun kebelakangan ini.Apabila diuja oleh cahaya matahari, elektron daripada jalur valens (VB) bahan semikonduktor akan teruja ke dalam jalur pengaliran (CB) untuk menjana elektron terjana foto.Jika potensi jalur pengaliran semikonduktor atau nanokomposit lebih negatif daripada potensi pengetsaan sendiri logam terikat, elektron yang dijana foto ini akan dipindahkan ke permukaan logam terikat.Pengumpulan elektron akan membawa kepada polarisasi katodik logam dan memberikan perlindungan katodik logam yang berkaitan1,2,3,4,5,6,7.Bahan semikonduktor secara teorinya dianggap sebagai fotoanod bukan pengorbanan, kerana tindak balas anodik tidak merendahkan bahan semikonduktor itu sendiri, tetapi pengoksidaan air melalui lubang terjana foto atau bahan pencemar organik terjerap, atau kehadiran pengumpul untuk memerangkap lubang terjana foto.Paling penting, bahan semikonduktor mesti mempunyai potensi CB yang lebih negatif daripada potensi kakisan logam yang dilindungi.Barulah elektron yang dijana foto boleh berpindah dari jalur pengaliran semikonduktor ke logam terlindung. Kajian rintangan kakisan fotokimia telah memberi tumpuan kepada bahan semikonduktor jenis n bukan organik dengan jurang jalur lebar (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7, yang hanya responsif kepada cahaya ultraungu (< 400 nm), mengurangkan ketersediaan cahaya. Kajian rintangan kakisan fotokimia telah memberi tumpuan kepada bahan semikonduktor jenis n bukan organik dengan jurang jalur lebar (3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7, yang hanya responsif kepada cahaya ultraungu (< 400 nm), mengurangkan ketersediaan cahaya. Иследования стойкости к фотохимической коррозии были сосредоточены на неорганических полупроводниковых полупроводниковых материнских материноплах материна й зоной (3,0–3,2 EV)1,2,3,4,5,6,7, которые реагируют только на ультрафиолетовое излучение (< 400 нм), усьсиной Penyelidikan tentang rintangan kakisan fotokimia telah memberi tumpuan kepada bahan semikonduktor tak organik jenis-n dengan celah jalur lebar (3.0–3.2 EV)1,2,3,4,5,6,7 yang hanya bertindak balas kepada sinaran ultraungu (< 400 nm), mengurangkan ketersediaan cahaya.光化学耐腐蚀性研究主要集中在具有宽带隙(3.0–3.2EV)1,2,3,4,5,6,7 的无机n 吼无机n 吋住材料仅对紫外光（< 400 nm）有响应，减少光的可用性。光 化学 耐腐 蚀性 研究 主要 在 具有 宽带隙 宽带隙 宽带隙 (3.0–3.2ev) 1.5,6,4,7,6,4材料 上 ， 这些 材料 仅 对 （<400 nm） 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有 有，减少光的可用性。 Исследования стойкости к фотохимической коррозии в основном были сосредоточены на неорганической коррозии в основном были сосредоточены на неорганических полупроворихлахлод ой запрещенной зоной (3,0–3,2EV)1,2,3,4,5,6,7, которые чувствительны только к УФ-излучению (<400 нм). Penyelidikan tentang rintangan kakisan fotokimia tertumpu terutamanya pada celah jalur lebar (3.0–3.2EV) 1,2,3,4,5,6,7 bahan semikonduktor tak organik jenis n yang hanya sensitif kepada sinaran UV.(<400 nm).Sebagai tindak balas, ketersediaan cahaya berkurangan.
Dalam bidang perlindungan kakisan marin, teknologi perlindungan katodik fotoelektrokimia memainkan peranan penting.TiO2 ialah bahan semikonduktor dengan penyerapan cahaya UV yang sangat baik dan sifat fotokatalitik.Walau bagaimanapun, disebabkan kadar penggunaan cahaya yang rendah, lubang elektron terjanaan foto bergabung semula dengan mudah dan tidak boleh dilindungi dalam keadaan gelap.Kajian lanjut diperlukan untuk mencari penyelesaian yang munasabah dan boleh dilaksanakan.Telah dilaporkan bahawa banyak kaedah pengubahsuaian permukaan boleh digunakan untuk meningkatkan kepekaan foto TiO2, seperti doping dengan Fe, N, dan pencampuran dengan Ni3S2, Bi2Se3, CdTe, dan lain-lain. Oleh itu, komposit TiO2 dengan bahan dengan kecekapan penukaran fotoelektrik tinggi digunakan secara meluas dalam bidang perlindungan katodik janaan foto..
Nikel sulfida ialah bahan semikonduktor dengan jurang jalur sempit hanya 1.24 eV8.9.Semakin sempit jurang jalur, semakin kuat penggunaan cahaya.Selepas nikel sulfida dicampur dengan permukaan titanium dioksida, tahap penggunaan cahaya boleh ditingkatkan.Digabungkan dengan titanium dioksida, ia boleh meningkatkan kecekapan pemisahan elektron dan lubang yang dijana foto dengan berkesan.Nikel sulfida digunakan secara meluas dalam pengeluaran hidrogen elektrokatalitik, bateri dan penguraian bahan pencemar8,9,10.Walau bagaimanapun, penggunaannya dalam perlindungan fotokatod masih belum dilaporkan.Dalam kajian ini, bahan semikonduktor celah jalur sempit telah dipilih untuk menyelesaikan masalah kecekapan penggunaan cahaya TiO2 yang rendah.Nanopartikel nikel dan perak sulfida diikat pada permukaan wayar nano TiO2 dengan kaedah rendaman dan fotoreduksi, masing-masing.Nanokomposit Ag/NiS/TiO2 meningkatkan kecekapan penggunaan cahaya dan memanjangkan julat penyerapan cahaya dari kawasan ultraungu ke kawasan yang boleh dilihat.Sementara itu, pemendapan nanozarah perak memberikan nanokomposit Ag/NiS/TiO2 kestabilan optik yang sangat baik dan perlindungan katodik yang stabil.
