Nature.com ପରିଦର୍ଶନ କରିଥିବାରୁ ଧନ୍ୟବାଦ |ଆପଣ ବ୍ୟବହାର କରୁଥିବା ବ୍ରାଉଜର୍ ସଂସ୍କରଣରେ ସୀମିତ CSS ସମର୍ଥନ ଅଛି |ସର୍ବୋତ୍ତମ ଅଭିଜ୍ଞତା ପାଇଁ, ଆମେ ପରାମର୍ଶ ଦେଉଛୁ ଯେ ଆପଣ ଏକ ଅପଡେଟ୍ ବ୍ରାଉଜର୍ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ (କିମ୍ବା ଇଣ୍ଟରନେଟ୍ ଏକ୍ସପ୍ଲୋରରରେ ସୁସଙ୍ଗତତା ମୋଡ୍ ଅକ୍ଷମ କରନ୍ତୁ) |ମ meantime ିରେ ମ continued ିରେ, ନିରନ୍ତର ସମର୍ଥନ ନିଶ୍ଚିତ କରିବାକୁ, ଆମେ ଶ yles ଳୀ ଏବଂ ଜାଭାସ୍କ୍ରିପ୍ଟ ବିନା ସାଇଟ୍ ଉପସ୍ଥାପନ କରିବୁ |
କ୍ରନିକ୍ ସଂକ୍ରମଣର ବିକାଶରେ ବାୟୋଫିଲ୍ମ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଉପାଦାନ, ବିଶେଷତ when ଯେତେବେଳେ ଏହା ଚିକିତ୍ସା ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ବିଷୟରେ ଆସେ |ଏହି ସମସ୍ୟା ଚିକିତ୍ସା ସମ୍ପ୍ରଦାୟ ପାଇଁ ଏକ ବଡ଼ ଆହ୍ ents ାନ ଉପସ୍ଥାପନ କରେ, କାରଣ ମାନକ ଆଣ୍ଟିବାୟୋଟିକ୍ କେବଳ ବାୟୋଫିଲ୍ମକୁ ଅତି ସୀମିତ ପରିମାଣରେ ନଷ୍ଟ କରିପାରେ |ବାୟୋଫିଲ୍ମ ଗଠନ ରୋକିବା ଦ୍ୱାରା ବିଭିନ୍ନ ଆବରଣ ପଦ୍ଧତି ଏବଂ ନୂତନ ସାମଗ୍ରୀର ବିକାଶ ଘଟିଛି |ଏହି କ ques ଶଳଗୁଡ଼ିକ ପୃଷ୍ଠଭୂମିରେ ଏକ ଉପାୟରେ ଆବରଣ କରିବାକୁ ଲକ୍ଷ୍ୟ ରଖିଥାଏ ଯାହା ବାୟୋଫିଲ୍ମ ଗଠନକୁ ରୋକିଥାଏ |ଭିଟ୍ରଏସ୍ ଧାତୁ ମିଶ୍ରଣ, ବିଶେଷତ those ତମ୍ବା ଏବଂ ଟାଇଟାନିୟମ୍ ଧାତୁ ଧାରଣ କରିଥିବା, ଆଦର୍ଶ ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ଆବରଣରେ ପରିଣତ ହୋଇଛି |ଏଥି ସହିତ, ତାପମାତ୍ରା ସମ୍ବେଦନଶୀଳ ସାମଗ୍ରୀ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ପାଇଁ ଏହା ଏକ ଉପଯୁକ୍ତ ପଦ୍ଧତି ହୋଇଥିବାରୁ ଥଣ୍ଡା ସ୍ପ୍ରେ ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ବ୍ୟବହାର ବୃଦ୍ଧି ପାଇଛି |ଏହି ଅନୁସନ୍ଧାନର ଲକ୍ଷ୍ୟର ଏକ ଅଂଶ ହେଉଛି ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଆଲୋଇଂ କ ques ଶଳ ବ୍ୟବହାର କରି Cu-Zr-Ni ଟର୍ନାରୀକୁ ନେଇ ଏକ ନୂତନ ଆଣ୍ଟିବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆଲ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଧାତବ ଗ୍ଲାସ୍ ବିକଶିତ କରିବା |ଅନ୍ତିମ ଉତ୍ପାଦ ତିଆରି କରୁଥିବା ଗୋଲାକାର ପାଉଡର କମ୍ ତାପମାତ୍ରାରେ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ପୃଷ୍ଠଗୁଡିକର ଥଣ୍ଡା ସ୍ପ୍ରେ ପାଇଁ କଞ୍ଚାମାଲ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ଧାତୁ ଗ୍ଲାସ୍ ଆବୃତ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଗୁଡିକ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ତୁଳନାରେ ଅତି କମରେ 1 ଲଗ ଦ୍ୱାରା ବାୟୋଫିଲ୍ମ ଗଠନକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ହ୍ରାସ କରିବାରେ ସକ୍ଷମ ହୋଇଥିଲେ |
ମାନବ ଇତିହାସରେ, ଯେକ any ଣସି ସମାଜ ଏହାର ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରିବା ପାଇଁ ନୂତନ ସାମଗ୍ରୀର ପରିଚୟ ବିକାଶ ଏବଂ ପ୍ରୋତ୍ସାହିତ କରିବାରେ ସକ୍ଷମ ହୋଇଛି, ଫଳସ୍ୱରୂପ ଉତ୍ପାଦନ ବୃଦ୍ଧି ଏବଂ ଜଗତୀକରଣ ଅର୍ଥନୀତିରେ ର୍ୟାଙ୍କିଙ୍ଗ୍ 1 |ସାମଗ୍ରୀ ଏବଂ ଉତ୍ପାଦନ ଉପକରଣର ଡିଜାଇନ୍ କରିବା ସହିତ ସ୍ୱାସ୍ଥ୍ୟ, ଶିକ୍ଷା, ଶିଳ୍ପ, ଅର୍ଥନୀତି, ସଂସ୍କୃତି ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଦେଶରୁ ଅନ୍ୟ ଦେଶକୁ ସାମଗ୍ରୀ ଉତ୍ପାଦନ ତଥା ଚରିତ୍ର କରିବା ପାଇଁ ଡିଜାଇନ୍ ପାଇଁ ଏହା ସର୍ବଦା ମାନବୀୟ ଦକ୍ଷତା ପାଇଁ ଦାୟୀ |ଦେଶ କିମ୍ବା ଅଞ୍ଚଳ ନିର୍ବିଶେଷରେ ପ୍ରଗତି ମାପ କରାଯାଏ |60 ବର୍ଷ ଧରି, ସାମଗ୍ରୀ ବ scientists ଜ୍ଞାନିକମାନେ ଗୋଟିଏ ମୁଖ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟରେ ଅନେକ ସମୟ ଉତ୍ସର୍ଗ କରିଛନ୍ତି: ନୂତନ ଏବଂ ଉନ୍ନତ ସାମଗ୍ରୀର ସନ୍ଧାନ |ସାମ୍ପ୍ରତିକ ଅନୁସନ୍ଧାନଗୁଡିକ ବିଦ୍ୟମାନ ସାମଗ୍ରୀର ଗୁଣବତ୍ତା ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ସହିତ ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ନୂତନ ପ୍ରକାରର ସାମଗ୍ରୀର ସିନ୍ଥେସାଇଜ୍ ଏବଂ ଉଦ୍ଭାବନ ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦେଇଛି |
ମିଶ୍ରିତ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ଯୋଗ, ପଦାର୍ଥର ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚରର ପରିବର୍ତ୍ତନ ଏବଂ ତାପଜ, ଯାନ୍ତ୍ରିକ କିମ୍ବା ଥର୍ମୋମେକାନିକାଲ୍ ଚିକିତ୍ସା ପଦ୍ଧତିର ପ୍ରୟୋଗ ବିଭିନ୍ନ ସାମଗ୍ରୀର ଯାନ୍ତ୍ରିକ, ରାସାୟନିକ ଏବଂ ଭ physical ତିକ ଗୁଣରେ ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ଉନ୍ନତି ଆଣିଛି |ଏହା ସହିତ, ଏପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଅଜ୍ଞାତ ଯ ounds ଗିକଗୁଡିକ ସଫଳତାର ସହିତ ସିନ୍ଥାଇଜ୍ ହୋଇଛି |ଏହି ନିରନ୍ତର ପ୍ରୟାସ ଏକ ଅଭିନବ ସାମଗ୍ରୀର ଏକ ନୂତନ ପରିବାର ସୃଷ୍ଟି କରିଛି ଯାହାକି ସାମୂହିକ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ ସାମଗ୍ରୀ 2 ଭାବରେ ଜଣାଶୁଣା |ନାନୋକ୍ରିଷ୍ଟାଲ୍, ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ, ନାନୋଟ୍ୟୁବ୍, କ୍ୱାଣ୍ଟମ୍ ବିନ୍ଦୁ, ଶୂନ-ଡାଇମେନ୍ସନାଲ୍, ଆମୋରଫସ୍ ଧାତବ ଚଷମା, ଏବଂ ହାଇ-ଏଣ୍ଟ୍ରପି ଆଲୋଇ କେବଳ ଉନ୍ନତ ସାମଗ୍ରୀର କିଛି ଉଦାହରଣ ଯାହା ଗତ ଶତାବ୍ଦୀର ମଧ୍ୟଭାଗରୁ ବିଶ୍ୱରେ ଦେଖା ଦେଇଥିଲା |ଉନ୍ନତ ଗୁଣ ସହିତ ନୂତନ ଆଲୋଇସ୍ ଉତ୍ପାଦନ ଏବଂ ବିକାଶରେ, ଉଭୟ ଅନ୍ତିମ ଦ୍ରବ୍ୟରେ ଏବଂ ଏହାର ଉତ୍ପାଦନର ମଧ୍ୟବର୍ତ୍ତୀ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ, ଅସନ୍ତୁଳନ ସମସ୍ୟା ପ୍ରାୟତ added ଯୋଡା ଯାଇଥାଏ |ନୂତନ ଉତ୍ପାଦନ କ ques ଶଳର ପ୍ରବର୍ତ୍ତନ ପରିଣାମ ଯାହା ସନ୍ତୁଳନରୁ ମହତ୍ dev ପୂର୍ଣ୍ଣ ବିଚ୍ୟୁତିକୁ ଅନୁମତି ଦିଏ, ଧାତବ ଚଷମା ଭାବରେ ଜଣାଶୁଣା ଏକ ନୂତନ ଶ୍ରେଣୀ ମେଟାଷ୍ଟେବଲ୍ ଆଲୋଇସ୍ ଆବିଷ୍କୃତ ହେଲା |
