Nature.com ପରିଦର୍ଶନ କରିଥିବାରୁ ଧନ୍ୟବାଦ |ଆପଣ ବ୍ୟବହାର କରୁଥିବା ବ୍ରାଉଜର୍ ସଂସ୍କରଣରେ ସୀମିତ CSS ସମର୍ଥନ ଅଛି |ସର୍ବୋତ୍ତମ ଅଭିଜ୍ଞତା ପାଇଁ, ଆମେ ପରାମର୍ଶ ଦେଉଛୁ ଯେ ଆପଣ ଏକ ଅପଡେଟ୍ ବ୍ରାଉଜର୍ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ (କିମ୍ବା ଇଣ୍ଟରନେଟ୍ ଏକ୍ସପ୍ଲୋରରରେ ସୁସଙ୍ଗତତା ମୋଡ୍ ଅକ୍ଷମ କରନ୍ତୁ) |ମ meantime ିରେ ମ continued ିରେ, ନିରନ୍ତର ସମର୍ଥନ ନିଶ୍ଚିତ କରିବାକୁ, ଆମେ ଶ yles ଳୀ ଏବଂ ଜାଭାସ୍କ୍ରିପ୍ଟ ବିନା ସାଇଟ୍ ଉପସ୍ଥାପନ କରିବୁ |
TiO2 ହେଉଛି ଏକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ଯାହା ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ରୂପାନ୍ତର ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ଆଲୋକର ବ୍ୟବହାରରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ, ନିକେଲ୍ ଏବଂ ରୂପା ସଲଫାଇଡ୍ ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲଗୁଡିକ TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ ସରଳ ବୁଡ଼ ପକାଇବା ଏବଂ ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ୱାରା ସିନ୍ଥାଇଜ୍ ହୋଇଥିଲା |304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ପ୍ରତିରକ୍ଷା କାର୍ଯ୍ୟର ଏକ କ୍ରମିକ ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଛି, ଏବଂ ସାମଗ୍ରୀର ମର୍ଫୋଲୋଜି, ରଚନା ଏବଂ ହାଲୁକା ଅବଶୋଷଣ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ସପ୍ଲିମେଣ୍ଟ କରାଯାଇଛି |ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଦର୍ଶାଏ ଯେ ପ୍ରସ୍ତୁତ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ପାଇଁ ସର୍ବୋତ୍ତମ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଦାନ କରିପାରିବ ଯେତେବେଳେ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଇମ୍ଗ୍ରେନେସନ୍-ବୃଷ୍ଟି ଚକ୍ରର ସଂଖ୍ୟା 6 ଏବଂ ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ଫୋଟୋରଡକ୍ସନ୍ ଏକାଗ୍ରତା 0.1M ଅଟେ |
ନିକଟ ଅତୀତରେ ସୂର୍ଯ୍ୟ କିରଣ ବ୍ୟବହାର କରି ଫୋଟୋକାଥୋଡ୍ ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ n- ପ୍ରକାରର ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟରଗୁଡ଼ିକର ପ୍ରୟୋଗ ଏକ ହଟ ପ୍ରସଙ୍ଗ ପାଲଟିଛି |ଯେତେବେଳେ ସୂର୍ଯ୍ୟ କିରଣ ଦ୍ୱାରା ଉତ୍ସାହିତ ହୁଏ, ଏକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପଦାର୍ଥର ଭାଲେନ୍ସ ବ୍ୟାଣ୍ଡ (ଭିବି) ରୁ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ଗୁଡ଼ିକ ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସୃଷ୍ଟି କରିବାକୁ କଣ୍ଡକ୍ଟେସନ୍ ବ୍ୟାଣ୍ଡ (ସିବି) ରେ ଉତ୍ସାହିତ ହେବେ |ଯଦି ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର କିମ୍ବା ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର କଣ୍ଡକ୍ଟେସନ୍ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ସମ୍ଭାବନା ବନ୍ଧା ଧାତୁର ସ୍ୱ-ଇଚିଙ୍ଗ୍ ସମ୍ଭାବନାଠାରୁ ଅଧିକ ନକାରାତ୍ମକ, ତେବେ ଏହି ଫଟୋଗୋଜେନେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡିକ ବନ୍ଧା ଧାତୁର ପୃଷ୍ଠକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ ହେବ |ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଜମା ହେବା ଦ୍ୱାରା ଧାତୁର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ପୋଲାରାଇଜେସନ୍ ହେବ ଏବଂ ସଂପୃକ୍ତ ଧାତୁର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ଯୋଗାଇବ 1,2,3,4,5,6,7 |ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀକୁ ତତ୍ତ୍ୱଗତ ଭାବରେ ଏକ ଅଣ-ବଳିଦାନ ଫଟୋନୋଡ୍ ଭାବରେ ବିବେଚନା କରାଯାଏ, ଯେହେତୁ ଆନାଡିକ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପଦାର୍ଥକୁ ନିଜେ ଖରାପ କରେ ନାହିଁ, କିନ୍ତୁ ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଛିଦ୍ର କିମ୍ବା ଆଡ୍ସର୍ବେଡ୍ ଜ organic ବ ପ୍ରଦୂଷକ ଦ୍ water ାରା ଜଳର ଅକ୍ସିଡେସନ୍ କିମ୍ବା ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଛିଦ୍ର ଫାଶରେ ସଂଗ୍ରହକାରୀଙ୍କ ଉପସ୍ଥିତି |ସବୁଠାରୁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ କଥା ହେଉଛି, ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପଦାର୍ଥରେ ଏକ ସିବି ସମ୍ଭାବନା ରହିବା ଆବଶ୍ୟକ ଯାହା ଧାତୁର ସଂରକ୍ଷିତ ହେବାର ସମ୍ଭାବନାଠାରୁ ଅଧିକ ନକାରାତ୍ମକ ଅଟେ |କେବଳ ସେତେବେଳେ ଫଟୋଗୋଜେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟରର କଣ୍ଡକ୍ଟେସନ୍ ବ୍ୟାଣ୍ଡରୁ ସଂରକ୍ଷିତ ଧାତୁକୁ ଯାଇପାରିବ | ଫୋଟୋକେମିକାଲ୍ କ୍ଷତିକାରକ ପ୍ରତିରୋଧ ଅଧ୍ୟୟନଗୁଡ଼ିକ ବ୍ୟାପକ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ଫାଙ୍କା (3.0–3.2EV) 1,2,3,4,5,6,7 ସହିତ ଅଜ ic ବିକ n- ପ୍ରକାର ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦେଇଛନ୍ତି, ଯାହା କେବଳ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଆଲୋକ (<400 nm) ପ୍ରତି ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ, ଆଲୋକର ଉପଲବ୍ଧତା ହ୍ରାସ କରିଥାଏ | ଫୋଟୋକେମିକାଲ୍ କ୍ଷତିକାରକ ପ୍ରତିରୋଧ ଅଧ୍ୟୟନଗୁଡ଼ିକ ବ୍ୟାପକ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ଫାଙ୍କା (3.0–3.2EV) 1,2,3,4,5,6,7 ସହିତ ଅଜ ic ବିକ n- ପ୍ରକାର ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦେଇଛନ୍ତି, ଯାହା କେବଳ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଆଲୋକ (<400 nm) ପ୍ରତି ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ, ଆଲୋକର ଉପଲବ୍ଧତା ହ୍ରାସ କରିଥାଏ | Исследования стойкости к фотохимческой коррозии были сосредоточены на неорганических полупро микниковых чахах n-tipа с широкой матрещенной чойой (3,0–3,2 EV) 1,2,3,4,5,6,7 , уменьшение доступности света। ଫଟୋଗୋକେମିକାଲ୍ କ୍ଷତିକାରକ ପ୍ରତିରୋଧ ଉପରେ ଗବେଷଣା ଏକ ବ୍ୟାପକ ବ୍ୟାଣ୍ଡଗ୍ୟାପ୍ (3.0–3.2 ଇଭି) 1,2,3,4,5,6,7 ସହିତ n- ପ୍ରକାରର ଅଜ ic ବିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦେଇଛି ଯାହା କେବଳ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ବିକିରଣ (<400 nm) କୁ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା କରିଥାଏ, ଆଲୋକ ଉପଲବ୍ଧତା ହ୍ରାସ କରିଥାଏ |(3.0 耐 腐蚀性 3.0 3.0 3.0 (3.0–3.2EV) 1,2,3,4,5,6,7 的 无机 n 型 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 4003.0 化学 耐腐 3.0 3.0 (3.0–3.2ev) 1.2,3,4,5,6,6,7 的 无机 n 型 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 。 Исследования стойкости к фотохимческой коррозии в основном были сосредоточены на неорганических полупро микниковых чахах n-tipа с широкой кререщенной гарой (3,0–3,2EV) 1,2,3,4,5ю m) ଫଟୋଗୋକେମିକାଲ୍ କ୍ଷତିକାରକ ପ୍ରତିରୋଧ ଉପରେ ଗବେଷଣା ମୁଖ୍ୟତ wide ପ୍ରଶସ୍ତ ବ୍ୟାଣ୍ଡଗ୍ୟାପ୍ (3.0–3.2EV) 1,2,3,4,5,6,7 n- ପ୍ରକାରର ଅଜ ic ବିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦେଇଛି ଯାହା କେବଳ UV ବିକିରଣ ପ୍ରତି ସମ୍ବେଦନଶୀଳ |(<400 nm)ଏହାର ଉତ୍ତରରେ, ଆଲୋକର ଉପଲବ୍ଧତା କମିଯାଏ |
ସାମୁଦ୍ରିକ କ୍ଷୟକ୍ଷତି ସୁରକ୍ଷା କ୍ଷେତ୍ରରେ, ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଭୂମିକା ଗ୍ରହଣ କରିଥାଏ |TiO2 ହେଉଛି ଏକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପଦାର୍ଥ ଯାହାକି ଉତ୍କୃଷ୍ଟ UV ଆଲୋକ ଅବଶୋଷଣ ଏବଂ ଫୋଟୋକାଟାଲାଇଟିକ୍ ଗୁଣ ସହିତ |ଅବଶ୍ୟ, ଆଲୋକର ବ୍ୟବହାରର କମ୍ ହାର ହେତୁ ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଛିଦ୍ରଗୁଡିକ ସହଜରେ ପୁନ omb ମିଳିତ ହୁଏ ଏବଂ ଅନ୍ଧକାର ଅବସ୍ଥାରେ ରକ୍ଷା କରାଯାଇପାରିବ ନାହିଁ |ଏକ ଯୁକ୍ତିଯୁକ୍ତ ଏବଂ ସମ୍ଭବ ସମାଧାନ ଖୋଜିବା ପାଇଁ ଅଧିକ ଅନୁସନ୍ଧାନ ଆବଶ୍ୟକ |ରିପୋର୍ଟ ହୋଇଛି ଯେ TiO2 ର ଫଟୋସେନସିଟିଭିଟିରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ଅନେକ ଭୂପୃଷ୍ଠ ପରିବର୍ତ୍ତନ ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ, ଯେପରିକି Fe, N ସହିତ ଡୋପିଂ, ଏବଂ Ni3S2, Bi2Se3, CdTe ଇତ୍ୟାଦି ସହିତ ମିଶ୍ରଣ |।
ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ହେଉଛି ଏକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ଯାହାକି କେବଳ 1.24 eV8.9 ର ସଂକୀର୍ଣ୍ଣ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ଫାଙ୍କା |ବ୍ୟାଣ୍ଡ ଫାଙ୍କା ଯେତେ ସଂକୀର୍ଣ୍ଣ, ଆଲୋକର ବ୍ୟବହାର ଅଧିକ ଶକ୍ତିଶାଳୀ |ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ମିଶ୍ରିତ ହେବା ପରେ ଆଲୋକର ବ୍ୟବହାର ଡିଗ୍ରୀ ବୃଦ୍ଧି କରାଯାଇପାରେ |ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ସହିତ ମିଳିତ ହୋଇ ଏହା ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଏବଂ ଛିଦ୍ରର ପୃଥକତା ଦକ୍ଷତାକୁ ଫଳପ୍ରଦ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ |ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକାଟାଲାଇଟିକ୍ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍ ଉତ୍ପାଦନ, ବ୍ୟାଟେରୀ ଏବଂ ପ୍ରଦୂଷକ କ୍ଷୟ 8,9,10 ରେ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ତଥାପି, ଫୋଟୋକାଥୋଡ୍ ସୁରକ୍ଷା କ୍ଷେତ୍ରରେ ଏହାର ବ୍ୟବହାର ଏପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ରିପୋର୍ଟ ହୋଇନାହିଁ |ଏହି ଅଧ୍ୟୟନରେ, କମ୍ TiO2 ଆଲୋକ ବ୍ୟବହାର ଦକ୍ଷତାର ସମସ୍ୟାର ସମାଧାନ ପାଇଁ ଏକ ସଂକୀର୍ଣ୍ଣ ବ୍ୟାଣ୍ଡଗ୍ୟାପ୍ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ଚୟନ କରାଯାଇଥିଲା |ନିକେଲ୍ ଏବଂ ରୂପା ସଲଫାଇଡ୍ ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଯଥାକ୍ରମେ ବୁଡ ପକାଇବା ଏବଂ ଫୋଟୋରଡକ୍ସନ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ Ti ାରା TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ବନ୍ଧା ହୋଇଥିଲା |Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଆଲୋକର ବ୍ୟବହାର ଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ ଏବଂ ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍ ଅଞ୍ଚଳରୁ ଦୃଶ୍ୟମାନ ଅଞ୍ଚଳକୁ ଆଲୋକ ଅବଶୋଷଣ ପରିସରକୁ ବିସ୍ତାର କରିଥାଏ |ଏହି ସମୟରେ, ରୂପା ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସର ଜମା Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ସ୍ଥିରତା ଏବଂ ସ୍ଥିର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ଦେଇଥାଏ |
ପ୍ରଥମେ, 99.9% ଶୁଦ୍ଧତା ସହିତ ଏକ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଫଏଲ୍ 0.1 ମିଲିମିଟର ମୋଟା ହୋଇ ପରୀକ୍ଷଣ ପାଇଁ 30 mm × 10 mm ଆକାରରେ କାଟି ଦିଆଗଲା |ତାପରେ, ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଫଏଲର ପ୍ରତ୍ୟେକ ପୃଷ୍ଠକୁ 2500 ଗ୍ରୀଟ୍ ସ୍ୟାଣ୍ଡପେପର୍ ସହିତ 100 ଥର ପଲିସ୍ କରାଯାଇଥିଲା, ଏବଂ ପରେ କ୍ରମାଗତ ଭାବରେ ଏସିଟୋନ୍, ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ଇଥାନଲ୍ ଏବଂ ଡିଷ୍ଟିଲ୍ ପାଣିରେ ଧୋଇ ଦିଆଗଲା |ଟାଇଟାନିୟମ୍ ପ୍ଲେଟ୍କୁ 85 ° C (ସୋଡିୟମ୍ ହାଇଡ୍ରକ୍ସାଇଡ୍: ସୋଡିୟମ୍ କାର୍ବୋନାଟ୍: ଜଳ = 5: 2: 100) ର ମିଶ୍ରଣରେ 90 ମିନିଟ୍ ପାଇଁ ରଖନ୍ତୁ, ଡିଷ୍ଟିଲ୍ ପାଣିରେ କା remove ନ୍ତୁ ଏବଂ ଧୋଇ ଦିଅନ୍ତୁ |ଭୂପୃଷ୍ଠକୁ 1 ମିନିଟ୍ ପାଇଁ HF ସମାଧାନ (HF: H2O = 1: 5) ସହିତ ମିଶାଇ ଦିଆଗଲା, ତା’ପରେ ଆସେଟୋନ୍, ଇଥାନଲ୍, ଏବଂ ଡିଷ୍ଟିଲ୍ ପାଣି ସହିତ ବିକଳ୍ପ ଭାବରେ ଧୋଇ ଦିଆଗଲା ଏବଂ ଶେଷରେ ବ୍ୟବହାର ପାଇଁ ଶୁଖାଗଲା |ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋୱାୟାରଗୁଡିକ ଏକ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଆନାଡାଇଜେସନ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦ୍ୱାରା ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଫଏଲ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଶୀଘ୍ର ଗଠନ କରାଯାଇଥିଲା |ଆନାଡାଇଜିଂ ପାଇଁ ଏକ ପାରମ୍ପାରିକ ଦୁଇ-ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, କାର୍ଯ୍ୟ କରୁଥିବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ହେଉଛି ଟାଇଟାନିୟମ୍ ସିଟ୍ ଏବଂ କାଉଣ୍ଟର ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ହେଉଛି ଏକ ପଲିଥିନ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ |ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ କ୍ଲମ୍ପ ସହିତ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ପ୍ଲେଟ୍କୁ 400 ମିଲ୍ 2 M NaOH ଦ୍ରବଣରେ ରଖନ୍ତୁ |ଡିସି ବିଦ୍ୟୁତ୍ ଯୋଗାଣ କରେଣ୍ଟ ପ୍ରାୟ 1.3 A. ରେ ସ୍ଥିର ଅଟେ, ସିଷ୍ଟମିକ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ସମୟରେ ସମାଧାନର ତାପମାତ୍ରା 80 ° C ରେ 180 ମିନିଟ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ବଜାୟ ରହିଥିଲା ​​|ଟାଇଟାନିୟମ୍ ସିଟ୍ ବାହାର କରାଯାଇଥିଲା, ଏସିଟୋନ୍ ଏବଂ ଇଥାନଲ୍ ସହିତ ଧୋଇ, ଡିଷ୍ଟିଲ୍ ପାଣିରେ ଧୋଇ ପ୍ରାକୃତିକ ଭାବରେ ଶୁଖାଗଲା |ତା’ପରେ ନମୁନାଗୁଡିକ 450 ° C (ଗରମ ହାର 5 ° C / ମିନିଟ୍) ରେ ଏକ ମଫଲ୍ ଚୁଲିରେ ରଖାଯାଇ 120 ମିନିଟ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ କ୍ରମାଗତ ତାପମାତ୍ରାରେ ରଖାଯାଇ ଏକ ଶୁଖାଇବା ଟ୍ରେରେ ରଖାଗଲା |
ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍-ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ କମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଏକ ସରଳ ଏବଂ ସହଜ ଡିପ୍-ଡିପୋଜିସନ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ୱାରା ପ୍ରାପ୍ତ ହୋଇଥିଲା |ପ୍ରଥମେ, ନିକେଲ୍ ନାଇଟ୍ରେଟ୍ (0.03 M) ଇଥାନଲରେ ଦ୍ରବୀଭୂତ ହୋଇ ନିକେଲ୍ ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ର ଏକ ଇଥାନଲ୍ ସମାଧାନ ପାଇବା ପାଇଁ 20 ମିନିଟ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଚୁମ୍ବକୀୟ ଉତ୍ତେଜନାରେ ରଖାଯାଇଥିଲା |ତା’ପରେ ମିଥାନୋଲର ମିଶ୍ରିତ ସମାଧାନ ସହିତ ସୋଡିୟମ୍ ସଲଫାଇଡ୍ (0.03 M) ପ୍ରସ୍ତୁତ କରନ୍ତୁ (ମିଥାନୋଲ୍: ଜଳ = 1: 1) |ତାପରେ, ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ଟାବଲେଟ୍ ଗୁଡିକ ଉପରୋକ୍ତ ସମାଧାନରେ ରଖାଯାଇଥିଲା, 4 ମିନିଟ୍ ପରେ ବାହାର କରାଯାଇଥିଲା ଏବଂ ମିଥାନୋଲ୍ ଏବଂ ଜଳର ମିଶ୍ରିତ ଦ୍ରବଣ ସହିତ ଶୀଘ୍ର ଧୋଇ ଦିଆଗଲା (ମିଥାନୋଲ୍: ଜଳ = 1: 1) |ଭୂପୃଷ୍ଠ ଶୁଖିଗଲା ପରେ, ଟାବଲେଟଗୁଡ଼ିକୁ ଏକ ମଫଲ ଚୁଲିରେ ରଖାଗଲା, ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନରେ 380 ° C ରେ 20 ମିନିଟ୍ ପାଇଁ ଗରମ କରାଗଲା, କୋଠରୀ ତାପମାତ୍ରାରେ ଥଣ୍ଡା ହୋଇ ଶୁଖିଗଲା |ଚକ୍ର ସଂଖ୍ୟା 2, 4, 6 ଏବଂ 8
ଆଗ ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଫୋଟୋରଡକ୍ସନ୍ 12,13 ଦ୍ Ag ାରା Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ରୂପାନ୍ତରିତ |ଫଳସ୍ୱରୂପ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ପରୀକ୍ଷଣ ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ଦ୍ରବଣରେ ରଖାଯାଇଥିଲା |ତାପରେ ନମୁନାଗୁଡିକ ଅତିବାଇଗଣି ରଙ୍ଗର ଆଲୋକ ସହିତ 30 ମିନିଟ୍ ପାଇଁ ବିକିରଣ କରାଯାଇଥିଲା, ସେମାନଙ୍କର ପୃଷ୍ଠଗୁଡିକ ଡିଓନାଇଜଡ୍ ପାଣିରେ ସଫା କରାଯାଇଥିଲା ଏବଂ ପ୍ରାକୃତିକ ଶୁଖାଇବା ଦ୍ୱାରା Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ମିଳିଲା |ଉପରେ ବର୍ଣ୍ଣିତ ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଚିତ୍ର 1 ରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |
Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଗୁଡିକ ମୁଖ୍ୟତ field କ୍ଷେତ୍ର ନିର୍ଗମନ ସ୍କାନିଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି (FESEM), ଶକ୍ତି ବିଛିନ୍ନ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି (EDS), ଏକ୍ସ-ରେ ଫଟୋଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି (XPS) ଏବଂ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଏବଂ ଦୃଶ୍ୟମାନ ପରିସର (UV-Vis) ଦ୍ୱାରା ବର୍ଣ୍ଣିତ |ଏକ ନୋଭା ନାନୋସେମ୍ 450 ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍ (FEI ନିଗମ, ଯୁକ୍ତରାଷ୍ଟ୍ର) ବ୍ୟବହାର କରି FESEM କରାଯାଇଥିଲା |ଭୋଲଟେଜ୍ 1 କେଭି, ସ୍ପଟ୍ ସାଇଜ୍ 2.0ଟପୋଗ୍ରାଫି ବିଶ୍ଳେଷଣ ପାଇଁ ସେକେଣ୍ଡାରୀ ଏବଂ ବ୍ୟାକସ୍କାଟର୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗ୍ରହଣ କରିବାକୁ ଡିଭାଇସ୍ ଏକ ସିବିଏସ୍ ପ୍ରୋବ ବ୍ୟବହାର କରେ |ଏକ ଅକ୍ସଫୋର୍ଡ ଏକ୍ସ-ମ୍ୟାକ୍ସ N50 EMF ସିଷ୍ଟମ (ଅକ୍ସଫୋର୍ଡ ଇନଷ୍ଟ୍ରୁମେଣ୍ଟସ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି କୋ।ଗୁଣାତ୍ମକ ଏକ୍ସ-ରେ ବ୍ୟବହାର କରି ଗୁଣାତ୍ମକ ଏବଂ ପରିମାଣିକ ବିଶ୍ଳେଷଣ |ଏକ ଏସ୍କାଲାବ 250Xi ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରୋମିଟର (ଥର୍ମୋ ଫିସର ସାଇଣ୍ଟିଫିକ୍ କର୍ପୋରେସନ୍, ଯୁକ୍ତରାଷ୍ଟ୍ର) ରେ ଏକ୍ସ-ରେ ଫଟୋଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି କରାଯାଇଥିଲା, ଏକ ଉତ୍ତେଜନା ଉତ୍ସ ଭାବରେ 150 ୱାଟର ଏକ ଉତ୍ତେଜନା ଶକ୍ତି ସହିତ ଏକ ସ୍ଥିର ଶକ୍ତି ମୋଡରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରୁଥିଲା |ପୂର୍ଣ୍ଣ ସ୍କାନ୍ ପରିସର 0–1600 ଇଭି, ମୋଟ ଶକ୍ତି 50 ଇଭି, ଷ୍ଟେପ୍ ମୋଟେଇ 1.0 ଇଭି, ଏବଂ ଅପରିଷ୍କାର ଅଙ୍ଗାରକାମ୍ଳ (~ 284.8 ଇଭି) ବାନ୍ଧୁଥିବା ଶକ୍ତି ଚାର୍ଜ ସଂଶୋଧନ ରେଫରେନ୍ସ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ସଂକୀର୍ଣ୍ଣ ସ୍କାନିଂ ପାଇଁ ପାସ୍ ଶକ୍ତି 20 eV ଥିଲା 0.05 eV ଷ୍ଟେପ୍ ସହିତ |UV- ଦୃଶ୍ୟମାନ ଅଞ୍ଚଳରେ ଡିଫ୍ୟୁଜ୍ ପ୍ରତିଫଳନ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି କ୍ୟାରି 5000 ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରୋମିଟର (ଭାରିୟାନ୍, ଯୁକ୍ତରାଷ୍ଟ୍ର) ରେ 10–80 ° ସ୍କାନିଂ ପରିସରରେ ଏକ ଷ୍ଟାଣ୍ଡାର୍ଡ ବାରିୟମ୍ ସଲଫେଟ୍ ପ୍ଲେଟ୍ ସହିତ କରାଯାଇଥିଲା |
ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ, 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର ରଚନା (ଓଜନ ଶତକଡା) ହେଉଛି 0.08 C, 1.86 Mn, 0.72 Si, 0.035 P, 0.029 s, 18.25 Cr, 8.5 Ni, ଏବଂ ବାକିଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି Fe |10 ମିମି x 10 ମିମି x 10 ମିମି 304 ଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲ, ଇପୋକ୍ସି 1 ସେମି 2 ଉନ୍ମୋଚିତ ଭୂପୃଷ୍ଠ ସହିତ ପୋଟ ହୋଇଛି |ଏହାର ଭୂପୃଷ୍ଠ 2400 ଗ୍ରୀଟ୍ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସ୍ୟାଣ୍ଡପେପର୍ ସହିତ ବାଲି ହୋଇ ଇଥାନଲ୍ ସହିତ ଧୋଇଗଲା |ପରେ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ 5 ମିନିଟ୍ ପାଇଁ ଡିଓନାଇଜଡ୍ ପାଣିରେ ସୋନିକେଟ୍ ହୋଇ ଏକ ଚୁଲିରେ ଗଚ୍ଛିତ ହେଲା |
OCP ପରୀକ୍ଷଣରେ, 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ ଏକ Ag / NiS / TiO2 ଫଟୋଗାନୋଡ୍ ଯଥାକ୍ରମେ ଏକ କ୍ଷତିକାରକ ସେଲ୍ ଏବଂ ଫଟୋଗାନୋଡ୍ ସେଲରେ ରଖାଯାଇଥିଲା (ଚିତ୍ର 2) |କ୍ଷତିକାରକ କୋଷକୁ 3.5% NaCl ସମାଧାନରେ ଭର୍ତି କରାଯାଇଥିଲା, ଏବଂ 0.25 M Na2SO3 ଫୋଟୋନୋଡ୍ ସେଲରେ ଏକ ଛିଦ୍ର ଜାଲ ଭାବରେ poured ାଳି ଦିଆଗଲା |ଦୁଇଟି ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଲାଇଟ୍ ମିଶ୍ରଣରୁ ଏକ ନାଫଥୋଲ୍ ମେମ୍ବ୍ରେନ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଅଲଗା କରାଯାଇଥିଲା |ଏକ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ୱର୍କଷ୍ଟେସନ୍ (P4000 +, USA) ରେ OCP ମାପ କରାଯାଇଥିଲା |ରେଫରେନ୍ସ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ଏକ ସାଚୁରେଟେଡ୍ କାଲୋମେଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ (SCE) ଥିଲା |ଆଲୋକ ଉତ୍ସର ଆଉଟଲେଟରେ ଏକ ଆଲୋକ ଉତ୍ସ (ଜେନନ୍ ଲ୍ୟାମ୍ପ, PLS-SXE300C, ପଏସନ୍ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି କୋ।, ଲି।304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ଏକ ତମ୍ବା ତାର ସହିତ ଫଟୋନୋଡ୍ ସହିତ ସଂଯୁକ୍ତ |ପରୀକ୍ଷଣ ପୂର୍ବରୁ, ସ୍ଥିର ସ୍ଥିତି ସୁନିଶ୍ଚିତ କରିବା ପାଇଁ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ 3.5% NaCl ଦ୍ରବଣରେ 2 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ ଭିଜାଯାଇଥିଲା |ପରୀକ୍ଷଣ ଆରମ୍ଭରେ, ଯେତେବେଳେ ଆଲୋକ ଅନ୍ ଏବଂ ଅଫ୍ ହୁଏ, ଫଟୋନୋଡର ଉତ୍ତେଜିତ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ଗୁଡ଼ିକ ତାର ମାଧ୍ୟମରେ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର ପୃଷ୍ଠରେ ପହଞ୍ଚେ |
ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଧ୍ରତା ଉପରେ ପରୀକ୍ଷଣରେ, 304SS ଏବଂ Ag / NiS / TiO2 ଫଟୋଗାନୋଡ୍ ଯଥାକ୍ରମେ କ୍ଷତିକାରକ କୋଷ ଏବଂ ଫଟୋନୋଡ୍ କୋଷରେ ରଖାଯାଇଥିଲା (ଚିତ୍ର 3) |OCP ସହିତ ସମାନ ସେଟଅପ୍ ଉପରେ ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ମାପ କରାଯାଇଥିଲା |304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ ଫୋଟାନୋଡ୍ ମଧ୍ୟରେ ପ୍ରକୃତ ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପାଇବାକୁ, ଏକ ପୋଟେଣ୍ଟିଓଷ୍ଟାଟ୍ ଶୂନ୍ୟ ପ୍ରତିରୋଧ ଆମ୍ମିଟର ଭାବରେ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ ପୋଟାନାଇଜଡ୍ ଅବସ୍ଥାରେ ଫଟୋନୋଡ୍ ସଂଯୋଗ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ଏହା କରିବା ପାଇଁ, ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ସେଟଅପ୍ ରେ ରେଫରେନ୍ସ ଏବଂ କାଉଣ୍ଟର ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ସର୍ଟ ସର୍କିଟ୍ ହୋଇଥିଲା, ଯାହାଫଳରେ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ୱର୍କଷ୍ଟେସନ୍ ଏକ ଶୂନ-ପ୍ରତିରୋଧକ ଆମ୍ମିଟର ଭାବରେ କାମ କଲା ଯାହା ପ୍ରକୃତ ସାମ୍ପ୍ରତିକ ଘନତାକୁ ମାପ କରିପାରେ |304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ୱର୍କଷ୍ଟେସନର ଭୂମି ସହିତ ସଂଯୁକ୍ତ ଏବଂ ଫୋଟାନୋଡ୍ କାର୍ଯ୍ୟ କରୁଥିବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ କ୍ଲମ୍ପ ସହିତ ସଂଯୁକ୍ତ |ପରୀକ୍ଷଣ ଆରମ୍ଭରେ, ଯେତେବେଳେ ଆଲୋକ ଅନ୍ ଏବଂ ଅଫ୍ ହୁଏ, ତାର ମାଧ୍ୟମରେ ଫଟୋନୋଡର ଉତ୍ତେଜିତ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡିକ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର ପୃଷ୍ଠରେ ପହଞ୍ଚେ |ଏହି ସମୟରେ, 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତାର ପରିବର୍ତ୍ତନ ପରିଲକ୍ଷିତ ହୋଇପାରେ |
304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଅଧ୍ୟୟନ କରିବାକୁ, 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଫୋଟୋନାଇଜେସନ୍ ସମ୍ଭାବ୍ୟତାର ପରିବର୍ତ୍ତନ, ଏବଂ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଏବଂ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ ମଧ୍ୟରେ ଫୋଟୋନାଇଜେସନ୍ ସାମ୍ପ୍ରତିକ ଘନତ୍ୱର ପରିବର୍ତ୍ତନ ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇଥିଲା |
ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ4 ଟି ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକ ବିକିରଣ ଏବଂ ଅନ୍ଧକାର ଅବସ୍ଥାରେ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନାରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଦେଖାଏ |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ4a ଖୋଲା ସର୍କିଟ ସମ୍ଭାବନା, ଏବଂ ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ ବୁଡ଼ ପକାଇ NiS ଜମା ସମୟର ପ୍ରଭାବକୁ ଦର୍ଶାଏ |4b ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ସମୟରେ ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା ଉପରେ ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ଏକାଗ୍ରତାର ପ୍ରଭାବ ଦେଖାଏ |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ4a ଦର୍ଶାଏ ଯେ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ତୁଳନାରେ ଲ୍ୟାମ୍ପ ଅନ୍ ହେବା କ୍ଷଣି NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲରେ ବନ୍ଧା ହୋଇଥିବା ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା ଯଥେଷ୍ଟ କମିଯାଏ |ଏହା ସହିତ, ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା ଶୁଦ୍ଧ TiO2 ନାନୋୱାୟର୍ ଅପେକ୍ଷା ଅଧିକ ନକାରାତ୍ମକ ଅଟେ, ସୂଚାଇଥାଏ ଯେ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଅଧିକ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସୃଷ୍ଟି କରେ ଏବଂ TiO2 ରୁ ଫୋଟୋକାଥୋଡ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଭାବକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ |ଅବଶ୍ୟ, ଏକ୍ସପୋଜର ଶେଷରେ, ନୋ-ଲୋଡ୍ ସମ୍ଭାବନା ଦ୍ରୁତ ଗତିରେ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର ନୋ-ଲୋଡ୍ ସମ୍ଭାବନାକୁ ବ ises ଼ିଥାଏ, ଯାହା ଦର୍ଶାଏ ଯେ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ର ଶକ୍ତି ସଂରକ୍ଷଣ ପ୍ରଭାବ ନାହିଁ |ଖୋଲା ସର୍କିଟ ସମ୍ଭାବନା ଉପରେ ବୁଡ ପକାଇବା ଚକ୍ର ସଂଖ୍ୟାଗୁଡିକର ପ୍ରଭାବ ଚିତ୍ର 4a ରେ ଦେଖାଯାଇପାରେ |6 ର ଏକ ଜମା ସମୟ ସମୟରେ, ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଚରମ ସମ୍ଭାବନା ସାଚୁରେଟେଡ୍ କାଲୋମେଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ତୁଳନାରେ -550 ମି.ଭିରେ ପହଞ୍ଚେ, ଏବଂ 6 ଟି ଫ୍ୟାକ୍ଟର୍ ଦ୍ୱାରା ଜମା ହୋଇଥିବା ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ସମ୍ଭାବନା ଅନ୍ୟ ଅବସ୍ଥାରେ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ତୁଳନାରେ ଯଥେଷ୍ଟ କମ୍ ଅଟେ |ଏହିପରି, 6 ଟି ଜମା ଚକ୍ର ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ପାଇଁ ସର୍ବୋତ୍ତମ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଦାନ କଲା |
NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ (କ) ଏବଂ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ (ଖ) ସହିତ ଏବଂ ଆଲୋକ ବିନା (λ> 400 nm) ସହିତ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ର OCP ରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ |
ଡିମ୍ବିରିରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି |4b, 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା ଆଲୋକର ସଂସ୍ପର୍ଶରେ ଆସିବା ସମୟରେ ଯଥେଷ୍ଟ କମିଯାଇଥିଲା |ରୂପା ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସର ଭୂପୃଷ୍ଠ ଜମା ପରେ, ଶୁଦ୍ଧ TiO2 ନାନୋୱାୟର୍ ତୁଳନାରେ ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା ଯଥେଷ୍ଟ ହ୍ରାସ ପାଇଲା |NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ସମ୍ଭାବନା ଅଧିକ ନକାରାତ୍ମକ ଅଟେ, ସୂଚାଇଥାଏ ଯେ Ag ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଜମା ହେବା ପରେ TiO2 ର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ପ୍ରତିରକ୍ଷା ପ୍ରଭାବ ଯଥେଷ୍ଟ ଉନ୍ନତ ହୁଏ |ଏକ୍ସପୋଜର ଶେଷରେ ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା ଦ୍ରୁତ ଗତିରେ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଲା ଏବଂ ସାଚୁରେଟେଡ୍ କାଲୋମେଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ତୁଳନାରେ, ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା -580 ମିଭିରେ ପହଞ୍ଚିପାରେ, ଯାହା 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ (-180 mV) ଠାରୁ କମ୍ ଥିଲା |ଏହି ଫଳାଫଳ ସୂଚିତ କରେ ଯେ ରୂପା କଣିକା ଏହାର ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହେବା ପରେ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଏକ ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ଶକ୍ତି ସଂରକ୍ଷଣ ପ୍ରଭାବ ରହିଛି |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ4b ଓପନ୍ ସର୍କିଟ୍ ସମ୍ଭାବନା ଉପରେ ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ଏକାଗ୍ରତାର ପ୍ରଭାବ ମଧ୍ୟ ଦର୍ଶାଏ |0.1 M ର ଏକ ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ଏକାଗ୍ରତାରେ, ଏକ ସନ୍ତୁଳିତ କାଲୋମେଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ସହିତ ସୀମିତ ସମ୍ଭାବନା -925 mV ରେ ପହଞ୍ଚେ |4 ଟି ପ୍ରୟୋଗ ଚକ୍ର ପରେ, ସମ୍ଭାବନା ପ୍ରଥମ ପ୍ରୟୋଗ ପରେ ସ୍ତରରେ ରହିଲା, ଯାହା ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ସ୍ଥିରତାକୁ ସୂଚିତ କରେ |ଏହିପରି, 0.1 M ର ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ଏକାଗ୍ରତାରେ, ଫଳାଫଳ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ ସର୍ବୋତ୍ତମ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ପ୍ରତିରକ୍ଷା ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ |
TiO2 ନାନୋୱାୟାରର ପୃଷ୍ଠରେ NiS ଡିପୋଜିସନ NiS ଜମା ସମୟ ବ increasing ିବା ସହିତ ଧୀରେ ଧୀରେ ଉନ୍ନତ ହୁଏ |ଯେତେବେଳେ ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକ ନାନୋୱାୟାରର ପୃଷ୍ଠକୁ ଆଘାତ କରେ, ଅଧିକ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ସକ୍ରିୟ ସାଇଟ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସୃଷ୍ଟି କରିବାକୁ ଉତ୍ସାହିତ ହୁଏ, ଏବଂ ଫୋଟୋନାଇଜେସନ୍ ସମ୍ଭାବନା ଅଧିକ କମିଯାଏ |ଅବଶ୍ୟ, ଯେତେବେଳେ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଅତ୍ୟଧିକ ଜମା ହୋଇଯାଏ, ଉତ୍ତେଜିତ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଏହା ବଦଳରେ କମିଯାଏ, ଯାହା ହାଲୁକା ଅବଶୋଷଣରେ ସହାୟକ ହୁଏ ନାହିଁ |ରୂପା କଣିକା ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହେବା ପରେ, ରୂପା କଣିକାର ଭୂପୃଷ୍ଠ ପ୍ଲାଜମନ୍ ରିଜୋନାନ୍ସ ପ୍ରଭାବ ହେତୁ, ଉତ୍ପାଦିତ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡିକ ଶୀଘ୍ର 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ପୃଷ୍ଠକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ ହେବ, ଫଳସ୍ୱରୂପ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଭାବ |ଯେତେବେଳେ ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଅତ୍ୟଧିକ ରୂପା କଣିକା ଜମା ହୁଏ, ରୂପା କଣିକା ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଏବଂ ଛିଦ୍ର ପାଇଁ ଏକ ପୁନର୍ବିନ୍ୟାସ ପଏଣ୍ଟ ହୋଇଯାଏ, ଯାହା ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଉତ୍ପାଦନରେ ସହାୟକ ହୁଏ ନାହିଁ |ପରିଶେଷରେ, Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଗୁଡିକ 0.1 M ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ତଳେ 6 ଗୁଣା ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଜମା ପରେ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ପାଇଁ ସର୍ବୋତ୍ତମ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଦାନ କରିପାରିବ |
ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ମୂଲ୍ୟ ଫୋଟୋଜେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଏବଂ ଛିଦ୍ରର ପୃଥକ ଶକ୍ତିକୁ ପ୍ରତିପାଦିତ କରେ, ଏବଂ ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଯେତେ ଅଧିକ, ଫୋଟୋଜେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଏବଂ ଛିଦ୍ରର ପୃଥକ ଶକ୍ତି ଅଧିକ ଶକ୍ତିଶାଳୀ ହୁଏ |ସେଠାରେ ଅନେକ ଅଧ୍ୟୟନ ଦର୍ଶାଉଛି ଯେ ସାମଗ୍ରୀର ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଗୁଣରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ଏବଂ ଛିଦ୍ର ଅଲଗା କରିବା ପାଇଁ ଫୋଟୋକାଟାଲାଇଟିକ୍ ସାମଗ୍ରୀର ସିନ୍ଥେସିସରେ NiS ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | 15,16,17,18,19,20ଚେନ୍ ଏଟ୍।NiS15 ସହିତ ମିଳିତ ଭାବରେ ନୋବଲ୍-ଧାତୁମୁକ୍ତ ଗ୍ରାଫେନ୍ ଏବଂ g-C3N4 କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଅଧ୍ୟୟନ କରିଥିଲେ |ପରିବର୍ତ୍ତିତ g-C3N4 / 0.25% RGO / 3% NiS ର ଫଟୋଗ୍ରାଫର ସର୍ବାଧିକ ତୀବ୍ରତା ହେଉଛି 0.018 μA / cm2 |ଚେନ୍ ଏଟ୍।ପ୍ରାୟ 10 µA / cm2.16 ର ଫଟୋଗ୍ରାଫର ଘନତା ସହିତ CdSe-NiS ଅଧ୍ୟୟନ କରିଥିଲେ |ଲିୟୁ ଏବଂ ଅନ୍ୟମାନେ |15 µA / cm218 ର ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ଘନତା ସହିତ ଏକ CdS @ NiS ଯ os ଗିକକୁ ସିନ୍ଥାଇଜ୍ କରିଛି |ତଥାପି, ଫୋଟୋକାଥୋଡ୍ ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ NiS ର ବ୍ୟବହାର ଏପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ରିପୋର୍ଟ ହୋଇନାହିଁ |ଆମର ଅଧ୍ୟୟନରେ, NiS ର ପରିବର୍ତ୍ତନ ଦ୍ୱାରା TiO2 ର ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଲା |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ5 ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକ ଅବସ୍ଥାରେ ଏବଂ ଆଲୋକ ବିନା 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପରିବର୍ତ୍ତନ ଦେଖାଏ |ଡିମ୍ବିରିରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି |5a, NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଆଲୋକ ଅନ୍ ହେବା କ୍ଷଣି ଦ୍ରୁତ ଗତିରେ ବ increases ିଥାଏ ଏବଂ ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ସାନ୍ଧ୍ରତା ସକରାତ୍ମକ ଅଟେ, ଯାହା ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ୱର୍କଷ୍ଟେସନ୍ ମାଧ୍ୟମରେ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ରୁ ଭୂପୃଷ୍ଠକୁ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ପ୍ରବାହକୁ ସୂଚାଇଥାଏ |304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ |ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ପ୍ରସ୍ତୁତି ପରେ, ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଶୁଦ୍ଧ TiO2 ନାନୋୱାୟର୍ ତୁଳନାରେ ଅଧିକ |NiS ର ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଧ୍ରତା 220 μA / cm2 ରେ ପହଞ୍ଚେ, ଯାହା TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ (32 μA / cm2) ଠାରୁ 6.8 ଗୁଣ ଅଧିକ, ଯେତେବେଳେ NiS 6 ଥର ବୁଡିଯାଏ ଏବଂ ଜମା ହୁଏ |ଡିମ୍ବିରିରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି |5b, Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଏବଂ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ମଧ୍ୟରେ ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଧ୍ରତା ଏକ ଜେନନ୍ ଲ୍ୟାମ୍ପ ତଳେ ଟର୍ନ୍ TiO2 ଏବଂ NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ମଧ୍ୟରେ ଯଥେଷ୍ଟ ଅଧିକ ଥିଲା |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେଚିତ୍ର 5b ଫୋଟୋରେକ୍ସନ୍ ସମୟରେ ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଉପରେ AgNO ଏକାଗ୍ରତାର ପ୍ରଭାବକୁ ମଧ୍ୟ ଦର୍ଶାଏ |0.1 M ର ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ଏକାଗ୍ରତାରେ, ଏହାର ଫୋଟୋକ୍ୟୁରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା 410 μA / cm2 ରେ ପହଞ୍ଚେ, ଯାହା TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ (32 μA / cm2) ଠାରୁ 12.8 ଗୁଣ ଅଧିକ ଏବଂ NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ତୁଳନାରେ 1.8 ଗୁଣ ଅଧିକ |Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ଏକ ହେଟେରୋଜଙ୍କସନ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଫିଲ୍ଡ ସୃଷ୍ଟି ହୁଏ, ଯାହା ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡ଼ିକୁ ଛିଦ୍ରରୁ ପୃଥକ କରିବାରେ ସହଜ କରିଥାଏ |