Pertama, kerajang titanium setebal 0.1 mm dengan ketulenan 99.9% dipotong kepada saiz 30 mm × 10 mm untuk eksperimen.Kemudian, setiap permukaan kerajang titanium digilap 100 kali dengan kertas pasir 2500 grit, dan kemudian dibasuh berturut-turut dengan aseton, etanol mutlak, dan air suling.Letakkan plat titanium dalam campuran 85 °C (natrium hidroksida: natrium karbonat: air = 5:2:100) selama 90 minit, keluarkan dan bilas dengan air suling.Permukaan telah terukir dengan larutan HF (HF:H2O = 1:5) selama 1 minit, kemudian dibasuh secara bergantian dengan aseton, etanol, dan air suling, dan akhirnya dikeringkan untuk digunakan.Wayar nano titanium dioksida telah dibuat dengan pantas pada permukaan kerajang titanium dengan proses anodisasi satu langkah.Untuk anodisasi, sistem dua elektrod tradisional digunakan, elektrod kerja adalah kepingan titanium, dan elektrod kaunter adalah elektrod platinum.Letakkan plat titanium dalam 400 ml larutan NaOH 2 M dengan pengapit elektrod.Arus bekalan kuasa DC stabil pada kira-kira 1.3 A. Suhu larutan dikekalkan pada 80°C selama 180 minit semasa tindak balas sistemik.Lembaran titanium dikeluarkan, dibasuh dengan aseton dan etanol, dibasuh dengan air suling, dan dikeringkan secara semula jadi.Kemudian sampel diletakkan di dalam relau meredam pada suhu 450°C (kadar pemanasan 5°C/min), disimpan pada suhu malar selama 120 minit, dan diletakkan di dalam dulang pengeringan.
Komposit nikel sulfida-titanium dioksida diperoleh dengan kaedah pemendapan celupan yang mudah dan mudah.Pertama, nikel nitrat (0.03 M) telah dilarutkan dalam etanol dan disimpan di bawah kacau magnet selama 20 minit untuk mendapatkan larutan etanol nikel nitrat.Kemudian sediakan natrium sulfida (0.03 M) dengan larutan campuran metanol (metanol:air = 1:1).Kemudian, tablet titanium dioksida diletakkan di dalam larutan yang disediakan di atas, dibawa keluar selepas 4 minit, dan dibasuh dengan cepat dengan larutan campuran metanol dan air (metanol:air=1:1) selama 1 minit.Selepas permukaan telah kering, tablet diletakkan di dalam relau meredam, dipanaskan dalam vakum pada 380°C selama 20 minit, disejukkan ke suhu bilik, dan dikeringkan.Bilangan kitaran 2, 4, 6 dan 8.
Nanopartikel Ag mengubah suai nanokomposit Ag/NiS/TiO2 dengan photoreduction12,13.Nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang terhasil diletakkan dalam larutan perak nitrat yang diperlukan untuk eksperimen.Kemudian sampel disinari dengan cahaya ultraungu selama 30 minit, permukaannya dibersihkan dengan air ternyahion, dan nanokomposit Ag/NiS/TiO2 diperolehi dengan pengeringan semula jadi.Proses eksperimen yang diterangkan di atas ditunjukkan dalam Rajah 1.
Nanokomposit Ag/NiS/TiO2 telah dicirikan terutamanya oleh mikroskop elektron pengimbasan pelepasan medan (FESEM), spektroskopi penyebaran tenaga (EDS), spektroskopi fotoelektron sinar-X (XPS), dan pemantulan meresap dalam julat ultraungu dan boleh dilihat (UV-Vis).FESEM dilakukan menggunakan mikroskop Nova NanoSEM 450 (FEI Corporation, USA).Voltan pecutan 1 kV, saiz tempat 2.0.Peranti menggunakan siasatan CBS untuk menerima elektron sekunder dan berselerak belakang untuk analisis topografi.EMF telah dijalankan menggunakan sistem EMF Oxford X-Max N50 (Oxford Instruments Technology Co., Ltd.) dengan voltan pecutan 15 kV dan saiz titik 3.0.Analisis kualitatif dan kuantitatif menggunakan sinar-X ciri.Spektroskopi fotoelektron sinar-X telah dilakukan pada spektrometer Escalab 250Xi (Thermo Fisher Scientific Corporation, USA) yang beroperasi dalam mod tenaga tetap dengan kuasa pengujaan 150 W dan sinaran Al Kα monokromatik (1486.6 eV) sebagai sumber pengujaan.Julat imbasan penuh 0–1600 eV, jumlah tenaga 50 eV, lebar langkah 1.0 eV, dan karbon tidak tulen (~284.8 eV) telah digunakan sebagai rujukan pembetulan cas tenaga mengikat.Tenaga pas untuk pengimbasan sempit ialah 20 eV dengan langkah 0.05 eV.Spektroskopi pemantulan meresap di kawasan yang boleh dilihat UV telah dilakukan pada spektrometer Cary 5000 (Varian, Amerika Syarikat) dengan plat barium sulfat piawai dalam julat pengimbasan 10–80°.
Dalam kerja ini, komposisi (peratus berat) 304 keluli tahan karat ialah 0.08 C, 1.86 Mn, 0.72 Si, 0.035 P, 0.029 s, 18.25 Cr, 8.5 Ni, dan selebihnya ialah Fe.10mm x 10mm x 10mm Keluli tahan karat 304, pasu epoksi dengan 1 cm2 luas permukaan terdedah.Permukaannya diampelas dengan kertas pasir silikon karbida 2400 grit dan dibasuh dengan etanol.Keluli tahan karat kemudiannya disonikasi dalam air ternyahion selama 5 minit dan kemudian disimpan di dalam ketuhar.