୧ 1960 1960 ୦ରେ କାଲଟେକ୍ରେ ତାଙ୍କର କାର୍ଯ୍ୟ ଧାତୁ ଆଲୋଇସ୍ ର ସଂକଳ୍ପରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିଥିଲା ​​ଯେତେବେଳେ ସେ Au-25 କୁ% ସି ଗ୍ଲାସୀ ଆଲୋଇସ୍ ପ୍ରତି ସେକେଣ୍ଡରେ ପ୍ରାୟ ଏକ ମିଲିୟନ୍ ଡିଗ୍ରୀରେ ତରଳ ପଦାର୍ଥକୁ ଦୃ solid କରି ସିନ୍ଥାଇଜ୍ କରିଥିଲେ |4 ପ୍ରଫେସର ପଲ୍ ଡୁଭ୍ସଙ୍କ ଆବିଷ୍କାର କେବଳ ଇତିହାସ ଧାତୁ ଚଷମା (MS) ର ଆରମ୍ଭକୁ ଚିହ୍ନିତ କରିନଥିଲା, ବରଂ ଧାତୁ ମିଶ୍ରଣ ବିଷୟରେ ଲୋକମାନେ କିପରି ଭାବନ୍ତି ସେଥିରେ ଏକ ପାରାଦୀପ ପରିବର୍ତ୍ତନ ମଧ୍ୟ ଘଟିଲା |ଏମଏସ ଆଲୋଇସର ସିନ୍ଥେସିସରେ ପ୍ରଥମ ଅଗ୍ରଗାମୀ ଅନୁସନ୍ଧାନ ପରଠାରୁ, ପ୍ରାୟ ସମସ୍ତ ଧାତବ ଚଷମା ନିମ୍ନଲିଖିତ ପଦ୍ଧତି ମଧ୍ୟରୁ ଗୋଟିଏ ବ୍ୟବହାର କରି ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭାବରେ ପ୍ରାପ୍ତ ହୋଇଛି:
ସ୍ଫଟିକ ସହିତ ଜଡିତ ଦୀର୍ଘ ଦୂରତା ବିଶିଷ୍ଟ ପରମାଣୁ କ୍ରମର ଅନୁପସ୍ଥିତି ଦ୍ୱାରା MG ଗୁଡିକ ପୃଥକ ହୋଇଥାଏ, ଯାହା ସ୍ଫଟିକଗୁଡିକର ଏକ ବ୍ୟାଖ୍ୟାକାରୀ ଗୁଣ ଅଟେ |ଆଧୁନିକ ଦୁନିଆରେ ଧାତବ କାଚ କ୍ଷେତ୍ରରେ ବହୁତ ଅଗ୍ରଗତି ହୋଇଛି |ଆକର୍ଷଣୀୟ ଗୁଣ ସହିତ ଏଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି ନୂତନ ସାମଗ୍ରୀ ଯାହା କେବଳ କଠିନ ରାଜ୍ୟ ପଦାର୍ଥ ବିଜ୍ଞାନ ପାଇଁ ନୁହେଁ, ଧାତବ ବିଦ୍ୟା, ଭୂପୃଷ୍ଠ ରସାୟନ ବିଜ୍ଞାନ, ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା, ଜୀବ ବିଜ୍ଞାନ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ କ୍ଷେତ୍ରରେ ମଧ୍ୟ ଆଗ୍ରହୀ |ଏହି ନୂତନ ପ୍ରକାରର ସାମଗ୍ରୀର ଗୁଣ ଅଛି ଯାହା ହାର୍ଡ ଧାତୁଠାରୁ ଭିନ୍ନ, ଏହାକୁ ବିଭିନ୍ନ କ୍ଷେତ୍ରରେ ବ techn ଷୟିକ ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଏକ ଆକର୍ଷଣୀୟ ପ୍ରାର୍ଥୀ କରିଥାଏ |ସେମାନଙ୍କର କିଛି ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଗୁଣ ଅଛି:ଚାଳନା 6.7।
ମେକାନିକାଲ୍ ଆଲୋଇଙ୍ଗ୍ (MA) 1,8 ହେଉଛି ଏକ ଅପେକ୍ଷାକୃତ ନୂତନ ପଦ୍ଧତି, ଯାହା ପ୍ରଥମେ ପ୍ରଫେସର କେ.କେ କୋକ ଏବଂ ତାଙ୍କ ସହକର୍ମୀମାନଙ୍କ ଦ୍ 1983 ାରା 19839 ରେ ପ୍ରବର୍ତ୍ତିତ ହୋଇଥିଲା |କୋଠରୀ ତାପମାତ୍ରାର ଅତି ନିକଟ ପରିବେଶ ତାପମାତ୍ରାରେ ଶୁଦ୍ଧ ଉପାଦାନଗୁଡିକର ମିଶ୍ରଣକୁ ଗ୍ରାଇଣ୍ଡ୍ କରି ସେମାନେ ଆମୋରଫସ୍ Ni60Nb40 ପାଉଡର୍ ଉତ୍ପାଦନ କଲେ |ସାଧାରଣତ ,, MA ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଏକ ରିଆକ୍ଟରରେ ରିଆକ୍ଟାଣ୍ଟ ପାଉଡରର ବିସ୍ତାର ବନ୍ଧନ ମଧ୍ୟରେ କରାଯାଇଥାଏ, ସାଧାରଣତ st ଷ୍ଟେନଲେସ ଷ୍ଟିଲରେ ନିର୍ମିତ ଏକ ବଲ ମିଲରେ |10 (ଚିତ୍ର 1a, ଖ) |ସେହି ଦିନଠାରୁ, ଏହି ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଭାବରେ ପ୍ରବର୍ତ୍ତିତ କଠିନ ସ୍ଥିତି ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ପଦ୍ଧତି ନିମ୍ନ (ଚିତ୍ର 1c) ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ବଲ୍ ମିଲ୍ ଏବଂ ରଡ୍ ମିଲ୍ 11,12,13,14,15,16 ବ୍ୟବହାର କରି ନୂତନ ଆମୋରଫସ୍ / ଧାତବ ଗ୍ଲାସ୍ ମିଶ୍ରିତ ପାଉଡର୍ ପ୍ରସ୍ତୁତ କରିବାକୁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |ବିଶେଷ ଭାବରେ, Cu-Ta17 ପରି ଅଦୃଶ୍ୟ ପ୍ରଣାଳୀ ତଥା ଉଚ୍ଚ-ତରଳିବା ପଏଣ୍ଟ୍ ଆଲ-ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍ ଧାତୁ (TM, Zr, Hf, Nb ଏବଂ Ta) 18,19 ଏବଂ Fe-W20 ସିଷ୍ଟମ୍ ପ୍ରସ୍ତୁତ କରିବାକୁ ଏହି ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଛି |, ଯାହା ପାରମ୍ପାରିକ ରନ୍ଧନ ପ୍ରଣାଳୀ ବ୍ୟବହାର କରି ମିଳିପାରିବ ନାହିଁ |ଏଥିସହ, ନାନୋକ୍ରିଷ୍ଟାଲାଇନ୍ ଏବଂ ନାନୋକମ୍ପୋସାଇଟ୍ ପାଉଡର କଣିକାର ଧାତୁ ଅକ୍ସାଇଡ୍, କାର୍ବାଇଡ୍, ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍, ହାଇଡ୍ରାଇଡ୍, ଅଙ୍ଗାରକାମ୍ଳ ନାନୋଟ୍ୟୁବ୍, ନାନୋଡିୟାମଣ୍ଡ, ଏବଂ ଟପ୍-ଡାଉନ୍ ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହାର କରି MA କୁ ସବୁଠାରୁ ଶକ୍ତିଶାଳୀ ନାନୋଟେକ୍ନୋଲୋଜିକାଲ୍ ଉପକରଣ ଭାବରେ ବିବେଚନା କରାଯାଏ |1 ଏବଂ ମେଟାଷ୍ଟେବଲ୍ ପର୍ଯ୍ୟାୟ |
ଏହି ଅଧ୍ୟୟନରେ Cu50 (Zr50-xNix) / SUS 304 ଧାତବ ଗ୍ଲାସ୍ ଆବରଣ ପ୍ରସ୍ତୁତ କରିବାକୁ ବ୍ୟବହୃତ ପଦ୍ଧତିକୁ ଦର୍ଶାଉଥିବା ସ୍କିମେଟିକ୍ |(କ) ନିମ୍ନ ଶକ୍ତି ବଲ୍ ମିଲ୍ ପ୍ରଣାଳୀ ବ୍ୟବହାର କରି Ni x (x; 10, 20, 30, ଏବଂ 40 ରେ।%) ର ବିଭିନ୍ନ ଏକାଗ୍ରତା ସହିତ MC ମିଶ୍ରିତ ପାଉଡର ପ୍ରସ୍ତୁତି |(କ) ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ସାମଗ୍ରୀ ଟୁଲ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ବଲ୍ ସହିତ ଏକ ଟୁଲ୍ ସିଲିଣ୍ଡରରେ ଲୋଡ୍ ହୋଇଛି ଏବଂ (ଖ) ଏକ ବାୟୁମଣ୍ଡଳରେ ପରିପୂର୍ଣ୍ଣ ଗ୍ଲୋଭ୍ ବାକ୍ସରେ ସିଲ୍ ହୋଇଛି |(ଗ) ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ପାତ୍ରର ସ୍ୱଚ୍ଛ ମଡେଲ୍ ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ସମୟରେ ବଲ୍ ର ଗତିକୁ ବର୍ଣ୍ଣନା କରେ |50 ଘଣ୍ଟା ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ ଅନ୍ତିମ ପାଉଡର ଉତ୍ପାଦକୁ SUS 304 ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ (d) କୁ ଥଣ୍ଡା ସ୍ପ୍ରେ କୋଟ୍ ପାଇଁ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇଥିଲା |
ଯେତେବେଳେ ଏହା ବଲ୍କ ମ୍ୟାଟେରିଆଲ୍ ସର୍ଫେସ୍ (ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍) ବିଷୟରେ ଆସେ, ଭୂପୃଷ୍ଠ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ପୃଷ୍ଠଭୂମି (ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍) ର ଡିଜାଇନ୍ ଏବଂ ରୂପାନ୍ତରଣକୁ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରେ ଯାହାକି କିଛି ଭ physical ତିକ, ରାସାୟନିକ ଏବଂ ବ technical ଷୟିକ ଗୁଣ ଯୋଗାଇଥାଏ ଯାହା ମୂଳ ବଲ୍କ ପଦାର୍ଥରେ ନାହିଁ |କେତେକ ଗୁଣ ଯାହା ଭୂପୃଷ୍ଠ ଚିକିତ୍ସା ମାଧ୍ୟମରେ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ ହୋଇପାରିବ, ସେଥିରେ ଘାସ, ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ଏବଂ କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ, ଘର୍ଷଣର କୋଏଫିସିଏଣ୍ଟ୍, ଜ o ବ ନିଷ୍କ୍ରିୟତା, ବ electrical ଦୁତିକ ଗୁଣ ଏବଂ ତାପଜ ଇନସୁଲେସନ୍ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |ଧାତବ, ଯାନ୍ତ୍ରିକ କିମ୍ବା ରାସାୟନିକ ପ୍ରଣାଳୀ ଦ୍ୱାରା ଭୂପୃଷ୍ଠର ଗୁଣବତ୍ତା ଉନ୍ନତ ହୋଇପାରିବ |ଏକ ଜଣାଶୁଣା ପ୍ରକ୍ରିୟା ଭାବରେ, ଆବରଣକୁ ଅନ୍ୟ ଏକ ପଦାର୍ଥରୁ ନିର୍ମିତ ଏକ ବଲ୍କ ବସ୍ତୁ (ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍) ପୃଷ୍ଠରେ କୃତ୍ରିମ ଭାବରେ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଉଥିବା ପଦାର୍ଥର ଏକ ବା ଏକାଧିକ ସ୍ତର ଭାବରେ ବ୍ୟାଖ୍ୟା କରାଯାଇଛି |ଏହିପରି, ଆବଶ୍ୟକୀୟ ବ technical ଷୟିକ କିମ୍ବା ସାଜସଜ୍ଜା ଗୁଣ ହାସଲ କରିବା ପାଇଁ, ଏବଂ ପରିବେଶ ସହିତ ଆଶା କରାଯାଉଥିବା ରାସାୟନିକ ଏବଂ ଶାରୀରିକ ପାରସ୍ପରିକ କ୍ରିୟା ଠାରୁ ସାମଗ୍ରୀକୁ ରକ୍ଷା କରିବା ପାଇଁ ଆବରଣଗୁଡିକ ଅଂଶରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |
ବିଭିନ୍ନ ମାଇକ୍ରୋମିଟରରୁ (10-20 ମାଇକ୍ରୋମିଟର ତଳେ) 30 ରୁ ଅଧିକ ମାଇକ୍ରୋମିଟର କିମ୍ବା ଏପରିକି ଅନେକ ମିଲିମିଟର ମୋଟା ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଉପଯୁକ୍ତ ପ୍ରତିରକ୍ଷା ସ୍ତର ପ୍ରୟୋଗ କରିବା ପାଇଁ ବିଭିନ୍ନ ପଦ୍ଧତି ଏବଂ କ ques ଶଳ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |ସାଧାରଣତ ,, ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟାଗୁଡ଼ିକୁ ଦୁଇଟି ଶ୍ରେଣୀରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରେ: (i) ଓଦା ଆବରଣ ପ୍ରଣାଳୀ, ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋପ୍ଲେଟିଂ, ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋପ୍ଲେଟିଂ, ଏବଂ ହଟ୍ ଡିପ୍ ଗାଲ୍ଭାନାଇଜିଂ ଏବଂ (ii) ଶୁଖିଲା ଆବରଣ ପ୍ରଣାଳୀ, ସୋଲଡିଂ, ହାର୍ଡଫେସ୍, ଶାରୀରିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​(PVD) ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରି |), ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​(CVD), ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ କ ques ଶଳ, ଏବଂ ସମ୍ପ୍ରତି ଶୀତଳ ସ୍ପ୍ରେ କ ques ଶଳ 24 (ଚିତ୍ର 1d) |
ବାୟୋଫିଲ୍ମଗୁଡିକ ମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ସମ୍ପ୍ରଦାୟ ଭାବରେ ବ୍ୟାଖ୍ୟା କରାଯାଇଛି ଯାହା ପୃଷ୍ଠଭୂମିରେ ଅବିସ୍ମରଣୀୟ ଭାବରେ ସଂଲଗ୍ନ ହୋଇଛି ଏବଂ ସ୍ produced- ଉତ୍ପାଦିତ ଏକ୍ସଟ୍ରାସେଲୁଲାର୍ ପଲିମର (EPS) ଦ୍ୱାରା ଘେରି ରହିଛି |ଏକ ଅତ୍ୟଧିକ ପରିପକ୍ୱ ବାୟୋଫିଲ୍ମ ଗଠନ ଖାଦ୍ୟ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ, ଜଳ ପ୍ରଣାଳୀ ଏବଂ ସ୍ୱାସ୍ଥ୍ୟସେବା ସମେତ ଅନେକ ଶିଳ୍ପରେ ବ୍ୟାପକ କ୍ଷତି ଘଟାଇପାରେ |ମଣିଷମାନଙ୍କରେ, ବାୟୋଫିଲ୍ମ ଗଠନ ସହିତ, ମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ସଂକ୍ରମଣର 80% ରୁ ଅଧିକ ରୋଗ (ଏଣ୍ଟେରୋବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆସିଆ ଏବଂ ଷ୍ଟାଫିଲୋକୋକି ଅନ୍ତର୍ଭୂକ୍ତ କରି) ଚିକିତ୍ସା କରିବା କଷ୍ଟକର |ଏଥିସହ, ପରିପକ୍ୱ ବାୟୋଫିଲ୍ମଗୁଡିକ ପ୍ଲାଙ୍କଟୋନିକ୍ ବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆ କୋଷ ତୁଳନାରେ ଆଣ୍ଟିବାୟୋଟିକ୍ ଚିକିତ୍ସା ପ୍ରତି 1000 ଗୁଣ ଅଧିକ ପ୍ରତିରୋଧକାରୀ ବୋଲି ଜଣାଯାଇଛି, ଯାହା ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଚିକିତ୍ସା ଚ୍ୟାଲେଞ୍ଜ ଭାବରେ ବିବେଚନା କରାଯାଏ |Histor ତିହାସିକ ଭାବରେ, ସାଧାରଣ ଜ organic ବ ଯ ounds ଗିକରୁ ଉତ୍ପନ୍ନ ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଆବରଣ ସାମଗ୍ରୀ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇଛି |ଯଦିଓ ଏହିପରି ସାମଗ୍ରୀରେ ବିଷାକ୍ତ ଉପାଦାନଗୁଡିକ ମାନବ ପାଇଁ କ୍ଷତିକାରକ, 25,26 ଏହା ଜୀବାଣୁ ସଂକ୍ରମଣ ଏବଂ ପଦାର୍ଥର ଅବକ୍ଷୟରୁ ରକ୍ଷା କରିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରିଥାଏ |
ବାୟୋଫିଲ୍ମ ଗଠନ ହେତୁ ଆଣ୍ଟିବାୟୋଟିକ୍ ଚିକିତ୍ସା ପାଇଁ ବ୍ୟାପକ ବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆ ପ୍ରତିରୋଧ ଏକ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ମେମ୍ବ୍ରେନ୍ ଆବୃତ ପୃଷ୍ଠର ବିକାଶର ଆବଶ୍ୟକତା ସୃଷ୍ଟି କରିଛି ଯାହା ନିରାପଦରେ ପ୍ରୟୋଗ ହୋଇପାରିବ |ଏକ ଭ physical ତିକ କିମ୍ବା ରାସାୟନିକ ଆଣ୍ଟି-ଆଡେସିଭ୍ ପୃଷ୍ଠର ବିକାଶ ଯେଉଁଥିରେ ବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆ କୋଷଗୁଡିକ ବାନ୍ଧିବା ସହ ଜ bi ବ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସୃଷ୍ଟି କରିପାରିବ ନାହିଁ ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ପ୍ରଥମ ପଦ୍ଧତି 27 |ଦ୍ୱିତୀୟ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ହେଉଛି ଆବରଣର ବିକାଶ ଯାହାକି ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ରାସାୟନିକ ପଦାର୍ଥକୁ ଆବଶ୍ୟକ ସ୍ଥଳେ ବିତରଣ କରିଥାଏ, ଅତ୍ୟଧିକ ଏକାଗ୍ର ଏବଂ ଅନୁକୂଳ ପରିମାଣରେ |ଅନନ୍ୟ ଆବରଣ ସାମଗ୍ରୀର ବିକାଶ ଦ୍ୱାରା ଏହା ହାସଲ ହୁଏ ଯେପରିକି ଗ୍ରାଫେନ୍ / ଜର୍ମାନିୟମ୍ 28, କଳା ହୀରା 29 ଏବଂ ZnO30- ଡୋପଡ୍ ହୀରା ପରି କାର୍ବନ ଆବରଣ ଯାହା ଜୀବାଣୁ ପ୍ରତିରୋଧ କରେ, ଏକ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଯାହା ବାୟୋଫିଲ୍ମ ସୃଷ୍ଟି ହେତୁ ବିଷାକ୍ତତା ଏବଂ ପ୍ରତିରୋଧର ବିକାଶକୁ ସର୍ବାଧିକ କରିଥାଏ |ଏଥିସହ, ଜୀବାଣୁ ଜନିତ ରାସାୟନିକ ପଦାର୍ଥ ଧାରଣ କରିଥିବା ଆବରଣଗୁଡିକ ବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆ ପ୍ରଦୂଷଣରୁ ଦୀର୍ଘକାଳୀନ ସୁରକ୍ଷା ଯୋଗାଇଥାଏ |ସମସ୍ତ ତିନୋଟି ପ୍ରଣାଳୀ ଆବୃତ ପୃଷ୍ଠରେ ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ କାର୍ଯ୍ୟକଳାପ ପ୍ରୟୋଗ କରିବାରେ ସକ୍ଷମ ହୋଇଥିବାବେଳେ ପ୍ରତ୍ୟେକଙ୍କର ନିଜସ୍ୱ ସୀମା ଅଛି ଯାହା ଏକ ପ୍ରୟୋଗ ରଣନୀତି ପ୍ରସ୍ତୁତ କରିବା ସମୟରେ ବିଚାର କରାଯିବା ଉଚିତ |
ବର୍ତ୍ତମାନ ବଜାରରେ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ ଜ olog ବଗତ ସକ୍ରିୟ ଉପାଦାନଗୁଡିକ ପାଇଁ ପ୍ରତିରକ୍ଷା ଆବରଣକୁ ବିଶ୍ଳେଷଣ ଏବଂ ପରୀକ୍ଷା କରିବାକୁ ସମୟ ଅଭାବରୁ ବାଧା ପ୍ରାପ୍ତ ହୁଏ |କମ୍ପାନୀଗୁଡିକ ଦାବି କରିଛନ୍ତି ଯେ ସେମାନଙ୍କର ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ ଉପଭୋକ୍ତାମାନଙ୍କୁ ଆବଶ୍ୟକୀୟ କାର୍ଯ୍ୟକଳାପ ପ୍ରଦାନ କରିବ, ତଥାପି, ଏହା ବର୍ତ୍ତମାନ ବଜାରରେ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକର ସଫଳତା ପାଇଁ ଏକ ବାଧା ପାଲଟିଛି |ରୂପା ରୁ ମିଳିଥିବା ଯ ounds ଗିକଗୁଡିକ ବର୍ତ୍ତମାନ ଗ୍ରାହକମାନଙ୍କ ପାଇଁ ଉପଲବ୍ଧ ଅଧିକାଂଶ ଆଣ୍ଟିମିକ୍ରୋବିଆଲ୍ ରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |ଏହି ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ ଉପଭୋକ୍ତାମାନଙ୍କୁ ମାଇକ୍ରୋ ଅଣୁଜୀବଗୁଡିକର ସମ୍ଭାବ୍ୟ କ୍ଷତିକାରକ ସଂସ୍ପର୍ଶରୁ ରକ୍ଷା କରିବା ପାଇଁ ଡିଜାଇନ୍ କରାଯାଇଛି |ବିଳମ୍ବିତ ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ପ୍ରଭାବ ଏବଂ ରୂପା ଯ ounds ଗିକର ଜଡିତ ବିଷାକ୍ତତା କମ୍ କ୍ଷତିକାରକ ବିକଳ୍ପ ବିକାଶ ପାଇଁ ଅନୁସନ୍ଧାନକାରୀଙ୍କ ଉପରେ ଚାପ ବ increase ାଇଥାଏ 36,37 |ଏକ ବିଶ୍ global ସ୍ତରୀୟ ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ଆବରଣ ସୃଷ୍ଟି କରିବା ଯାହା ଭିତରେ ଏବଂ ବାହାରେ କାମ କରେ |ଏହା ସମ୍ପୃକ୍ତ ସ୍ୱାସ୍ଥ୍ୟ ଏବଂ ନିରାପତ୍ତା ବିପଦ ସହିତ ଆସିଥାଏ |ଏକ ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ଏଜେଣ୍ଟ ଆବିଷ୍କାର କରିବା ଯାହା ମଣିଷ ପାଇଁ କମ୍ କ୍ଷତିକାରକ ଅଟେ ଏବଂ ଏହାକୁ ଏକ ଦୀର୍ଘ ସେଲଫ୍ ଲାଇଫ୍ ସହିତ ଆବରଣ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ରେ କିପରି ଅନ୍ତର୍ଭୂକ୍ତ କରାଯିବ ତାହା ଜାଣିବା ଲକ୍ଷ୍ୟ 38 |ଅତ୍ୟାଧୁନିକ ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ଏବଂ ଆଣ୍ଟିବାୟୋଫିଲ୍ମ ସାମଗ୍ରୀଗୁଡିକ ସିଧାସଳଖ ଯୋଗାଯୋଗ ଦ୍ୱାରା କିମ୍ବା ସକ୍ରିୟ ଏଜେଣ୍ଟ ମୁକ୍ତ ହେବା ପରେ ଜୀବାଣୁଙ୍କୁ ମାରିବା ପାଇଁ ଡିଜାଇନ୍ କରାଯାଇଛି |ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆ ଆଡେସିନ୍ (ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଏକ ପ୍ରୋଟିନ୍ ସ୍ତର ସୃଷ୍ଟିକୁ ରୋକିବା ସହିତ) କିମ୍ବା କୋଷ କାନ୍ଥରେ ବାଧା ଦେଇ ଜୀବାଣୁ ହତ୍ୟା କରି ସେମାନେ ଏହା କରିପାରିବେ |
ମୂଳତ।, ଭୂପୃଷ୍ଠ ଆବରଣ ହେଉଛି ଏକ ଉପାଦାନର ପୃଷ୍ଠରେ ଅନ୍ୟ ଏକ ସ୍ତର ପ୍ରୟୋଗ କରିବାର ପ୍ରକ୍ରିୟା |ଏକ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଆବରଣର ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ହେଉଛି ଏକ ଉପାଦାନର ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚର ଏବଂ / କିମ୍ବା ରଚନାକୁ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିବା |ସରଫେସ୍ ଆବରଣ ପଦ୍ଧତିକୁ ବିଭିନ୍ନ ପଦ୍ଧତିରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରେ, ଯାହା ଚିତ୍ର 2a ରେ ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ହୋଇଛି |ଆବରଣ ସୃଷ୍ଟି କରିବାରେ ବ୍ୟବହୃତ ପଦ୍ଧତି ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି ଆବରଣକୁ ତାପଜ, ରାସାୟନିକ, ଶାରୀରିକ ଏବଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋକେମିକାଲ୍ ବର୍ଗରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରେ |
(କ) ମୂଖ୍ୟ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଗଠନ କ ques ଶଳଗୁଡିକ ଦେଖାଉଥିବା ଏକ ଇନସେଟ୍, ଏବଂ (ଖ) ଶୀତଳ ସ୍ପ୍ରେ ପଦ୍ଧତିର ମନୋନୀତ ସୁବିଧା ଏବଂ ଅସୁବିଧା |
ପାରମ୍ପାରିକ ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ କ ques ଶଳ ସହିତ କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ଅନେକ ସମାନତା ଅଛି |ତଥାପି, ସେଠାରେ କିଛି ମୁଖ୍ୟ ମ fundamental ଳିକ ଗୁଣ ମଧ୍ୟ ଅଛି ଯାହା ଶୀତଳ ସ୍ପ୍ରେ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଏବଂ କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ସାମଗ୍ରୀକୁ ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର କରିଥାଏ |କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଏପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ବାଲ୍ୟକାଳରେ ଅଛି, କିନ୍ତୁ ଏହାର ବହୁତ ଭଲ ଭବିଷ୍ୟତ ଅଛି |କେତେକ କ୍ଷେତ୍ରରେ, ଶୀତଳ ସ୍ପ୍ରେର ଅନନ୍ୟ ଗୁଣ ପାରମ୍ପାରିକ ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ କ techni ଶଳର ସୀମାକୁ ଅତିକ୍ରମ କରି ବହୁତ ଲାଭ ପ୍ରଦାନ କରେ |ଏହା ପାରମ୍ପାରିକ ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ସୀମାବଦ୍ଧତାକୁ ଅତିକ୍ରମ କରେ, ଯେଉଁଥିରେ ପାଉଡରକୁ ଏକ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟରେ ଜମା କରିବାକୁ ତରଳିବା ଆବଶ୍ୟକ |ଆଜ୍ଞା ହଁ, ଏହି ପାରମ୍ପାରିକ ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅତ୍ୟଧିକ ତାପମାତ୍ରା ସମ୍ବେଦନଶୀଳ ସାମଗ୍ରୀ ଯେପରିକି ନାନୋକ୍ରିଷ୍ଟାଲ୍, ନାନୋ ପାର୍ଟିକଲ୍ସ, ଆମୋରଫସ୍ ଏବଂ ଧାତବ ଚଷମା 40, 41, 42. ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ନୁହେଁ, ଏଥିସହ ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ ଆବରଣ ସାମଗ୍ରୀଗୁଡ଼ିକରେ ସର୍ବଦା ଉଚ୍ଚ ସ୍ତରର ପୋରୋସିଟି ଏବଂ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ଥାଏ |ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଉପରେ କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ଅନେକ ମହତ୍ advant ପୂର୍ଣ ସୁବିଧା ଅଛି, ଯେପରିକି (i) ସବଷ୍ଟ୍ରେଟକୁ ସର୍ବନିମ୍ନ ଉତ୍ତାପ ଇନପୁଟ୍, (ii) ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଆବରଣ ବାଛିବାରେ ନମନୀୟତା, (iii) କ phase ଣସି ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଏବଂ ଶସ୍ୟ ବୃଦ୍ଧି, (iv) ଉଚ୍ଚ ଆଡେସିଭ୍ ଶକ୍ତି 1 .39 (ଚିତ୍ର 2 ବି) |ଏହା ସହିତ, କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ଆବରଣ ସାମଗ୍ରୀଗୁଡ଼ିକରେ ଉଚ୍ଚ କ୍ଷତିକାରକ ପ୍ରତିରୋଧ, ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ଏବଂ କଠିନତା, ଉଚ୍ଚ ବ electrical ଦୁତିକ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଥାଏ |କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ସୁବିଧା ସତ୍ତ୍ Despite େ, ଚିତ୍ର 2b ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ଏହି ପଦ୍ଧତିର କିଛି ଅସୁବିଧା ଅଛି |ଶୁଦ୍ଧ ସିରାମିକ୍ ପାଉଡରଗୁଡିକ ଆବରଣ କରିବାବେଳେ Al2O3, TiO2, ZrO2, WC ଇତ୍ୟାଦି, ଥଣ୍ଡା ସ୍ପ୍ରେ ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ ନାହିଁ |ଅନ୍ୟ ପଟେ, ସିରାମିକ୍ / ଧାତୁ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ପାଉଡରଗୁଡିକ ଆବରଣ ପାଇଁ କଞ୍ଚାମାଲ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ତାପଜ ସ୍ପ୍ରେ ପ୍ରଣାଳୀ ପାଇଁ ମଧ୍ୟ ସମାନ |କଠିନ ପୃଷ୍ଠପଟ ଏବଂ ପାଇପ୍ ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ସ୍ପ୍ରେ କରିବା କଷ୍ଟକର |
ବର୍ତ୍ତମାନର କାର୍ଯ୍ୟକୁ ଧାତବ ଭିଟ୍ରଏସ୍ ପାଉଡରର ଆବରଣ ପାଇଁ ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ସାମଗ୍ରୀ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରିବାକୁ ନିର୍ଦ୍ଦେଶ ଦିଆଯାଇଛି, ଏହା ସ୍ପଷ୍ଟ ଯେ ଏହି ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟରେ ପାରମ୍ପାରିକ ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ ନାହିଁ |ଏହା ହେତୁ ଧାତବ ଭିଟ୍ରଏସ୍ ପାଉଡରଗୁଡିକ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ସ୍ଫଟିକ୍ ହୋଇଯାଏ |