(କ) NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଏବଂ (ଖ) Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ସହିତ ଏବଂ ଆଲୋକ ବିନା (λ> 400 nm) ସହିତ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ର ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତାର ପରିବର୍ତ୍ତନ |
ଏହିପରି, 0.1 ମି ଏକାଗ୍ର ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ରେ 6 ଚକ୍ର ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ବୁଡ ପକାଇବା ପରେ, Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଏବଂ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ମଧ୍ୟରେ ଫୋଟୋକ୍ରରେଣ୍ଟ୍ ସାନ୍ଧ୍ରତା 410 μA / cm2 ରେ ପହଞ୍ଚେ, ଯାହା ସନ୍ତୁଳିତ କାଲୋମେଲଠାରୁ ଅଧିକ |ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ -925 mV ରେ ପହଞ୍ଚେ |ଏହି ପରିସ୍ଥିତିରେ, Ag / NiS / TiO2 ସହିତ ମିଳିତ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ସର୍ବୋତ୍ତମ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଦାନ କରିପାରିବ |
ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ6 ଶୁଦ୍ଧ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋୱାୟାର୍, କମ୍ପୋଜିଟ୍ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ନାନୋ ପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଏବଂ ରୂପା ନାନୋ ପାର୍ଟିକଲ୍ସର ଭୂପୃଷ୍ଠ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍ ଚିତ୍ର ଦେଖାଏ |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ6a, d ଏକ-ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଆନାଡାଇଜେସନ୍ ଦ୍ୱାରା ପ୍ରାପ୍ତ ଶୁଦ୍ଧ TiO2 ନାନୋୱାୟର୍ ଦେଖାଏ |ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋୱାୟାରର ଭୂପୃଷ୍ଠ ବଣ୍ଟନ ସମାନ, ନାନୋୱାୟାରର ଗଠନ ପରସ୍ପର ନିକଟତର, ଏବଂ ଖୋଲା ଆକାର ବଣ୍ଟନ ସମାନ |ଚିତ୍ର 6b ଏବଂ e ହେଉଛି ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ର ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ମାଇକ୍ରୋଗ୍ରାଫ୍ - ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଗୁଡ଼ିକର 6 ଗୁଣା ଇମ୍ଗ୍ରେନେସନ୍ ଏବଂ ଡିପୋଜିସନ ପରେ |ଏକ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ପ୍ରତିଛବିରୁ ଚିତ୍ର 6e ରେ 200,000 ଗୁଣ ବୃଦ୍ଧି କରାଯାଇଛି, ଏହା ଦେଖାଯାଇପାରେ ଯେ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଅପେକ୍ଷାକୃତ ସମାନ ଏବଂ ଏହାର ଏକ ବଡ଼ କଣିକା ଆକାର ପ୍ରାୟ 100-120 nm ବ୍ୟାସ |କେତେକ ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ ନାନୋୱାୟାରର ସ୍ଥାନିକ ଅବସ୍ଥାରେ ପାଳନ କରାଯାଇପାରେ ଏବଂ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋୱାୟାରଗୁଡିକ ସ୍ପଷ୍ଟ ଦେଖାଯାଏ |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ6c, f NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ଚିତ୍ରଗୁଡିକ AgNO ଏକାଗ୍ରତାରେ 0.1 ମି। ଡିମ୍ବିରି ତୁଳନାରେ |6b ଏବଂ ଡିମ୍ବିରି |6e, ଡିମ୍ବିର୍6c ଏବଂ ଡିମ୍ବିରି |6f ଦର୍ଶାଏ ଯେ ଏଗ୍ ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ ମିଶ୍ରିତ ସାମଗ୍ରୀର ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହୋଇଛି, ଏଗ୍ ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସ ପ୍ରାୟ 10 nm ବ୍ୟାସ ସହିତ ସମାନ ଭାବରେ ବଣ୍ଟନ ହୋଇଛି |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ7 Ag / NiS / TiO2 ନାନୋଫିଲ୍ମର ଏକ କ୍ରସ୍ ବିଭାଗ ଦେଖାଏ, AgNO3 ଏକାଗ୍ରତାରେ 0.1 ଚକ୍ରର NiS ଡିପ୍ ଡିପୋଜିଟେସନ୍ ଅଧୀନରେ 0.1 M. M.ଏହିପରି, ନିକେଲ ଏବଂ ରୂପା ସଲଫାଇଡ୍ ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସ TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଏକତ୍ରିତ ହୁଏ |
ଶୁଦ୍ଧ TiO2 (a, d), NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ସହିତ 6 ଚକ୍ର NiS ଡିପ୍ ଡିପୋଜିଟେସନ୍ (b, e) ଏବଂ Ag / NiS / NiS ସହିତ TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର 0.1 M AgNO3 SEM ପ୍ରତିଛବିରେ 6 ଚକ୍ର ସହିତ NiS ଡିପ୍ ଡିପୋଜିଟେସନ୍ ସହିତ |
Ag / NiS / TiO2 ନାନୋଫିଲ୍ମର କ୍ରସ୍ ବିଭାଗ, 0.1 Ag ର AgNO3 ଏକାଗ୍ରତାରେ NiS dip ଡିପୋଜିସନର 6 ଚକ୍ର ଅଧୀନରେ |
ଡିମ୍ବିରି ଉପରେAg / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ସ ଉପରେ 0.1। Cy ଚକ୍ରର ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଡିପ୍ ଡିପୋଜିସନରୁ 0.1। M. ମିଟର ର silver ପ୍ୟ ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ଏକାଗ୍ରତାରେ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ଭୂପୃଷ୍ଠ ବଣ୍ଟନକୁ ଦର୍ଶାଏ | ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ଭୂପୃଷ୍ଠ ବଣ୍ଟନ ଦର୍ଶାଏ ଯେ Ti, O, Ni, S ଏବଂ Ag ଚିହ୍ନଟ ହୋଇଛି |ଶକ୍ତି ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି ବ୍ୟବହାର କରି |ବିଷୟବସ୍ତୁ ଦୃଷ୍ଟିରୁ, Ti ଏବଂ O ବଣ୍ଟନରେ ସବୁଠାରୁ ସାଧାରଣ ଉପାଦାନ ହୋଇଥିବାବେଳେ Ni ଏବଂ S ପ୍ରାୟ ସମାନ, କିନ୍ତୁ ସେମାନଙ୍କର ବିଷୟବସ୍ତୁ Ag ଠାରୁ ବହୁତ କମ୍ ଅଟେ |ଏହା ମଧ୍ୟ ପ୍ରମାଣିତ ହୋଇପାରେ ଯେ ଭୂପୃଷ୍ଠ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ରୂପା ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସର ପରିମାଣ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ତୁଳନାରେ ଅଧିକ |ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ସମାନ ବଣ୍ଟନ ସୂଚାଇଥାଏ ଯେ ନିକେଲ୍ ଏବଂ ରୂପା ସଲଫାଇଡ୍ TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ସମାନ ଭାବରେ ବନ୍ଧା |ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ରଚନା ଏବଂ ପଦାର୍ଥର ବନ୍ଧନ ସ୍ଥିତିକୁ ବିଶ୍ଳେଷଣ କରିବା ପାଇଁ ଏକ୍ସ-ରେ ଫଟୋଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପିକ୍ ବିଶ୍ଳେଷଣ ଅତିରିକ୍ତ ଭାବରେ କରାଯାଇଥିଲା |
Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଉପାଦାନଗୁଡିକର ବଣ୍ଟନ (Ti, O, Ni, S, ଏବଂ Ag) NiS dip ଡିପୋଜିସନର 6 ଚକ୍ର ପାଇଁ AgNO3 ଏକାଗ୍ରତାରେ 0.1 M ର ଏକାଗ୍ରତାରେ |
ଡିମ୍ବିରି ଉପରେଚିତ୍ର 9 Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର XPS ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରାକୁ ଦର୍ଶାଏ | 0.1 M AgNO3 ରେ ବୁଡ ପକାଇବା ଦ୍ୱାରା 6 ଚକ୍ର ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଜମା ବ୍ୟବହାର କରି ପ୍ରାପ୍ତ |9a ହେଉଛି ପୂର୍ଣ୍ଣ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରମ୍, ଏବଂ ବାକି ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରା ହେଉଛି ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ଉଚ୍ଚ-ବିଭେଦନ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରା |ଚିତ୍ର 9a ରେ ପୂର୍ଣ୍ଣ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରମରୁ ଯେପରି ଦେଖାଯାଏ, ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ରେ Ti, O, Ni, S, ଏବଂ Ag ର ଅବଶୋଷଣ ଶିଖାଗୁଡ଼ିକ ମିଳିଲା, ଯାହା ଏହି ପାଞ୍ଚଟି ଉପାଦାନର ଅସ୍ତିତ୍ୱକୁ ପ୍ରମାଣ କରେ |ପରୀକ୍ଷା ଫଳାଫଳଗୁଡିକ EDS ଅନୁଯାୟୀ ହୋଇଥିଲା |ଚିତ୍ର 9a ର ଅତ୍ୟଧିକ ଶିଖର ହେଉଛି ନମୁନାର ବାନ୍ଧୀ ଶକ୍ତି ପାଇଁ ସଂଶୋଧନ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ କାର୍ବନ ଶିଖର |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ9b ଟି ର ଏକ ଉଚ୍ଚ ରେଜୋଲୁସନ ଶକ୍ତି ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରମ ଦେଖାଏ |2p କକ୍ଷପଥର ଅବଶୋଷଣ ଶିଖରଗୁଡିକ 459.32 ଏବଂ 465 eV ରେ ଅବସ୍ଥିତ, ଯାହା Ti 2p3 / 2 ଏବଂ Ti 2p1 / 2 କକ୍ଷପଥର ଅବଶୋଷଣ ସହିତ ଅନୁରୂପ ଅଟେ |ଦୁଇଟି ଅବଶୋଷଣ ଶିଖର ପ୍ରମାଣ କରେ ଯେ ଟାଇଟାନିୟମ୍ରେ Ti4 + ଭାଲେନ୍ସ ଅଛି, ଯାହା TiO2 ରେ Ti ସହିତ ଅନୁରୂପ ଅଟେ |
Ag / NiS / TiO2 ମାପର XPS ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରା ଏବଂ Ti2p (b), O1s (c), Ni2p (d), S2p (e), ଏବଂ Ag 3d (f) ର ଉଚ୍ଚ ରେଜୋଲୁସନ XPS ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରା |
ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ9d Ni 2p କକ୍ଷପଥ ପାଇଁ ଚାରୋଟି ଅବଶୋଷଣ ଶିଖର ସହିତ ଏକ ଉଚ୍ଚ-ବିଭେଦନ Ni ଶକ୍ତି ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରମ ଦେଖାଏ |856 ଏବଂ 873.5 eV ରେ ଅବଶୋଷଣ ଶିଖରଗୁଡିକ Ni 2p3 / 2 ଏବଂ Ni 2p1 / 2 8.10 କକ୍ଷପଥ ସହିତ ଅନୁରୂପ, ଯେଉଁଠାରେ ଅବଶୋଷଣ ଶିଖରଗୁଡିକ NiS ର ଅଟେ |881 ଏବଂ 863 ଇଭିରେ ଅବଶୋଷଣ ଶିଖରଗୁଡିକ ନିକେଲ୍ ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ପାଇଁ ଏବଂ ନମୁନା ପ୍ରସ୍ତୁତି ସମୟରେ ନିକେଲ୍ ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ରିଜେଣ୍ଟ୍ ଦ୍ୱାରା ହୋଇଥାଏ |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ9e ଏକ ଉଚ୍ଚ ରେଜୋଲୁସନ S- ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରମ୍ ଦେଖାଏ |S 2p କକ୍ଷପଥର ଅବଶୋଷଣ ଶିଖରଗୁଡିକ 161.5 ଏବଂ 168.1 eV ରେ ଅବସ୍ଥିତ, ଯାହା S 2p3 / 2 ଏବଂ S 2p1 / 2 କକ୍ଷପଥ 21, 22, 23, 24 ସହିତ ଅନୁରୂପ ଅଟେ | ଏହି ଦୁଇଟି ଶିଖର ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଯ ounds ଗିକର ଅଟେ |169.2 ଏବଂ 163.4 eV ରେ ଅବଶୋଷଣ ଶିଖରଗୁଡିକ ସୋଡିୟମ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ରିଜେଣ୍ଟ୍ ପାଇଁ |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ9f ଏକ ଉଚ୍ଚ-ବିଭେଦନକାରୀ Ag ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରମ୍ ଦେଖାଏ ଯେଉଁଥିରେ ରୂପା ର 3d କକ୍ଷପଥ ଅବଶୋଷଣ ଶିଖର ଯଥାକ୍ରମେ 368.2 ଏବଂ 374.5 ଇଭିରେ ଅବସ୍ଥିତ ଏବଂ ଦୁଇଟି ଅବଶୋଷଣ ଶିଖର Ag 3d5 / 2 ଏବଂ Ag 3d3 / 212, 13. ଏହି ଦୁଇଟି ସ୍ଥାନରେ ଥିବା ଶିଖରଗୁଡିକ ପ୍ରମାଣ କରେ ଯେ ରୂପା ନାନୋ ପାର୍ଟିକଲଗୁଡିକ ମ silver ଳିକ ରୂପା ଅବସ୍ଥାରେ ଅଛି |ଏହିପରି, ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଗୁଡିକ ମୁଖ୍ୟତ Ag Ag, NiS ଏବଂ TiO2 କୁ ନେଇ ଗଠିତ, ଯାହା ଏକ୍ସ-ରେ ଫଟୋଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି ଦ୍ determined ାରା ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରାଯାଇଥିଲା, ଯାହା ପ୍ରମାଣ କରିଥିଲା ​​ଯେ ନିକୋଲ୍ ଏବଂ ରୂପା ସଲଫାଇଡ୍ ନାନୋ ପାର୍ଟିକଲଗୁଡିକ TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ସଫଳତାର ସହିତ ମିଳିତ ହୋଇଛି |
ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ10 ଟି ନୂତନ ଭାବରେ ପ୍ରସ୍ତୁତ TiO2 ନାନୋୱାୟର୍, NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଏବଂ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର UV-VIS ବିସ୍ତାର ପ୍ରତିଫଳନ ସ୍ପେକ୍ଟର୍ ଦେଖାଏ |ଚିତ୍ରରୁ ଏହା ଦେଖାଯାଇପାରେ ଯେ TiO2 ନାନୋୱାୟାରଗୁଡିକର ଅବଶୋଷଣ ସୀମା ପ୍ରାୟ 390 nm ଅଟେ, ଏବଂ ଅବଶୋଷିତ ଆଲୋକ ମୁଖ୍ୟତ the ଅତିବାଇଗଣି ରଙ୍ଗର ଅଞ୍ଚଳରେ ଥାଏ |ଚିତ୍ରରୁ ଏହା ଦେଖାଯାଇପାରେ ଯେ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋୱାୟର୍ 21, 22 ପୃଷ୍ଠରେ ନିକେଲ୍ ଏବଂ ରୂପା ସଲଫାଇଡ୍ ନାନୋ ପାର୍ଟିକଲ୍ସର ମିଶ୍ରଣ ପରେ ଅବଶୋଷିତ ଆଲୋକ ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକ ଅଞ୍ଚଳରେ ବିସ୍ତାର କରେ |ଏହି ସମୟରେ, ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ UV ଅବଶୋଷଣକୁ ବୃଦ୍ଧି କରିଛି, ଯାହା ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ର ଏକ ସଂକୀର୍ଣ୍ଣ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ଫାଙ୍କ ସହିତ ଜଡିତ |ବ୍ୟାଣ୍ଡ ଫାଙ୍କା ଯେତେ ସଂକୀର୍ଣ୍ଣ, ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଟ୍ରାନ୍ସସାଇନ୍ସ ପାଇଁ ଶକ୍ତି ପ୍ରତିବନ୍ଧକ କମ୍ ଏବଂ ଆଲୋକ ବ୍ୟବହାରର ଡିଗ୍ରୀ ଅଧିକ |ରୂପା ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସ ସହିତ NiS / TiO2 ପୃଷ୍ଠକୁ ମିଶ୍ରଣ କରିବା ପରେ, ଅବଶୋଷଣର ତୀବ୍ରତା ଏବଂ ହାଲୁକା ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଲା ନାହିଁ, ମୁଖ୍ୟତ silver ରୂପା ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସ ପୃଷ୍ଠରେ ପ୍ଲାଜମନ୍ ରିଜୋନାନ୍ସର ପ୍ରଭାବ ହେତୁ |TiO2 ନାନୋୱାୟାରଗୁଡିକର ଅବଶୋଷଣ ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ କମ୍ପୋଜିଟ୍ NiS ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସର ସଂକୀର୍ଣ୍ଣ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ଫାଙ୍କ ତୁଳନାରେ ଯଥେଷ୍ଟ ଉନ୍ନତି କରେ ନାହିଁ |ସଂକ୍ଷେପରେ, ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋୱାୟାର୍ ପୃଷ୍ଠରେ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଏବଂ ରୂପା ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସ ପରେ ଏହାର ଆଲୋକ ଅବଶୋଷଣ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ବହୁତ ଉନ୍ନତ ହୋଇଛି ଏବଂ ଆଲୋକ ଅବଶୋଷଣ ପରିସର ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍ ଠାରୁ ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ବିସ୍ତାର ହୋଇଛି, ଯାହା ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋୱାୟାରର ବ୍ୟବହାର ହାରରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିଥାଏ |ଆଲୋକ ଯାହା ଫଟୋଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସୃଷ୍ଟି କରିବାର ପଦାର୍ଥର କ୍ଷମତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ |
ତାଜା TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍, NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଏବଂ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର UV / Vis ବିସ୍ତାର ପ୍ରତିଫଳନ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରା |
ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ11 ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକ ବିକିରଣରେ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଫଟୋଗୋକେମିକାଲ୍ କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧର ଯନ୍ତ୍ରକ shows ଶଳ ଦେଖାଏ |ରୂପା ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ, ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଏବଂ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ର କଣ୍ଡକ୍ଟେସନ୍ ବ୍ୟାଣ୍ଡ୍ର ସମ୍ଭାବ୍ୟ ବଣ୍ଟନ ଉପରେ ଆଧାର କରି, କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧର ଯନ୍ତ୍ରର ଏକ ସମ୍ଭାବ୍ୟ ମାନଚିତ୍ର ପ୍ରସ୍ତାବିତ |କାରଣ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ତୁଳନାରେ ନାନୋସିଲଭରର କଣ୍ଡକ୍ଟେସନ୍ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ସମ୍ଭାବନା ନକାରାତ୍ମକ, ଏବଂ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ତୁଳନାରେ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ର କଣ୍ଡକ୍ଟେସନ୍ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ସମ୍ଭାବନା ନକାରାତ୍ମକ, ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ପ୍ରବାହର ଦିଗ ପ୍ରାୟ Ag → NiS → TiO2 → 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ |ଯେତେବେଳେ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଆଲୋକ ବିକିରଣ ହୁଏ, ନାନୋସିଲଭରର ଭୂପୃଷ୍ଠ ପ୍ଲାଜମନ୍ ରିଜୋନାନ୍ସର ପ୍ରଭାବ ହେତୁ, ନାନୋସିଲଭର ଶୀଘ୍ର ଫୋଟୋଜେରେଟେଡ୍ ଛିଦ୍ର ଏବଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସୃଷ୍ଟି କରିପାରିବ ଏବଂ ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ଗୁଡ଼ିକ ଉତ୍ତେଜନା ହେତୁ ଶୀଘ୍ର ଭାଲେନ୍ସ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ସ୍ଥିତିରୁ କଣ୍ଡକ୍ଟ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ସ୍ଥିତିକୁ ଯାଇଥାଏ |ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ଏବଂ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ |ଯେହେତୁ ରୂପା ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସର କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ତୁଳନାରେ ଅଧିକ ନକାରାତ୍ମକ, ରୂପା ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସର TS ରେ ଥିବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡିକ ଶୀଘ୍ର ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ର TS ରେ ରୂପାନ୍ତରିତ ହୁଏ |ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ର ଚାଳନା ସମ୍ଭାବନା ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ତୁଳନାରେ ଅଧିକ ନକାରାତ୍ମକ, ତେଣୁ ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ର ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଏବଂ ରୂପା ର ଗତିଶୀଳତା ଶୀଘ୍ର ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ର CB ରେ ଜମା ହୋଇଯାଏ |ଉତ୍ପାଦିତ ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସ ମାଧ୍ୟମରେ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର ପୃଷ୍ଠରେ ପହଞ୍ଚେ ଏବଂ ସମୃଦ୍ଧ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡିକ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ଅମ୍ଳଜାନ ହ୍ରାସ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଅଂଶଗ୍ରହଣ କରନ୍ତି |ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟା କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ହ୍ରାସ କରିଥାଏ ଏବଂ ସେହି ସମୟରେ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର ଆନାଡିକ୍ ବିଲୋପ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ଦମନ କରିଥାଏ, ଯାହା ଦ୍ ain ାରା ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ହୃଦୟଙ୍ଗମ ହୁଏ | Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ରେ ହେଟେରୋଜଙ୍କସନ୍ ର ବ electric ଦ୍ୟୁତିକ କ୍ଷେତ୍ର ଗଠନ ହେତୁ, ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର କଣ୍ଡକ୍ଟିଭ୍ ସମ୍ଭାବନା ଅଧିକ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଷ୍ଟିଲ୍ କୁ ପ୍ରଭାବିତ କରିଥାଏ |
ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକରେ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ଆଣ୍ଟି-କରୋଜିସନ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ସ୍କିଜେଟିକ୍ ଚିତ୍ର |
ଏହି କାର୍ଯ୍ୟରେ, ନିକେଲ୍ ଏବଂ ରୂପା ସଲଫାଇଡ୍ ନାନୋ-ପାର୍ଟିକଲ୍ସ TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ ସରଳ ବୁଡ ପକାଇବା ଏବଂ ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ୱାରା ସିନ୍ଥାଇଜ୍ ହୋଇଥିଲା |304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ର କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ଉପରେ ଏକ କ୍ରମିକ ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିଲା |ମର୍ଫୋଲୋଜିକାଲ୍ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ଉପରେ ଆଧାର କରି, ରଚନା ବିଶ୍ଳେଷଣ ଏବଂ ଆଲୋକ ଅବଶୋଷଣ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକର ବିଶ୍ଳେଷଣ ଉପରେ ନିମ୍ନଲିଖିତ ମୂଖ୍ୟ ସିଦ୍ଧାନ୍ତ ନିଆଗଲା:
6 ର ନିକେଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ର ଅନେକ ଇମ୍ପ୍ରେଗେସନ୍-ଡିପୋଜିଟେସନ୍ ଚକ୍ର ଏବଂ 0.1 mol / l ର ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ ପାଇଁ ରୂପା ନାଇଟ୍ରେଟ୍ ର ଏକାଗ୍ରତା ସହିତ, ଫଳାଫଳ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ 304 ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ ଏକ ଭଲ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ପ୍ରତିରକ୍ଷା ପ୍ରଭାବ ପକାଇଲା |ଏକ ସାଚୁରେଟେଡ୍ କାଲୋମେଲ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ତୁଳନାରେ, ସୁରକ୍ଷା ସମ୍ଭାବନା -925 mV, ଏବଂ ସୁରକ୍ଷା କରେଣ୍ଟ 410 μA / cm2 ରେ ପହଞ୍ଚେ |
Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ଏକ ହେଟେରୋଜଙ୍କସନ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଫିଲ୍ଡ ସୃଷ୍ଟି ହୁଏ, ଯାହା ଫୋଟୋଜେନେରେଟେଡ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଏବଂ ଛିଦ୍ରର ପୃଥକ ଶକ୍ତିକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ |ସେହି ସମୟରେ, ଆଲୋକର ବ୍ୟବହାର ଦକ୍ଷତା ବୃଦ୍ଧି ହୁଏ ଏବଂ ଆଲୋକ ଅବଶୋଷଣ ପରିସର ଅତିବାଇଗଣୀ ରଙ୍ଗର ଅଞ୍ଚଳରୁ ଦୃଶ୍ୟମାନ ଅଞ୍ଚଳକୁ ବିସ୍ତାର ହୁଏ |Nan ଟି ଚକ୍ର ପରେ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଭଲ ସ୍ଥିରତା ସହିତ ଏହାର ମୂଳ ସ୍ଥିତିକୁ ବଜାୟ ରଖିବ |
ପରୀକ୍ଷାମୂଳକ ଭାବରେ ପ୍ରସ୍ତୁତ Ag / NiS / TiO2 ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ଗୁଡିକର ଏକ ସମାନ ଏବଂ ଘନ ପୃଷ୍ଠ ଅଛି |ନିକୋଲ୍ ସଲଫାଇଡ୍ ଏବଂ ରୂପା ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ TiO2 ନାନୋୱାୟାର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ସମାନ ଭାବରେ ମିଶ୍ରିତ |କମ୍ପୋଜିଟ୍ କୋବାଲ୍ଟ ଫେରିଟ୍ ଏବଂ ରୂପା ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧ ଅଟେ |
Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, 3% NaCl ସମାଧାନରେ କାର୍ବନ ଷ୍ଟିଲ ପାଇଁ TiO2 ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର JN ଫୋଟୋକାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଭାବ | Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, 3% NaCl ସମାଧାନରେ କାର୍ବନ ଷ୍ଟିଲ ପାଇଁ TiO2 ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର JN ଫୋଟୋକାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଭାବ | ଲି, ଏମସି, ଲୁଓ, SZ, ୱୁ, ପିଏଫ୍ ଏବଂ ଶେନ୍, ଜେ.ଏନ୍। Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, 3% NaCl ସମାଧାନରେ କାର୍ବନ ଷ୍ଟିଲ ପାଇଁ TiO2 ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର JN ଫୋଟୋକାଥୋଡ୍ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଭାବ | ଲି, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜 在 3% NaCl 溶液 中 对 碳钢 光阴 极 效果。 ଲି, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, JN TiO2 薄膜 在 3% NaCl 溶液 中 对 碳钢 光阴 极 效果。 ଲି, ଏମସି, ଲୁଓ, ଏସଜେ, ୱୁ, ପିଏଫ୍ ଏବଂ ଶେନ୍, ଜେଏନ୍ Li, MC, Luo, SZ, Wu, PF & Shen, 3% NaCl ସମାଧାନରେ TiO2 ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସହିତ କାର୍ବନ ଷ୍ଟିଲର JN ଫୋଟୋକାଥୋଡ୍ ସୁରକ୍ଷା |ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମ୍ଆକ୍ଟା 50, 3401-3406 (2005) |
ଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ ଲି, ଜେ। ଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ ଲି, ଜେ।ଲି, ଜେ।, ଲିନ, SJ, ଲାଇ, YK ଏବଂ Du, ଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ ଫୁଲ ଆକାରରେ ଏକ ନାନୋଷ୍ଟ୍ରକଚର, ନାଇଟ୍ରୋଜେନ-ଡୋପଡ୍ TiO2 ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର RG ଫୋଟୋଜେରେଟେଡ୍ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା | ଲି, ଜେ।, ଲିନ୍, ସିଜେ, ଲାଇ, YK & Du, RG 花 状 结构 N 掺杂 TiO2 薄膜 在 不锈钢 上 的。。。 ଲି, ଜେ।, ଲିନ, ସିଜେ, ଲାଇ, YK & Du, RGଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲ ଉପରେ ଲି, ଜେ।ଏକ କୋଟ୍ ସର୍ଫିଙ୍ଗ୍ |ଟେକ୍ନୋଲୋଜି 205, 557-564 (2010) |
ଜୋଉ, ଏମଜେ, ଜେଙ୍ଗ, ଜୋ ଏବଂ ଜୋଙ୍ଗ, ଏଲ। ଜୋଉ, ଏମଜେ, ଜେଙ୍ଗ, ଜୋ ଏବଂ ଜୋଙ୍ଗ, ଏଲ।ଜୋଉ, ଏମଜେ, ଜେଙ୍ଗ, ଜୋ ଏବଂ ଜୋଙ୍ଗ, ଏଲ। ଜୋଉ, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米 TiO2 / WO3 涂层 的 光 生 阴极 性能。 ଜୋଉ, MJ, Zeng, ZO & Zhong, L. 纳米 TiO2 / WO3 涂层 的 光 生 阴极 性能。ଜୋଉ ଏମଜେ, ଜେଙ୍ଗ ଜୋ ଏବଂ ଜୋଙ୍ଗ ଏଲ।କରୋସ୍ବିଜ୍ଞାନ51, 1386–1397 (2009) |
ଏକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଫଟୋନୋଡ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଧାତୁ କ୍ଷୟ ରୋକିବା ପାଇଁ ପାର୍କ, ଏଚ୍, କିମ୍, KY ଏବଂ ଚୋଇ, ଡବ୍ଲୁ ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ପଦ୍ଧତି | ଏକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଫଟୋନୋଡ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଧାତୁ କ୍ଷୟ ରୋକିବା ପାଇଁ ପାର୍କ, ଏଚ୍, କିମ୍, KY ଏବଂ ଚୋଇ, ଡବ୍ଲୁ ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ପଦ୍ଧତି |ପାର୍କ, ଏଚ୍, କିମ୍, କେ।ଏବଂ Choi, V. ଏକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଫଟୋନୋଡ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ଧାତୁ କ୍ଷୟ ରୋକିବା ପାଇଁ ଏକ ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ଆଭିମୁଖ୍ୟ | ପାର୍କ, ଏଚ୍, କିମ୍, KY ଏବଂ Choi, W. 使用 半导体 光 阳极。。。 ପାର୍କ, ଏଚ୍, କିମ୍, KY ଏବଂ Choi, W.ପାର୍କ ଏଚ୍, କିମ୍ କେ।ଏବଂ Choi V. ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଫଟୋନୋଡ ବ୍ୟବହାର କରି ଧାତୁର କ୍ଷୟକୁ ରୋକିବା ପାଇଁ ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ପଦ୍ଧତି |ଜେ ପଦାର୍ଥ ବିଜ୍ଞାନରାସାୟନିକV. 106, 4775–4781 (2002) |
ଶେନ୍, ଜିଏକ୍ସ, ଚେନ୍, YC, ଲିନ୍, ଏଲ୍।, ଲିନ, ସିଜେ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ଟଲେବିରୀ, ଡି। ଶେନ୍, ଜିଏକ୍ସ, ଚେନ୍, YC, ଲିନ୍, ଏଲ୍।, ଲିନ, ସିଜେ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ଟଲେବିରୀ, ଡି। ଶେନ୍, ଜିଏକ୍ସ, ଚେନ୍, YC, ଲିନ୍, ଏଲ୍।, ଲିନ୍, ସିଜେ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ଟଲେବୁରୀ, ଡି। ଶେନ୍, ଜିଏକ୍ସ, ଚେନ୍, YC, ଲିନ୍, ଏଲ୍, ଲିନ୍, ସିଜେ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ଟଲେବିରୀ, ଡି। ଶେନ୍, ଜିଏକ୍ସ, ଚେନ୍, YC, ଲିନ୍, ଏଲ୍, ଲିନ୍, ସିଜେ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ଟଲେବିରୀ, ଡି। 疏水 纳米 氧化钛 氧化钛。 ଶେନ୍, ଜିଏକ୍ସ, ଚେନ୍, YC, ଲିନ୍, ଏଲ୍।, ଲିନ, ସିଜେ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ଟଲେବିରୀ, ଡି। ଶେନ୍, ଜିଏକ୍ସ, ଚେନ୍, YC, ଲିନ୍, ଏଲ୍।, ଲିନ୍, ସିଜେ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ଟଲେବୁରୀ, ଡି। ଶେନ୍, ଜିଏକ୍ସ, ଚେନ୍, YC, ଲିନ୍, ଏଲ୍, ଲିନ୍, ସିଜେ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ଟଲେବିରୀ, ଡି।ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମ୍ଆକ୍ଟା 50, 5083–5089 (2005) |
ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର କ୍ଷୟକ୍ଷତି ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ N, S ଏବଂ Cl- ରୂପାନ୍ତରିତ ନାନୋ-ଟିଓ 2 ଆବରଣ ଉପରେ Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର କ୍ଷୟକ୍ଷତି ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ N, S ଏବଂ Cl- ରୂପାନ୍ତରିତ ନାନୋ-ଟିଓ 2 ଆବରଣ ଉପରେ Yun, H., Li, J., Chen, HB & Lin, CJଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲର କ୍ଷୟକ୍ଷତି ପାଇଁ ନାଇଟ୍ରୋଜେନ, ସଲଫର ଏବଂ କ୍ଲୋରାଇନ୍ ସହିତ ପରିବର୍ତ୍ତିତ ନାନୋ-ଟିଓ 2 ଆବରଣର YJ, H., Li, J., Chen, HB ଏବଂ Lin, SJ ଅନୁସନ୍ଧାନ | ୟୁନ୍, ଏଚ୍, ଲି, ଜେ।, ଚେନ୍, ଏଚ୍ ଏବଂ ଲିନ୍, CJ N 、 S 和 Cl 改性 纳米 二 涂层。。。 ୟୁନ୍, ଏଚ୍, ଲି, ଜେ।, ଚେନ୍, ଏଚ୍ ଏବଂ ଲିନ୍, CJ N 、 S 和 Cl ୟୁନ୍, ଏଚ୍।, ଲି, ଜେ। ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର କ୍ଷୟକ୍ଷତି ପାଇଁ ୟୁନ୍, ଏଚ୍, ଲି, ଜେ।, ଚେନ୍, ଏଚ୍ ଏବଂ ଲିନ୍, ସିଜେ ନାନୋ-ଟିଓ 2 ରୂପାନ୍ତରିତ N, S ଏବଂ Cl ଆବରଣଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମ୍ଭଲ୍ୟୁମ୍ 52, 6679–6685 (2007) |
ଜୁ, YF, Du, RG, ଚେନ୍, ଡବ୍ଲୁ। ଜୁ, YF, Du, RG, ଚେନ୍, ଡବ୍ଲୁ। ଜୁ, YF, Du, RG, ଚେନ୍, ଡବ୍ଲୁ। ଜୁ, YF, Du, RG, ଚେନ୍, ଡବ୍ଲୁ। ଜୁ, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJ 溶胶 - 凝胶 和 水 热 法制 钛。。。。 ଜୁ, YF, Du, RG, Chen, W., Qi, HQ & Lin, CJProperties 铺 - properties 和 protective The protective protective protective ର ପ୍ରତିରକ୍ଷା ଗୁଣ | ଜୁ, YF, Du, RG, ଚେନ୍, ଡବ୍ଲୁ। ସୋ, ଜେଲ୍ ଏବଂ ହାଇଡ୍ରୋଥର୍ମାଲ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ prepared ାରା ପ୍ରସ୍ତୁତ ତ୍ରି-ଡାଇମେନ୍ସନ୍ ଟାଇଟାନେଟ୍ ନାନୋୱାୟାର୍ ନେଟୱାର୍କ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଜୁ, YF, Du, RG, ଚେନ୍, ଡବ୍ଲୁ, କ୍ୱି, HQ ଏବଂ ଲିନ, ସିଜେ ଫୋଟୋକାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ଗୁଣ |ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିଷ୍ଟ୍ରି12, 1626–1629 (2010) ଯୋଗାଯୋଗ କରନ୍ତୁ |
ଲି, ଜେଏଚ୍, କିମ୍, SI, ପାର୍କ, ଏସ୍ଏମ୍ ଏବଂ କାଙ୍ଗ୍, ଏମ୍। ଲି, ଜେଏଚ୍, କିମ୍, SI, ପାର୍କ, ଏସ୍ଏମ୍ ଏବଂ କାଙ୍ଗ୍, ଏମ୍।ଲି, ଜେଏଚ୍, କିମ୍, SI, ପାର୍କ, ଏସ୍, ଏବଂ କାଙ୍ଗ୍, ଏମ୍। ଲି, ଜେଏଚ୍, କିମ୍, SI, ପାର୍କ, SM ଏବଂ କାଙ୍ଗ୍, M. 一种 pn 异质 结 NiS 敏 i TiO2 光 催化 系统 用于 用于。。。 ଲି, ଜେଏଚ୍, କିମ୍, SI, ପାର୍କ, ଏସ୍ଏମ୍ ଏବଂ କାଙ୍ଗ, ଏମ୍।ଲି, ଜେଏଚ୍, କିମ୍, SI, ପାର୍କ, ଏସ୍, ଏବଂ କାଙ୍ଗ୍, ଏମ୍।ସେରାମିକ୍ସ |ବ୍ୟାଖ୍ୟା43, 1768–1774 (2017) |
ୱାଙ୍ଗ, QZ ଇତ୍ୟାଦି |TiO2 ରେ ଫୋଟୋକାଟାଲାଇଟିକ୍ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍ ବିବର୍ତ୍ତନକୁ ବ enhance ାଇବା ପାଇଁ CuS ଏବଂ NiS କୋକାଟାଲାଇଷ୍ଟ ଭାବରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରନ୍ତି |ବ୍ୟାଖ୍ୟାJ.Hydroଶକ୍ତି 39, 13421–13428 (2014) |
ଲିୟୁ, ୟ। ଲିୟୁ, ୟ।ଲିଓ, ୱାଇ ଏବଂ ଟାଙ୍ଗ, କେ। ଲିଉ, Y. ଏବଂ ଟାଙ୍ଗ, C. 通过 表面 负载 NiS 纳米 颗粒 i TiO2 纳米 片 薄膜 上。。 ଲିୟୁ, Y. ଏବଂ ଟାଙ୍ଗ, ସିଲିୟୁ, Y. ଏବଂ ଟାଙ୍ଗ, କେ।ଲାସ୍ଜେ ପଦାର୍ଥ ବିଜ୍ଞାନରାସାୟନିକଏକ 90, 1042-1048 (2016) |
ହୁଆଙ୍ଗ, ଏକ୍ସଡବ୍ଲୁ ଏବଂ ଲିୟୁ, ଜେଜେ ଆନାଡାଇଜେସନ୍ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ prepared ାରା ପ୍ରସ୍ତୁତ Ti - O ଆଧାରିତ ନାନୋୱାୟର୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଗଠନ ଏବଂ ଗୁଣଗୁଡ଼ିକର ତୁଳନାତ୍ମକ ଅଧ୍ୟୟନ | ହୁଆଙ୍ଗ, ଏକ୍ସଡବ୍ଲୁ ଏବଂ ଲିୟୁ, ଜେଜେ ଆନାଡାଇଜେସନ୍ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ prepared ାରା ପ୍ରସ୍ତୁତ Ti - O ଆଧାରିତ ନାନୋୱାୟର୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଗଠନ ଏବଂ ଗୁଣଗୁଡ଼ିକର ତୁଳନାତ୍ମକ ଅଧ୍ୟୟନ | ହୁଆଙ୍ଗ, ଏକ୍ସଡବ୍ଲୁ ଏବଂ ଲିୟୁ, ଜେ.ଜେ. ହୁଆଙ୍ଗ, ଏକ୍ସଡବ୍ଲୁ ଏବଂ ଲିୟୁ, ଜେଜେ ଆନାଡାଇଜିଂ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ obtained ାରା ପ୍ରାପ୍ତ ଟି-ଓ ନାନୋୱାୟାର ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଗଠନ ଏବଂ ଗୁଣଗୁଡ଼ିକର ଏକ ତୁଳନାତ୍ମକ ଅଧ୍ୟୟନ | ହୁଆଙ୍ଗ, XW ଏବଂ ଲିୟୁ, ZJ 阳极 i i i i i i i i i i i i i i i。 ହୁଆଙ୍ଗ, XW ଏବଂ ଲିୟୁ, ZJ 阳极 ଅକ୍ସିଡେସନ୍ 法 和 ରାସାୟନିକ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ 法 ପ୍ରସ୍ତୁତି i Ti-O 小 线 ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ 和 ସମ୍ପତ୍ତି 的 ତୁଳନାତ୍ମକ ଅନୁସନ୍ଧାନ | ହୁଆଙ୍ଗ, ଏକ୍ସଡବ୍ଲୁ ଏବଂ ଲିୟୁ, ଜେ.ଜେ. ହୁଆଙ୍ଗ, XW ଏବଂ ଲିୟୁ, ଜେଜେ ଆନାଡାଇଜେସନ୍ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ଦ୍ୱାରା ପ୍ରସ୍ତୁତ ଟି-ଓ ନାନୋୱାୟର୍ ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଗଠନ ଏବଂ ଗୁଣଗୁଡ଼ିକର ଏକ ତୁଳନାତ୍ମକ ଅଧ୍ୟୟନ |ଜେ ଆଲମା ମ୍ୟାଟର୍ବିଜ୍ଞାନ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା 30, 878–883 (2014) |
ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକରେ 304SS ର ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ ଲି, ଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, XT, ଲିୟୁ, Y. ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକରେ 304SS ର ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ ଲି, ଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, XT, ଲିୟୁ, Y. ଲି, ଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, XT, ଲିୟୁ, Y. ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକରେ 304SS କୁ ରକ୍ଷା କରିବା ପାଇଁ ଲି, ଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, XT, ଲିୟୁ, Y. ଲି, ଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, XT, ଲିୟୁ, Y. ଲି, ଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, XT, ଲିୟୁ, Y. ଏବଂ ହୁ, BR Ag ଲି, ଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, XT, ଲିୟୁ, Y. ଲି, ଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, ଏକ୍ସଟି, ଲିୟୁ, Y.କରୋସ୍ବିଜ୍ଞାନ82, 145-153 (2014) |
ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକରେ 304 SS ର ଫୋଟୋକାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ ୱେନ୍, ଜେଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, ଏନ।, ୱାଙ୍ଗ, ଜେ। ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକରେ 304 SS ର ଫୋଟୋକାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ ୱେନ୍, ଜେଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, ଏନ।, ୱାଙ୍ଗ, ଜେ।ୱେନ୍, ଜେଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, ଏନ। ୱେନ୍, ଜେଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, ଏନ।, ୱାଙ୍ଗ, ଜେ। ଏବଂ ହୋ, BR Ag 和 CoFe2O4 共 敏 i TiO2 纳米 ୱେନ୍, ଜେଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, ଏନ।, ୱାଙ୍ଗ, ଜେ। ଏବଂ ହୋ, ବିଆର ଏଗଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକରେ 304 ଏସ୍ ଫୋଟୋକାଥୋଡ୍ ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ ୱେନ୍, ଜେଏଚ୍, ୱାଙ୍ଗ, ଏନ।ବ୍ୟାଖ୍ୟାଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିଷ୍ଟ୍ରିବିଜ୍ଞାନ13, 752–761 (2018) |
ବୁ, YY & Ao, JP ଧାତୁ ପାଇଁ ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଉପରେ ଏକ ସମୀକ୍ଷା | ବୁ, YY & Ao, JP ଧାତୁ ପାଇଁ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସୁରକ୍ଷା ଉପରେ ଏକ ସମୀକ୍ଷା | ବୁ, YY & Ao, JP Обзор фотоэлекххимческой катодной защиты абких полупро адниковых пленок для ковов। ବୁ, YY & Ao, ଧାତୁ ପାଇଁ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଫଟୋଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସଂରକ୍ଷଣର JP ସମୀକ୍ଷା | ବୁ, YY & Ao, JP 金属 光电 化学 阴极 保护 薄膜。。 ବୁ, YY & Ao, JP ଧାତୁକରଣ 光 电视 光阴 极 电影 电影。。 ବୁ, YY & Ao, JP Обзор металлической фотографиясе ବୁ, YY & Ao, JP ପତଳା ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରଗୁଡ଼ିକର ଧାତବ ଫଟୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ କ୍ୟାଥୋଡିକ୍ ସଂରକ୍ଷଣର ଏକ ସମୀକ୍ଷା |ଏକ ସବୁଜ ଶକ୍ତି ପରିବେଶ |2, 331-362 (2017) |