Dalam eksperimen OCP, keluli tahan karat 304 dan fotoanod Ag/NiS/TiO2 masing-masing diletakkan dalam sel kakisan dan sel fotoanod (Rajah 2).Sel kakisan telah diisi dengan larutan NaCl 3.5%, dan 0.25 M Na2SO3 dituangkan ke dalam sel fotoanod sebagai perangkap lubang.Kedua-dua elektrolit diasingkan daripada campuran menggunakan membran naftol.OCP diukur pada stesen kerja elektrokimia (P4000+, Amerika Syarikat).Elektrod rujukan ialah elektrod calomel tepu (SCE).Sumber cahaya (lampu xenon, PLS-SXE300C, Poisson Technologies Co., Ltd.) dan plat potong 420 diletakkan di alur keluar sumber cahaya, membenarkan cahaya yang boleh dilihat melalui kaca kuarza ke fotoanod.Elektrod keluli tahan karat 304 disambungkan kepada fotoanod dengan wayar kuprum.Sebelum eksperimen, elektrod keluli tahan karat 304 direndam dalam larutan NaCl 3.5% selama 2 jam untuk memastikan keadaan mantap.Pada permulaan eksperimen, apabila lampu dihidupkan dan dimatikan, elektron teruja fotoanod mencapai permukaan keluli tahan karat 304 melalui wayar.
Dalam eksperimen pada ketumpatan arus foto, fotoanod 304SS dan Ag/NiS/TiO2 masing-masing diletakkan dalam sel kakisan dan sel fotoanod (Rajah 3).Ketumpatan arus foto diukur pada tetapan yang sama seperti OCP.Untuk mendapatkan ketumpatan arus foto sebenar antara keluli tahan karat 304 dan fotoanod, potensiostat digunakan sebagai ammeter rintangan sifar untuk menyambung keluli tahan karat 304 dan fotoanod di bawah keadaan tidak terkutub.Untuk melakukan ini, elektrod rujukan dan kaunter dalam persediaan eksperimen adalah litar pintas, supaya stesen kerja elektrokimia berfungsi sebagai ammeter rintangan sifar yang boleh mengukur ketumpatan arus sebenar.Elektrod keluli tahan karat 304 disambungkan ke tanah stesen kerja elektrokimia, dan fotoanod disambungkan ke pengapit elektrod kerja.Pada permulaan eksperimen, apabila lampu dihidupkan dan dimatikan, elektron teruja fotoanod melalui wayar mencapai permukaan keluli tahan karat 304.Pada masa ini, perubahan dalam ketumpatan arus foto pada permukaan keluli tahan karat 304 boleh diperhatikan.
Untuk mengkaji prestasi perlindungan katodik nanokomposit pada keluli tahan karat 304, perubahan dalam potensi pengionan 304 keluli tahan karat dan nanokomposit, serta perubahan dalam ketumpatan arus fotoionisasi antara nanokomposit dan 304 keluli tahan karat, telah diuji.
Pada rajah.4 menunjukkan perubahan dalam potensi litar terbuka 304 keluli tahan karat dan nanokomposit di bawah penyinaran cahaya yang boleh dilihat dan dalam keadaan gelap.Pada rajah.4a menunjukkan pengaruh masa pemendapan NiS dengan rendaman pada potensi litar terbuka, dan rajah.4b menunjukkan kesan kepekatan perak nitrat ke atas potensi litar terbuka semasa fotoreduksi.Pada rajah.4a menunjukkan bahawa potensi litar terbuka nanokomposit NiS/TiO2 yang terikat pada keluli tahan karat 304 berkurangan dengan ketara pada masa lampu dihidupkan berbanding komposit nikel sulfida.Di samping itu, potensi litar terbuka adalah lebih negatif daripada wayar nano TiO2 tulen, menunjukkan bahawa komposit nikel sulfida menjana lebih banyak elektron dan meningkatkan kesan perlindungan fotokatod daripada TiO2.Walau bagaimanapun, pada akhir pendedahan, potensi tanpa beban meningkat dengan cepat kepada potensi tanpa beban keluli tahan karat, menunjukkan bahawa nikel sulfida tidak mempunyai kesan penyimpanan tenaga.Kesan bilangan kitaran pemendapan rendaman ke atas potensi litar terbuka boleh diperhatikan dalam Rajah 4a.Pada masa pemendapan 6, potensi ekstrem nanokomposit mencapai -550 mV berbanding elektrod calomel tepu, dan potensi nanokomposit yang dimendapkan oleh faktor 6 adalah jauh lebih rendah daripada nanokomposit dalam keadaan lain.Oleh itu, nanokomposit NiS/TiO2 yang diperolehi selepas 6 kitaran pemendapan memberikan perlindungan katodik terbaik untuk keluli tahan karat 304.
Perubahan dalam OCP bagi 304 elektrod keluli tahan karat dengan nanokomposit NiS/TiO2 (a) dan Ag/NiS/TiO2 nanokomposit (b) dengan dan tanpa pencahayaan (λ > 400 nm).
Seperti yang ditunjukkan dalam rajah.Dalam Rajah 4b, potensi litar terbuka 304 keluli tahan karat dan nanokomposit Ag/NiS/TiO2 berkurangan dengan ketara apabila terdedah kepada cahaya.Selepas pemendapan permukaan nanopartikel perak, potensi litar terbuka dikurangkan dengan ketara berbanding dengan wayar nano TiO2 tulen.Potensi nanokomposit NiS/TiO2 adalah lebih negatif, menunjukkan bahawa kesan perlindungan katodik TiO2 bertambah baik dengan ketara selepas nanozarah Ag dimendapkan.Potensi litar terbuka meningkat dengan cepat pada penghujung pendedahan, dan berbanding elektrod kalomel tepu, potensi litar terbuka boleh mencapai -580 mV, yang lebih rendah daripada keluli tahan karat 304 (-180 mV).Keputusan ini menunjukkan bahawa nanokomposit mempunyai kesan penyimpanan tenaga yang luar biasa selepas zarah perak dimendapkan pada permukaannya.Pada rajah.4b juga menunjukkan kesan kepekatan perak nitrat ke atas potensi litar terbuka.Pada kepekatan perak nitrat 0.1 M, potensi mengehadkan relatif kepada elektrod kalomel tepu mencapai -925 mV.Selepas 4 kitaran aplikasi, potensi kekal pada tahap selepas aplikasi pertama, yang menunjukkan kestabilan nanokomposit yang sangat baik.Oleh itu, pada kepekatan perak nitrat 0.1 M, nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang terhasil mempunyai kesan perlindungan katodik terbaik pada keluli tahan karat 304.