ଡାକ୍ତରୀ ଏବଂ ଖାଦ୍ୟ ଶିଳ୍ପରେ ବ୍ୟବହୃତ ଅଧିକାଂଶ ଯନ୍ତ୍ରଗୁଡ଼ିକ ଅସ୍ତେନିକ୍ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଆଲୋଇସ୍ (SUS316 ଏବଂ SUS304) ରୁ କ୍ରୋମିୟମ୍ ସାମଗ୍ରୀ 12 ରୁ 20 wt।% ସର୍ଜିକାଲ୍ ଯନ୍ତ୍ରର ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ନିର୍ମିତ |ସାଧାରଣତ accepted ଏହା ସ୍ accepted ୀକାର ହୋଇଛି ଯେ ଇସ୍ପାତ ଆଲୋଇରେ କ୍ରୋମିୟମ୍ ଧାତୁର ଏକ ମିଶ୍ରିତ ଉପାଦାନ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର ଷ୍ଟାଣ୍ଡାର୍ଡ ଷ୍ଟିଲ୍ ଆଲୋଇର କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ |ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ଆଲୋଇସ୍, ସେମାନଙ୍କର ଉଚ୍ଚ କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ ସତ୍ତ୍ despite େ, ଆଣ୍ଟିମାଇକ୍ରୋବାୟଲ୍ ଗୁଣଗୁଡିକର ମହତ୍ .ପୂର୍ଣ 38,39 ନାହିଁ |ଏହା ସେମାନଙ୍କର ଉଚ୍ଚ କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ ସହିତ ଭିନ୍ନ ଅଟେ |ଏହା ପରେ, ସଂକ୍ରମଣ ଏବଂ ପ୍ରଦାହର ବିକାଶ ବିଷୟରେ ପୂର୍ବାନୁମାନ କରିବା ସମ୍ଭବ, ଯାହା ମୁଖ୍ୟତ st ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ବାୟୋମେଟେରିଆଲ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆ ଆଡେସିନ୍ ଏବଂ ଉପନିବେଶକରଣ ହେତୁ ହୋଇଥାଏ |ଜୀବାଣୁ ଆଡେସିନ୍ ଏବଂ ବାୟୋଫିଲ୍ମ ଗଠନ ପଥ ସହିତ ଜଡିତ ଗୁରୁତ୍ difficulties ପୂର୍ଣ୍ଣ ଅସୁବିଧା ହେତୁ ଗୁରୁତ୍ difficulties ପୂର୍ଣ୍ଣ ଅସୁବିଧା ଉପୁଜିପାରେ, ଯାହା ସ୍ health ାସ୍ଥ୍ୟର ଖରାପ ହୋଇପାରେ, ଯାହା ଅନେକ ପରିଣାମ ଦେଇପାରେ ଯାହା ପ୍ରତ୍ୟକ୍ଷ କିମ୍ବା ପରୋକ୍ଷ ଭାବରେ ମାନବ ସ୍ୱାସ୍ଥ୍ୟ ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ପକାଇପାରେ |
ଏହି ଅଧ୍ୟୟନ ହେଉଛି କୁଏତ ଫାଉଣ୍ଡେସନ ଫର ଆଡଭାନ୍ସମେଣ୍ଟ ଅଫ୍ ସାଇନ୍ସ (KFAS) ଦ୍ ed ାରା ଆର୍ଥିକ ଅନୁଦାନ ପ୍ରାପ୍ତ ଏକ ପ୍ରକଳ୍ପର ପ୍ରଥମ ପର୍ଯ୍ୟାୟ, ଚୁକ୍ତିନାମା ନଂ।2010-550401, MA ଟେକ୍ନୋଲୋଜି (ଟେବୁଲ୍) ବ୍ୟବହାର କରି ଧାତବ ଗ୍ଲାସୀ Cu-Zr-Ni ଟର୍ନାରୀ ପାଉଡର୍ ଉତ୍ପାଦନ କରିବାର ସମ୍ଭାବ୍ୟତା ଅନୁସନ୍ଧାନ କରିବାକୁ |1) SUS304 ଆଣ୍ଟିବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆଲ୍ ଭୂପୃଷ୍ଠ ସୁରକ୍ଷା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର / ଆବରଣର ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ |ଜାନୁଆରୀ 2023 ରେ ଆରମ୍ଭ ହେବାକୁ ଥିବା ପ୍ରକଳ୍ପର ଦ୍ୱିତୀୟ ପର୍ଯ୍ୟାୟ, ଗାଲଭାନିକ୍ କ୍ଷତିକାରକ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଏବଂ ସିଷ୍ଟମର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ ବିଷୟରେ ବିସ୍ତୃତ ଭାବରେ ଅଧ୍ୟୟନ କରିବ |ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ଜୀବାଣୁ ପାଇଁ ବିସ୍ତୃତ ମାଇକ୍ରୋବାୟୋଲୋଜିକାଲ୍ ପରୀକ୍ଷା କରାଯିବ |
ଏହି ଆର୍ଟିକିଲ୍ morphological ଏବଂ struct ାଞ୍ଚାଗତ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଉପରେ ଆଧାର କରି ଗ୍ଲାସ୍ ଗଠନ କ୍ଷମତା (GFA) ଉପରେ Zr ଆଲୋଇ ବିଷୟବସ୍ତୁର ପ୍ରଭାବ ଉପରେ ଆଲୋଚନା କରିଥାଏ |ଏଥିସହ, ପାଉଡର ଆବୃତ ଧାତୁ ଗ୍ଲାସ / SUS304 କମ୍ପୋଜିଟ୍ ର ଆଣ୍ଟିବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆଲ୍ ଗୁଣ ବିଷୟରେ ମଧ୍ୟ ଆଲୋଚନା କରାଯାଇଥିଲା |ଏଥିସହ, ଧାତବ ଗ୍ଲାସ୍ ପାଉଡରର ସୁପରକୋଲ୍ଡ ତରଳ ଅଞ୍ଚଳରେ ଥଣ୍ଡା ସ୍ପ୍ରେ କରିବା ସମୟରେ ଘଟୁଥିବା ଧାତବ ଗ୍ଲାସ୍ ପାଉଡରର ଗଠନମୂଳକ ପରିବର୍ତ୍ତନ ହେବାର ସମ୍ଭାବନା ଅନୁସନ୍ଧାନ ପାଇଁ ଜାରି କାର୍ଯ୍ୟ ଚାଲିଛି |ଏହି ଅଧ୍ୟୟନରେ Cu50Zr30Ni20 ଏବଂ Cu50Zr20Ni30 ଧାତବ ଗ୍ଲାସ୍ ଆଲୋଇଗୁଡିକ ପ୍ରତିନିଧୀ ଉଦାହରଣ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |
ସ୍ୱଳ୍ପ ଶକ୍ତି ବଲ୍ ମିଲ୍ କରିବା ସମୟରେ ଏହି ବିଭାଗ ମ element ଳିକ Cu, Zr ଏବଂ Ni ର ପାଉଡରରେ morphological ପରିବର୍ତ୍ତନ ଉପସ୍ଥାପନ କରେ |Cu50Zr20Ni30 ଏବଂ Cu50Zr40Ni10 କୁ ନେଇ ଦୁଇଟି ଭିନ୍ନ ସିଷ୍ଟମ୍ ଦୃଷ୍ଟାନ୍ତମୂଳକ ଉଦାହରଣ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହେବ |MA ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ତିନୋଟି ପୃଥକ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରେ, ଯେପରି ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ପ୍ରାପ୍ତ ପାଉଡରର ଧାତବ ଚରିତ୍ରକରଣ ଦ୍ୱାରା ଏହା ପ୍ରମାଣିତ ହୋଇଥାଏ (ଚିତ୍ର 3) |
ବଲ୍ ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂର ବିଭିନ୍ନ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଆଲୋଇସ୍ (MA) ର ପାଉଡରଗୁଡିକର ଧାତବ ଗୁଣ |3, 12 ଏବଂ 50 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ ସ୍ୱଳ୍ପ ଶକ୍ତି ବଲ୍ ମିଲ୍ କରିବା ପରେ ମିଳୁଥିବା MA ଏବଂ Cu50Zr40Ni10 ପାଉଡରର ଫିଲ୍ଡ ନିର୍ଗମନ ସ୍କାନିଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି (FE-SEM) ପ୍ରତିଛବିଗୁଡ଼ିକ Cu50Zr20Ni30 ସିଷ୍ଟମ ପାଇଁ (a), (c) ଏବଂ (e) ରେ ପ୍ରଦର୍ଶିତ ହୋଇଥିବାବେଳେ ସମାନ MA ରେ |ସମୟ ପରେ ନିଆଯାଇଥିବା Cu50Zr40Ni10 ସିଷ୍ଟମର ଅନୁରୂପ ଚିତ୍ରଗୁଡ଼ିକ (b), (d), ଏବଂ (f) ରେ ପ୍ରଦର୍ଶିତ ହୋଇଛି |