Pemendapan NiS pada permukaan wayar nano TiO2 bertambah baik secara beransur-ansur dengan peningkatan masa pemendapan NiS.Apabila cahaya yang boleh dilihat mengenai permukaan wayar nano, lebih banyak tapak aktif nikel sulfida teruja untuk menjana elektron, dan potensi pengionan semakin berkurangan.Walau bagaimanapun, apabila nanozarah nikel sulfida dimendapkan secara berlebihan di permukaan, nikel sulfida yang teruja dikurangkan sebaliknya, yang tidak menyumbang kepada penyerapan cahaya.Selepas zarah perak didepositkan di permukaan, disebabkan oleh kesan resonans plasmon permukaan zarah perak, elektron yang dihasilkan akan dengan cepat dipindahkan ke permukaan keluli tahan karat 304, menghasilkan kesan perlindungan katodik yang sangat baik.Apabila terlalu banyak zarah perak dimendapkan di permukaan, zarah perak menjadi titik penggabungan semula untuk fotoelektron dan lubang, yang tidak menyumbang kepada penjanaan fotoelektron.Kesimpulannya, nanokomposit Ag/NiS/TiO2 boleh memberikan perlindungan katodik terbaik untuk keluli tahan karat 304 selepas pemendapan nikel sulfida 6 kali ganda di bawah 0.1 M perak nitrat.
Nilai ketumpatan arus foto mewakili kuasa pemisah elektron dan lubang yang dijana foto, dan semakin besar ketumpatan arus foto, semakin kuat kuasa pemisah elektron dan lubang yang dijana foto.Terdapat banyak kajian menunjukkan bahawa NiS digunakan secara meluas dalam sintesis bahan fotokatalitik untuk memperbaiki sifat fotoelektrik bahan dan untuk memisahkan lubang15,16,17,18,19,20.Chen et al.mengkaji graphene bebas logam mulia dan komposit g-C3N4 yang diubah suai bersama dengan NiS15.Keamatan maksimum arus foto bagi g-C3N4/0.25%RGO/3%NiS yang diubah suai ialah 0.018 μA/cm2.Chen et al.mengkaji CdSe-NiS dengan ketumpatan arus foto kira-kira 10 µA/cm2.16.Liu et al.mensintesis komposit CdS@NiS dengan ketumpatan arus foto 15 µA/cm218.Walau bagaimanapun, penggunaan NiS untuk perlindungan fotokatod masih belum dilaporkan.Dalam kajian kami, ketumpatan arus foto TiO2 telah meningkat dengan ketara oleh pengubahsuaian NiS.Pada rajah.5 menunjukkan perubahan dalam ketumpatan arus foto 304 keluli tahan karat dan nanokomposit di bawah keadaan cahaya yang boleh dilihat dan tanpa pencahayaan.Seperti yang ditunjukkan dalam rajah.Seperti yang ditunjukkan dalam Rajah 5a, ketumpatan arus foto nanokomposit NiS/TiO2 meningkat dengan cepat pada saat cahaya dihidupkan, dan ketumpatan arus foto adalah positif, menunjukkan pengaliran elektron dari nanokomposit ke permukaan melalui stesen kerja elektrokimia.304 keluli tahan karat.Selepas penyediaan komposit nikel sulfida, ketumpatan arus foto adalah lebih besar daripada wayar nano TiO2 tulen.Ketumpatan arus foto NiS mencapai 220 μA/cm2, iaitu 6.8 kali lebih tinggi daripada wayar nano TiO2 (32 μA/cm2), apabila NiS direndam dan dimendapkan 6 kali.Seperti yang ditunjukkan dalam rajah.Seperti yang ditunjukkan dalam Rajah 5b, ketumpatan arus foto antara nanokomposit Ag/NiS/TiO2 dan keluli tahan karat 304 adalah jauh lebih tinggi daripada antara TiO2 tulen dan nanokomposit NiS/TiO2 apabila dihidupkan di bawah lampu xenon.Pada rajah.Rajah 5b juga menunjukkan kesan kepekatan AgNO pada ketumpatan arus foto semasa fotoreduksi.Pada kepekatan perak nitrat 0.1 M, ketumpatan arus fotonya mencapai 410 μA/cm2, iaitu 12.8 kali lebih tinggi daripada wayar nano TiO2 (32 μA/cm2) dan 1.8 kali lebih tinggi daripada nanokomposit NiS/TiO2.Medan elektrik heterojunction terbentuk pada antara muka nanokomposit Ag/NiS/TiO2, yang memudahkan pemisahan elektron terjana foto daripada lubang.
Perubahan dalam ketumpatan arus foto elektrod keluli tahan karat 304 dengan (a) nanokomposit NiS/TiO2 dan (b) nanokomposit Ag/NiS/TiO2 dengan dan tanpa pencahayaan (λ > 400 nm).
Oleh itu, selepas 6 kitaran pemendapan nikel sulfida dalam nitrat perak pekat 0.1 M, ketumpatan arus foto antara komposit nano Ag/NiS/TiO2 dan keluli tahan karat 304 mencapai 410 μA/cm2, yang lebih tinggi daripada kalomel tepu.elektrod mencapai -925 mV.Di bawah keadaan ini, keluli tahan karat 304 digabungkan dengan Ag/NiS/TiO2 boleh memberikan perlindungan katodik terbaik.
Pada rajah.6 menunjukkan imej mikroskop elektron permukaan wayar nano titanium dioksida tulen, nanopartikel nikel sulfida komposit dan nanozarah perak di bawah keadaan optimum.Pada rajah.6a, d menunjukkan wayar nano TiO2 tulen yang diperolehi oleh anodisasi satu peringkat.Pengagihan permukaan wayar nano titanium dioksida adalah seragam, struktur wayar nano adalah rapat antara satu sama lain, dan pengagihan saiz liang adalah seragam.Rajah 6b dan e ialah mikrograf elektron titanium dioksida selepas impregnasi 6 kali ganda dan pemendapan komposit nikel sulfida.Daripada imej mikroskopik elektron yang diperbesarkan 200,000 kali dalam Rajah 6e, dapat dilihat bahawa nanopartikel komposit nikel sulfida adalah agak homogen dan mempunyai saiz zarah yang besar kira-kira 100–120 nm diameter.Sesetengah zarah nano boleh diperhatikan dalam kedudukan spatial wayar nano, dan wayar nano titanium dioksida boleh dilihat dengan jelas.Pada rajah.6c,f menunjukkan imej mikroskopik elektron bagi nanokomposit NiS/TiO2 pada kepekatan AgNO 0.1 M. Berbanding dengan Rajah.6b dan rajah.6e, rajah.6c dan rajah.6f menunjukkan bahawa nanopartikel Ag dimendapkan pada permukaan bahan komposit, dengan nanopartikel Ag diagihkan secara seragam dengan diameter kira-kira 10 nm.Pada rajah.7 menunjukkan keratan rentas nanofilem Ag/NiS/TiO2 tertakluk kepada 6 kitaran pemendapan NiS pada kepekatan AgNO3 0.1 M. Daripada imej pembesaran tinggi, ketebalan filem yang diukur ialah 240-270 nm.Oleh itu, nanopartikel nikel dan perak sulfida dipasang pada permukaan wayar nano TiO2.
TiO2 tulen (a, d), nanokomposit NiS/TiO2 dengan 6 kitaran pemendapan NiS (b, e) dan Ag/NiS/NiS dengan 6 kitaran pemendapan NiS pada imej 0.1 M AgNO3 SEM bagi nanokomposit TiO2 (c , e).
Keratan rentas nanofilem Ag/NiS/TiO2 tertakluk kepada 6 kitaran pemendapan NiS pada kepekatan AgNO3 0.1 M.
Pada rajah.8 menunjukkan taburan permukaan unsur di atas permukaan nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang diperoleh daripada 6 kitaran pemendapan nikel sulfida pada kepekatan perak nitrat 0.1 M. Taburan permukaan unsur menunjukkan Ti, O, Ni, S dan Ag telah dikesan.menggunakan spektroskopi tenaga.Dari segi kandungan, Ti dan O adalah unsur yang paling biasa dalam pengedaran, manakala Ni dan S adalah lebih kurang sama, tetapi kandungannya jauh lebih rendah daripada Ag.Ia juga boleh dibuktikan bahawa jumlah nanopartikel perak komposit permukaan adalah lebih besar daripada nikel sulfida.Taburan seragam unsur pada permukaan menunjukkan bahawa nikel dan perak sulfida terikat secara seragam pada permukaan wayar nano TiO2.Analisis spektroskopi fotoelektron sinar-X juga telah dijalankan untuk menganalisis komposisi khusus dan keadaan mengikat bahan.
Taburan unsur (Ti, O, Ni, S, dan Ag) nanokomposit Ag/NiS/TiO2 pada kepekatan AgNO3 0.1 M untuk 6 kitaran pemendapan NiS.
Pada rajah.Rajah 9 menunjukkan spektrum XPS nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang diperoleh menggunakan 6 kitaran pemendapan nikel sulfida secara rendaman dalam 0.1 M AgNO3, di mana rajah.9a ialah spektrum penuh, dan spektrum selebihnya ialah spektrum resolusi tinggi bagi elemen.Seperti yang dapat dilihat daripada spektrum penuh dalam Rajah 9a, puncak serapan Ti, O, Ni, S, dan Ag ditemui dalam komposit nano, yang membuktikan kewujudan lima unsur ini.Keputusan ujian adalah mengikut EDS.Puncak berlebihan dalam Rajah 9a ialah puncak karbon yang digunakan untuk membetulkan tenaga ikatan sampel.Pada rajah.9b menunjukkan spektrum tenaga resolusi tinggi Ti.Puncak penyerapan orbital 2p terletak pada 459.32 dan 465 eV, yang sepadan dengan penyerapan orbital Ti 2p3/2 dan Ti 2p1/2.Dua puncak serapan membuktikan bahawa titanium mempunyai valensi Ti4+, yang sepadan dengan Ti dalam TiO2.
Spektrum XPS bagi ukuran Ag/NiS/TiO2 (a) dan spektrum XPS resolusi tinggi Ti2p(b), O1s(c), Ni2p(d), S2p(e) dan Ag 3d(f).
Pada rajah.9d menunjukkan spektrum tenaga Ni resolusi tinggi dengan empat puncak penyerapan untuk orbital Ni 2p.Puncak penyerapan pada 856 dan 873.5 eV sepadan dengan orbital Ni 2p3/2 dan Ni 2p1/2 8.10, di mana puncak penyerapan tergolong dalam NiS.Puncak penyerapan pada 881 dan 863 eV adalah untuk nikel nitrat dan disebabkan oleh reagen nikel nitrat semasa penyediaan sampel.Pada rajah.9e menunjukkan spektrum S resolusi tinggi.Puncak penyerapan orbital S 2p terletak pada 161.5 dan 168.1 eV, yang sepadan dengan orbital S 2p3/2 dan S 2p1/2 21, 22, 23, 24. Kedua-dua puncak ini tergolong dalam sebatian nikel sulfida.Puncak penyerapan pada 169.2 dan 163.4 eV adalah untuk reagen natrium sulfida.Pada rajah.9f menunjukkan spektrum Ag beresolusi tinggi di mana puncak penyerapan orbital 3d perak masing-masing terletak pada 368.2 dan 374.5 eV, dan dua puncak penyerapan sepadan dengan orbit penyerapan Ag 3d5/2 dan Ag 3d3/212, 13. Puncak dalam kedua-dua tempat perak perak ini membuktikan bahawa puncak dalam kedua-dua tempat perak ini.Oleh itu, nanokomposit terutamanya terdiri daripada Ag, NiS dan TiO2, yang ditentukan oleh spektroskopi fotoelektron sinar-X, yang membuktikan bahawa nanopartikel nikel dan perak sulfida berjaya digabungkan pada permukaan wayar nano TiO2.