ବଲ୍ ମିଲ୍ କରିବା ସମୟରେ, ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଗତିଜ ଶକ୍ତି ଯାହା ଧାତୁ ପାଉଡରକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ ହୋଇପାରେ, ପାରାମିଟରର ମିଶ୍ରଣ ଦ୍ୱାରା ପ୍ରଭାବିତ ହୋଇଥାଏ, ଚିତ୍ର 1a ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି |ଏଥିରେ ବଲ ଏବଂ ପାଉଡର ମଧ୍ୟରେ ଧକ୍କା, ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ମିଡିଆ ମଧ୍ୟରେ କିମ୍ବା ମଧ୍ୟରେ ଅଟକି ରହିଥିବା ପାଉଡରର ଶିଅର ସଙ୍କୋଚନ, ବଲ ମିଲର ଚଳପ୍ରଚଳ ଶରୀର ମଧ୍ୟରେ ପାଉଡର ଡ୍ରାଗ ହେତୁ ଶାର ଏବଂ ପୋଷାକ, ଏବଂ ଭାରପ୍ରାପ୍ତ ସଂସ୍କୃତି ମାଧ୍ୟମରେ ବିସ୍ତାରିତ ବଲ ଦେଇ ଏକ ଶକ୍ ତରଙ୍ଗ (ଚିତ୍ର 1 ଏ) ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ | Элементарные порошки Cu, Zr и Ni былы сильно деформирован из-за холодной сарки на ранней мигдидии МА (3 ч), что привело к крадованию крупных частиц порошка (> 1 мм в диаметре)। ପ୍ରାଥମିକ Cu, Zr, ଏବଂ Ni ପାଉଡରଗୁଡିକ MA (3 h) ର ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ଥଣ୍ଡା ୱେଲଡିଂ ହେତୁ ଗୁରୁତର ଭାବରେ ବିକୃତ ହୋଇଗଲା, ଯାହା ଦ୍ powder ାରା ବଡ଼ ପାଉଡର କଣିକା (> 1 ମିମି ବ୍ୟାସ) ସୃଷ୍ଟି ହେଲା |ଏହି ବୃହତ ଯ os ଗିକ କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ଡିମ୍ବିରିରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ମିଶ୍ରିତ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର (Cu, Zr, Ni) ମୋଟା ସ୍ତର ଗଠନ ଦ୍ୱାରା ବର୍ଣ୍ଣିତ |3a, ଖ।MA ସମୟର ବୃଦ୍ଧି 12 ଘଣ୍ଟା (ମଧ୍ୟବର୍ତ୍ତୀ ପର୍ଯ୍ୟାୟ) ବଲ ମିଲର ଗତିଜ ଶକ୍ତିରେ ବୃଦ୍ଧି ଘଟାଇଲା, ଯାହା ଚିତ୍ର 3c, ସହରରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ଛୋଟ ପାଉଡରରେ (200 μm ରୁ କମ୍) କମ୍ପୋଜିଟ୍ ପାଉଡରକୁ କ୍ଷୟ କରିଦେଲା |ଏହି ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ, ପ୍ରୟୋଗ ହୋଇଥିବା ଶିଅର୍ ଫୋର୍ସ ଚିତ୍ର 3c, d ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ପତଳା Cu, Zr, Ni ସୂଚକ ସ୍ତର ସହିତ ଏକ ନୂତନ ଧାତୁ ପୃଷ୍ଠ ସୃଷ୍ଟି କରିଥାଏ |ଫ୍ଲେକ୍ସର ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ସ୍ତରଗୁଡିକର ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂର ପରିଣାମ ସ୍ୱରୂପ, ନୂତନ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଗଠନ ସହିତ କଠିନ-ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ହୁଏ |
MA ପ୍ରକ୍ରିୟାର କ୍ଲାଇମାକ୍ସରେ (h ୦ ଘଣ୍ଟା ପରେ), ଫ୍ଲେକ୍ ମେଟାଲୋଗ୍ରାଫି ଅତି କମ ଦେଖାଯାଉଥିଲା (ଚିତ୍ର 3e, f), ଏବଂ ପାଉଡରର ପଲିସ୍ ହୋଇଥିବା ପୃଷ୍ଠଭୂମିରେ ଦର୍ପଣ ମେଟାଲୋଗ୍ରାଫି ଦେଖାଗଲା |ଏହାର ଅର୍ଥ ହେଉଛି MA ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମାପ୍ତ ହେଲା ଏବଂ ଗୋଟିଏ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ପର୍ଯ୍ୟାୟ ସୃଷ୍ଟି ହେଲା |ଡିମ୍ବରେ ଦର୍ଶାଯାଇଥିବା ଅଞ୍ଚଳଗୁଡିକର ମ element ଳିକ ରଚନା |3e (I, II, III), f, v, vi) ଶକ୍ତି ବିସର୍ଜନକାରୀ ଏକ୍ସ-ରେ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି (EDS) ର ମିଶ୍ରଣରେ ଫିଲ୍ଡ ନିର୍ଗମନ ସ୍କାନିଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି (FE-SEM) ବ୍ୟବହାର କରି ସ୍ଥିର କରାଯାଇଥିଲା |(IV)
ଟେବୁଲ୍ ରେ |ଡିମ୍ବିରିରେ ମନୋନୀତ ହୋଇଥିବା ପ୍ରତ୍ୟେକ ଅଞ୍ଚଳର ସମୁଦାୟ ଜନସଂଖ୍ୟାର ଶତକଡ଼ା ଭାବରେ ମିଶ୍ରିତ ଉପାଦାନଗୁଡିକର 2 ଟି ମ element ଳିକ ଏକାଗ୍ରତା ଦେଖାଯାଏ |3e, fଟେବୁଲ୍ 1 ରେ ଦିଆଯାଇଥିବା Cu50Zr20Ni30 ଏବଂ Cu50Zr40Ni10 ର ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ନାମକରଣ ରଚନା ସହିତ ଏହି ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ତୁଳନା କରିବା ଦର୍ଶାଏ ଯେ ଏହି ଦୁଇଟି ଅନ୍ତିମ ଦ୍ରବ୍ୟର ରଚନାଗୁଡ଼ିକ ନାମକରଣ ରଚନା ସହିତ ଅତି ନିକଟତର |ଏହା ସହିତ, ଚିତ୍ର 3e ରେ ତାଲିକାଭୁକ୍ତ ଅଞ୍ଚଳଗୁଡିକ ପାଇଁ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ଆପେକ୍ଷିକ ମୂଲ୍ୟ, f ଗୋଟିଏ ଅଞ୍ଚଳରୁ ଅନ୍ୟ ଅଞ୍ଚଳର ପ୍ରତ୍ୟେକ ନମୁନାର ରଚନାରେ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଅବନତି କିମ୍ବା ପରିବର୍ତ୍ତନକୁ ସୂଚିତ କରେ ନାହିଁ |ଗୋଟିଏ ଅଞ୍ଚଳରୁ ଅନ୍ୟ ଅଞ୍ଚଳକୁ ରଚନାରେ କ change ଣସି ପରିବର୍ତ୍ତନ ନହେବା ଦ୍ୱାରା ଏହା ପ୍ରମାଣିତ ହୁଏ |ଏହା ସାରଣୀ 2 ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ୟୁନିଫର୍ମ ଆଲୁଅ ପାଉଡର ଉତ୍ପାଦନକୁ ସୂଚିତ କରେ |
Cu50 (Zr50-xNix) ଅନ୍ତିମ ଉତ୍ପାଦ ପାଉଡରର FE-SEM ମାଇକ୍ରୋଗ୍ରାଫ୍ 50 MA ଥର ପରେ ମିଳିଥିଲା, ଚିତ୍ର 4a-d ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି, ଯେଉଁଠାରେ x ଯଥାକ୍ରମେ 10, 20, 30 ଏବଂ 40% ଅଟେ |ଏହି ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ଷ୍ଟେପ୍ ପରେ, ଭ୍ୟାନ୍ ଡେର୍ ୱାଲ୍ସ ପ୍ରଭାବ ହେତୁ ପାଉଡର ଏଗ୍ରିଗେଟ୍ସ, ଯାହା ଚିତ୍ର 4 ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି 73 ରୁ 126 nm ବ୍ୟାସ ବିଶିଷ୍ଟ ଅଲ୍ଟ୍ରାଫାଇନ୍ କଣିକାକୁ ନେଇ ଗଠିତ ବୃହତ ଏଗ୍ରିଗେଟ୍ ଗଠନ କରିଥାଏ |