Pada rajah.10 menunjukkan spektrum pemantulan meresap UV-VIS bagi wayar nano TiO2 yang baru disediakan, nanokomposit NiS/TiO2 dan nanokomposit Ag/NiS/TiO2.Ia boleh dilihat daripada rajah bahawa ambang penyerapan wayar nano TiO2 adalah kira-kira 390 nm, dan cahaya yang diserap terutamanya tertumpu di kawasan ultraviolet.Ia boleh dilihat daripada rajah bahawa selepas gabungan nanopartikel nikel dan perak sulfida pada permukaan wayar nano titanium dioksida 21, 22, cahaya yang diserap merambat ke kawasan cahaya yang boleh dilihat.Pada masa yang sama, nanokomposit telah meningkatkan penyerapan UV, yang dikaitkan dengan jurang jalur sempit nikel sulfida.Semakin sempit jurang jalur, semakin rendah penghalang tenaga untuk peralihan elektronik dan semakin tinggi tahap penggunaan cahaya.Selepas menggabungkan permukaan NiS/TiO2 dengan nanopartikel perak, keamatan penyerapan dan panjang gelombang cahaya tidak meningkat dengan ketara, terutamanya disebabkan oleh kesan resonans plasmon pada permukaan nanopartikel perak.Panjang gelombang penyerapan dawai nano TiO2 tidak bertambah baik dengan ketara berbanding jurang jalur sempit nanopartikel NiS komposit.Ringkasnya, selepas komposit nikel sulfida dan nanopartikel perak pada permukaan wayar nano titanium dioksida, ciri penyerapan cahayanya bertambah baik, dan julat penyerapan cahaya dilanjutkan daripada ultraungu kepada cahaya kelihatan, yang meningkatkan kadar penggunaan wayar nano titanium dioksida.cahaya yang meningkatkan keupayaan bahan untuk menghasilkan fotoelektron.
Spektrum pemantulan meresap UV/Vis bagi wayar nano TiO2 segar, nanokomposit NiS/TiO2 dan nanokomposit Ag/NiS/TiO2.
Pada rajah.11 menunjukkan mekanisme rintangan kakisan fotokimia bagi nanokomposit Ag/NiS/TiO2 di bawah penyinaran cahaya yang boleh dilihat.Berdasarkan potensi pengedaran nanopartikel perak, nikel sulfida, dan jalur pengaliran titanium dioksida, peta kemungkinan mekanisme rintangan kakisan dicadangkan.Oleh kerana potensi jalur pengaliran nanosilver adalah negatif berbanding dengan nikel sulfida, dan potensi jalur pengaliran nikel sulfida adalah negatif berbanding dengan titanium dioksida, arah aliran elektron secara kasar Ag→NiS→TiO2→304 keluli tahan karat.Apabila cahaya disinari pada permukaan nanokomposit, disebabkan oleh kesan resonans plasmon permukaan nanosilver, nanosilver dengan cepat boleh menjana lubang dan elektron yang dijana foto, dan elektron yang dijana foto dengan cepat bergerak dari kedudukan jalur valensi ke kedudukan jalur pengaliran kerana pengujaan.Titanium dioksida dan nikel sulfida.Oleh kerana kekonduksian nanozarah perak adalah lebih negatif daripada nikel sulfida, elektron dalam TS nanozarah perak dengan cepat ditukar kepada TS nikel sulfida.Potensi pengaliran nikel sulfida adalah lebih negatif daripada titanium dioksida, jadi elektron nikel sulfida dan kekonduksian perak cepat terkumpul dalam CB titanium dioksida.Elektron terjana foto yang dihasilkan mencapai permukaan keluli tahan karat 304 melalui matriks titanium, dan elektron yang diperkaya mengambil bahagian dalam proses pengurangan oksigen katodik bagi keluli tahan karat 304.Proses ini mengurangkan tindak balas katodik dan pada masa yang sama menindas tindak balas pembubaran anodik keluli tahan karat 304, dengan itu merealisasikan perlindungan katodik keluli tahan karat 304. Disebabkan pembentukan medan elektrik heterojunction dalam nanokomposit Ag/NiS/TiO2, potensi konduktif nanokomposit bertambah baik, yang mana kesan perlindungan negatif katodik30 lebih berkesan bagi keluli tahan karat yang lebih berkesan.
Gambarajah skematik proses anti-karat fotoelektrokimia bagi nanokomposit Ag/NiS/TiO2 dalam cahaya yang boleh dilihat.
Dalam kerja ini, nanopartikel nikel dan perak sulfida telah disintesis pada permukaan wayar nano TiO2 dengan kaedah rendaman dan pengurangan foto yang mudah.Satu siri kajian tentang perlindungan katodik nanokomposit Ag/NiS/TiO2 pada keluli tahan karat 304 telah dijalankan.Berdasarkan ciri morfologi, analisis komposisi dan analisis ciri penyerapan cahaya, kesimpulan utama berikut dibuat:
Dengan beberapa kitaran pemendapan impregnasi nikel sulfida sebanyak 6 dan kepekatan perak nitrat untuk pengurangan foto sebanyak 0.1 mol/l, nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang terhasil mempunyai kesan perlindungan katodik yang lebih baik pada keluli tahan karat 304.Berbanding dengan elektrod calomel tepu, potensi perlindungan mencapai -925 mV, dan arus perlindungan mencapai 410 μA/cm2.
Medan elektrik heterojunction terbentuk pada antara muka nanokomposit Ag/NiS/TiO2, yang meningkatkan kuasa pemisah elektron dan lubang yang dijana foto.Pada masa yang sama, kecekapan penggunaan cahaya meningkat dan julat penyerapan cahaya dilanjutkan dari kawasan ultraungu ke kawasan yang boleh dilihat.Nanokomposit masih akan mengekalkan keadaan asalnya dengan kestabilan yang baik selepas 4 kitaran.
Nanokomposit Ag/NiS/TiO2 yang disediakan secara eksperimen mempunyai permukaan yang seragam dan padat.Nikel sulfida dan nanozarah perak dikompaun secara seragam pada permukaan wayar nano TiO2.Komposit kobalt ferit dan nanopartikel perak mempunyai ketulenan yang tinggi.
Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Kesan perlindungan fotokatodik filem TiO2 untuk keluli karbon dalam larutan NaCl 3%. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Kesan perlindungan fotokatodik filem TiO2 untuk keluli karbon dalam larutan NaCl 3%. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Эффект фотокатодной защиты пленок TiO2 для углеродистой стали dalam 3% komponen NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Kesan perlindungan fotokatod bagi filem TiO2 untuk keluli karbon dalam larutan NaCl 3%. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜在3% NaCl 溶液中对碳钢的光阴极保护效果。 Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Фотокатодная защита углеродистой стали тонкими пленками TiO2 в 3% растворе NaCl. Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN Perlindungan fotokatode keluli karbon dengan filem nipis TiO2 dalam larutan NaCl 3%.Elektrokim.Akta 50, 3401–3406 (2005).
Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG Perlindungan katodik janaan foto bagi filem TiO2 berdop N seperti bunga, berstruktur nano, pada keluli tahan karat. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG Perlindungan katodik janaan foto bagi filem TiO2 berdop N seperti bunga, berstruktur nano, pada keluli tahan karat.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK dan Du, RG Perlindungan katodik yang dijana oleh foto bagi filem TiO2 berstruktur nano, didop nitrogen dalam bentuk bunga pada keluli tahan karat. Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG 花状纳米结构N 掺杂TiO2 薄膜在不锈钢上的光生阴极保护。 Li, J., Lin, CJ, Lai, YK & Du, RG.Lee, J., Lin, SJ, Lai, YK dan Du, RG Perlindungan katodik terjanaan foto bagi filem nipis berstruktur nano berbentuk bunga berdop nitrogen pada keluli tahan karat.melayari A kot.teknologi 205, 557–564 (2010).
Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Ciri perlindungan katod terjanaan foto salutan TiO2/WO3 bersaiz nano. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. Ciri perlindungan katod terjanaan foto salutan TiO2/WO3 bersaiz nano.Zhou, MJ, Zeng, ZO dan Zhong, L. Ciri-ciri perlindungan katodik yang dihasilkan oleh foto salutan skala nano TiO2/WO3. Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能。 Zhou, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米TiO2/WO3 涂层的光生阴极保护性能。Zhou MJ, Zeng ZO dan Zhong L. Ciri-ciri perlindungan katodik yang dihasilkan oleh foto bagi salutan nano-TiO2/WO3.koros.Sains.51, 1386–1397 (2009).
Park, H., Kim, KY & Choi, W. Pendekatan fotoelektrokimia untuk pencegahan kakisan logam menggunakan fotoanod semikonduktor. Park, H., Kim, KY & Choi, W. Pendekatan fotoelektrokimia untuk pencegahan kakisan logam menggunakan fotoanod semikonduktor.Park, H., Kim, K.Yu.dan Choi, V. Pendekatan fotoelektrokimia untuk pencegahan kakisan logam menggunakan fotoanod semikonduktor. Park, H., Kim, KY & Choi, W. 使用半导体光阳极防止金属腐蚀的光电化学方法。 Park, H., Kim, KY & Choi, W.Park H., Kim K.Yu.dan Choi V. Kaedah fotoelektrokimia untuk mencegah kakisan logam menggunakan fotoanod semikonduktor.J. Fizik.kimia.V. 106, 4775–4781 (2002).
Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Kajian tentang salutan nano-TiO2 hidrofobik dan sifatnya untuk perlindungan kakisan logam. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Kajian tentang salutan nano-TiO2 hidrofobik dan sifatnya untuk perlindungan kakisan logam. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Penyiasatan salutan nano-TiO2 hidrofobik dan sifatnya untuk perlindungan kakisan logam. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. 疏水纳米二氧化钛涂层及其金属腐蚀防护性能的研究。 Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Kajian salutan nano-titanium dioksida 疵水 dan sifat perlindungan kakisan logamnya. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Гидрофобные покрытия из нано-TiO2 dan их свойства защиты металлов от коррозии. Shen, GX, Chen, YC, Lin, L., Lin, CJ & Scantlebury, D. Salutan hidrofobik nano-TiO2 dan sifat perlindungan kakisannya untuk logam.Elektrokim.Akta 50, 5083–5089 (2005).
Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Kajian mengenai salutan nano-TiO2 yang diubah suai N, S dan Cl untuk perlindungan kakisan keluli tahan karat. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Kajian mengenai salutan nano-TiO2 yang diubah suai N, S dan Cl untuk perlindungan kakisan keluli tahan karat.Yun, H., Li, J., Chen, HB dan Lin, SJ Penyiasatan salutan nano-TiO2 diubah suai dengan nitrogen, sulfur dan klorin untuk perlindungan kakisan keluli tahan karat. Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ N、S 和Cl 改性纳米二氧化钛涂层用于不锈钢腐蚀防护的研究。 Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ N、S和Cl Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Покрытия N, S и Cl, модифицированные нано-TiO2, для защиты от коррозии нержавеющей стали Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ Nano-TiO2 salutan N, S dan Cl diubah suai untuk perlindungan kakisan keluli tahan karat.Elektrokim.Jilid 52, 6679–6685 (2007).
Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Sifat perlindungan fotokatodik bagi filem rangkaian wayar nano titanat tiga dimensi yang disediakan oleh kaedah gabungan sol-gel dan hidroterma. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Sifat perlindungan fotokatodik bagi filem rangkaian wayar nano titanat tiga dimensi yang disediakan oleh kaedah gabungan sol-gel dan hidroterma. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ . м золь-гель и гидротермическим методом. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Sifat perlindungan fotokatodik bagi filem bersih tiga dimensi wayar nano titanat yang disediakan dengan kaedah gabungan sol-gel dan hidroterma. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ 溶胶-凝胶和水热法制备三维钛酸盐纳米线网络薄膜的光。 Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ.Sifat perlindungan 消铺-铲和水热法发气小水小水化用线线电视电器电影电影电影电影电影电影电影电影电影电影. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ . ь и гидротермическими методами. Zhu, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ Sifat perlindungan fotokatodik bagi filem nipis rangkaian wayar nano titanat tiga dimensi yang disediakan oleh kaedah sol-gel dan hidroterma.Elektrokimia.berkomunikasi 12, 1626–1629 (2010).
Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. Sistem fotokatalitik TiO2 terpeka heterojunction pn pn untuk fotoreduksi karbon dioksida yang cekap kepada metana. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. Sistem fotokatalitik TiO2 terpeka pn heterojunction NiS untuk pengurangan foto yang cekap karbon dioksida kepada metana.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM, dan Kang, M. Sistem fotokatalitik TiO2 pn-heterojunction NiS pemekaan untuk fotoreduksi karbon dioksida yang cekap kepada metana. Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M. 一种pn 异质结NiS 敏化TiO2 光催化系统，用于将二氧化碳高效化碳高效光丘。 Lee, JH, Kim, SI, Park, SM & Kang, M.Lee, JH, Kim, SI, Park, SM, dan Kang, M. Sistem fotokatalitik TiO2 pn-heterojunction NiS pemekaan untuk fotoreduksi karbon dioksida yang cekap kepada metana.seramik.Tafsiran.43, 1768–1774 (2017).
Wang, QZ et al.CuS dan NiS bertindak sebagai kokatalis untuk meningkatkan evolusi hidrogen fotokatalitik pada TiO2.Tafsiran.J.Hydro.Tenaga 39, 13421–13428 (2014).
Liu, Y. & Tang, C. Peningkatan evolusi fotokatalitik H2 ke atas filem lembaran nano TiO2 dengan pemuatan permukaan zarah nano NiS. Liu, Y. & Tang, C. Peningkatan evolusi fotokatalitik H2 ke atas filem lembaran nano TiO2 dengan pemuatan permukaan zarah nano NiS.Liu, Y. dan Tang, K. Peningkatan pelepasan H2 fotokatalitik dalam filem lembaran nano TiO2 dengan pemuatan permukaan zarah nano NiS. Liu, Y. & Tang, C. 通过表面负载NiS 纳米颗粒增强TiO2 纳米片薄膜上的光催化产氢。 Liu, Y. & Tang, C.Liu, Y. dan Tang, K. Meningkatkan pengeluaran hidrogen fotomangkin pada filem nipis kepingan nano TiO2 dengan mendepositkan zarah nano NiS pada permukaan.las.J. Fizik.kimia.A 90, 1042–1048 (2016).
Huang, XW & Liu, ZJ Kajian perbandingan struktur dan sifat filem wayar nano berasaskan Ti–O yang disediakan melalui kaedah anodisasi dan pengoksidaan kimia. Huang, XW & Liu, ZJ Kajian perbandingan struktur dan sifat filem wayar nano berasaskan Ti–O yang disediakan melalui kaedah anodisasi dan pengoksidaan kimia. Huang, XW & Liu, ZJ Сравнительное исследование структуры и свойств пленок нанопроводов на основе Ti-O, полученных мроихикдов го окисления. Huang, XW & Liu, ZJ Kajian perbandingan struktur dan sifat filem dawai nano Ti-O yang diperoleh dengan kaedah anodisasi dan pengoksidaan kimia. Huang, XW & Liu, ZJ 阳极氧化法和化学氧化法制备的Ti-O 基纳米线薄膜结构和性能的比较。 Huang, XW & Liu, ZJ 阳极oxidation法和chemicaloxidation法preparation的Ti-O基基基小线thin film structure和property的comparative research. Huang, XW & Liu, ZJ Сравнительное исследование структуры и свойств тонких пленок из нанопроволоки на основе Ti-O, помдихач ским окислением. Huang, XW & Liu, ZJ Kajian perbandingan struktur dan sifat filem nipis dawai nano Ti-O yang disediakan melalui anodisasi dan pengoksidaan kimia.J. Alma mater.teknologi sains 30, 878–883 (2014).
Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag dan SnO2 fotoanod TiO2 kepekaan bersama untuk perlindungan 304SS di bawah cahaya yang boleh dilihat. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag dan SnO2 fotoanod TiO2 kepekaan bersama untuk perlindungan 304SS di bawah cahaya yang boleh dilihat. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag dan SnO2 совместно сенсибилизировали фотоаноды TiO2 для защиты 304SS в видимом свете. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag dan SnO2 mengkosensitasikan fotoanod TiO2 untuk melindungi 304SS dalam cahaya yang boleh dilihat. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag 和SnO2 共敏化TiO2 光阳极，用于在可见光下保护304SS。 Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Ag Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, BR Фотоанод TiO2, совместно сенсибилизированный Ag и SnO2, для защиты 304SS в видимом свете. Li, H., Wang, XT, Liu, Y. & Hou, fotoanod BR A TiO2 dipeka bersama dengan Ag dan SnO2 untuk perisai cahaya nampak 304SS.koros.Sains.82, 145–153 (2014).
Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag dan CoFe2O4 pekaan bersama TiO2 wayar untuk perlindungan fotokatodik 304 SS di bawah cahaya yang boleh dilihat. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag dan CoFe2O4 pekaan bersama TiO2 wayar untuk perlindungan fotokatodik 304 SS di bawah cahaya yang boleh dilihat.Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. dan Howe, BR Ag dan CoFe2O4 dipekakan bersama dengan wayar nano TiO2 untuk perlindungan fotokatod 304 SS dalam cahaya yang boleh dilihat. Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR Ag 和CoFe2O4 共敏化TiO2 纳米线，用于在可见光下对304 SS 进行光阴极。 Wen, ZH, Wang, N., Wang, J. & Hou, BR AgWen, ZH, Wang, N., Wang, J. dan Howe, BR Ag dan CoFe2O4 bersama-sama pemeka TiO2 wayar untuk perlindungan fotokatod 304 SS dalam cahaya yang boleh dilihat.Tafsiran.J. Elektrokimia.Sains.13, 752–761 (2018).
Bu, YY & Ao, JP Kajian mengenai filem nipis semikonduktor perlindungan katodik fotoelektrokimia untuk logam. Bu, YY & Ao, JP Kajian tentang perlindungan katodik fotoelektrokimia bagi filem nipis semikonduktor untuk logam. Bu, YY & Ao, JP Обзор фотоэлектрохимической катодной защиты тонких полупроводниковых пленок для металлов. Bu, YY & Ao, JP Tinjauan Perlindungan Katodik Fotoelektrokimia bagi Filem Nipis Semikonduktor untuk Logam. Bu, YY & Ao, JP 金属光电化学阴极保护半导体薄膜综述。 Bu, YY & Ao, JP metallization 光电视光阴极电影电影电影电视设计。 Bu, YY & Ao, JP Обзор металлической фотоэлектрохимической катодной защиты тонких полупроводниковых пленок. Bu, YY & Ao, JP Kajian semula perlindungan katodik fotoelektrokimia logam bagi filem semikonduktor nipis.Persekitaran tenaga hijau.2, 331–362 (2017).