50 ଘଣ୍ଟା MA ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ Cu50 (Zr50-xNix) ପାଉଡରର ମର୍ଫୋଲୋଜିକାଲ୍ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟ |Cu50Zr40Ni10, Cu50Zr30Ni20, Cu50Zr20Ni30, Cu50Zr10Ni40 ସିଷ୍ଟମ୍ ପାଇଁ, 50 MA ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ ପାଉଡରର FE-SEM ପ୍ରତିଛବିଗୁଡ଼ିକ ଯଥାକ୍ରମେ (a), (b), (c), ଏବଂ (d) ରେ ପ୍ରଦର୍ଶିତ ହୋଇଛି |
ପାଉଡରକୁ କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ଫିଡରରେ ଲୋଡ୍ କରିବା ପୂର୍ବରୁ, ସେମାନେ ପ୍ରଥମେ ଆନାଲିଟିକାଲ୍ ଗ୍ରେଡ୍ ଇଥାନଲରେ 15 ମିନିଟ୍ ପାଇଁ ସୋନିକେଟ୍ ହୋଇଥିଲେ ଏବଂ ପରେ 150 ° C ରେ 2 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ ଶୁଖାଯାଇଥିଲେ |ଏକୀକରଣକୁ ସଫଳତାର ସହ ମୁକାବିଲା କରିବା ପାଇଁ ଏହି ପଦକ୍ଷେପ ଗ୍ରହଣ କରାଯିବା ଆବଶ୍ୟକ, ଯାହାକି ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଅନେକ ଗମ୍ଭୀର ସମସ୍ୟା ସୃଷ୍ଟି କରିଥାଏ |MA ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମାପ୍ତ ହେବା ପରେ, ମିଶ୍ରିତ ପାଉଡରଗୁଡ଼ିକର ସମାନତା ଅନୁସନ୍ଧାନ ପାଇଁ ପରବର୍ତ୍ତୀ ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିଲା |ଡିମ୍ବିରି ଉପରେ5a - d FE-SEM ମାଇକ୍ରୋଗ୍ରାଫ୍ ଏବଂ Cu, Zr ଏବଂ Ni ର ଆଲୁଅ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର Cu50Zr30Ni20 ମିଶ୍ରଣର ଯଥାକ୍ରମେ 50 ଘଣ୍ଟା M ପରେ ନିଆଯାଇଛି |ଏହା ଧ୍ୟାନ ଦେବା ଉଚିତ୍ ଯେ ଏହି ପଦକ୍ଷେପ ପରେ ମିଳିଥିବା ଆଲୟୋ ପାଉଡରଗୁଡ଼ିକ ଏକମାତ୍ର, କାରଣ ସେମାନେ ଉପ-ନାନୋମିଟର ସ୍ତରଠାରୁ କ composition ଣସି ରଚନା ପରିବର୍ତ୍ତନକୁ ପ୍ରଦର୍ଶିତ କରନ୍ତି ନାହିଁ, ଯେପରି ଚିତ୍ର 5 ରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |
MG Cu50Zr30Ni20 ପାଉଡରରେ ମର୍ଫୋଲୋଜି ଏବଂ ସ୍ଥାନୀୟ ବଣ୍ଟନ FE-SEM / ଶକ୍ତି ବିଛିନ୍ନ ଏକ୍ସ-ରେ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି (EDS) ଦ୍ୱାରା 50 MA ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ |(କ) SEM ଏବଂ ଏକ୍ସ-ରେ EDS ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ (ଖ) Cu-Kα, (c) Zr-Lα, ଏବଂ (d) Ni-Kα |
ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଭାବରେ ମିଶ୍ରିତ Cu50Zr40Ni10, Cu50Zr30Ni20, Cu50Zr20Ni30, ଏବଂ Cu50Zr20Ni30 ପାଉଡରର ଏକ୍ସ-ରେ ବିଚ୍ଛେଦ s ାଞ୍ଚାଗୁଡ଼ିକ ଡିମ୍ବରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |ଯଥାକ୍ରମେ 6a - dଏହି ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପରେ, ବିଭିନ୍ନ Zr ଏକାଗ୍ରତା ସହିତ ସମସ୍ତ ନମୁନାରେ ଚିତ୍ର 6 ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ଚରିତ୍ରିକ ହାଲୋ ବିସ୍ତାର s ାଞ୍ଚା ସହିତ ଆମୋରଫସ୍ ଗଠନ ରହିଥିଲା ​​|
Cu50Zr40Ni10 (a), Cu50Zr30Ni20 (b), Cu50Zr20Ni30 (c), ଏବଂ Cu50Zr20Ni30 (d) ପାଉଡରର ଏକ୍ସ-ରେ ବିଚ୍ଛେଦ s ାଞ୍ଚା 50 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ MA ପରେ |ଏକ ବ୍ୟତିକ୍ରମ ବିନା ସମସ୍ତ ନମୁନାରେ ଏକ ହାଲୋ-ବିସ୍ତାର pattern ାଞ୍ଚା ପରିଲକ୍ଷିତ ହୋଇଥିଲା, ଯାହା ଏକ ଆମୋରଫସ୍ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଗଠନକୁ ସୂଚାଇଥାଏ |
ଉଚ୍ଚ ରେଜୋଲୁସନ ଫିଲ୍ଡ ନିର୍ଗମନ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି (FE-HRTEM) ଗଠନମୂଳକ ପରିବର୍ତ୍ତନକୁ ଦେଖିବା ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ MA ସମୟରେ ବଲ ମିଲିଂ ହେତୁ ପାଉଡରର ସ୍ଥାନୀୟ ଗଠନ ବୁ understand ିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |Cu50Zr30Ni20 ଏବଂ Cu50Zr40Ni10 ପାଉଡର ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂର ପ୍ରାରମ୍ଭ (6 ଘଣ୍ଟା) ଏବଂ ମଧ୍ୟବର୍ତ୍ତୀ (18 ଘଣ୍ଟା) ପରେ FE-HRTEM ପଦ୍ଧତି ଦ୍ୱାରା ପ୍ରାପ୍ତ ପାଉଡରଗୁଡ଼ିକର ଚିତ୍ରଗୁଡ଼ିକ ଡିମ୍ବରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |ଯଥାକ୍ରମେ 7aMA ର 6 ଘଣ୍ଟା ପରେ ମିଳିଥିବା ପାଉଡରର ଉଜ୍ଜ୍ୱଳ କ୍ଷେତ୍ର ପ୍ରତିଛବି (BFI) ଅନୁଯାୟୀ, ପାଉଡରରେ fcc-Cu, hcp-Zr, ଏବଂ fcc-Ni ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ସ୍ପଷ୍ଟ ପରିଭାଷିତ ସୀମା ସହିତ ବଡ଼ ଶସ୍ୟ ରହିଥାଏ, ଏବଂ ଚିତ୍ର 7a ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଗଠନର କ signs ଣସି ଚିହ୍ନ ନାହିଁ |ଏଥିସହ, ମଧ୍ୟମ ଅଞ୍ଚଳରୁ ନିଆଯାଇଥିବା ଏକ ସଂଯୁକ୍ତ ମନୋନୀତ କ୍ଷେତ୍ର ବିଭାଜନ pattern ାଞ୍ଚା (SADP) ଏକ ତୀକ୍ଷ୍ଣ ବିଭାଜନ pattern ାଞ୍ଚା (ଚିତ୍ର 7 ବି) ପ୍ରକାଶ କରିଛି ଯାହା ବୃହତ ସ୍ଫଟିକଗୁଡିକର ଉପସ୍ଥିତି ଏବଂ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ପର୍ଯ୍ୟାୟର ଅନୁପସ୍ଥିତି |
ପ୍ରାରମ୍ଭିକ (6 ଘଣ୍ଟା) ଏବଂ ମଧ୍ୟବର୍ତ୍ତୀ (18 ଘଣ୍ଟା) ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ MA ପାଉଡରର ସ୍ଥାନୀୟ ଗଠନମୂଳକ ଗୁଣ |(କ) ହାଇ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ ଫିଲ୍ଡ ନିର୍ଗମନ ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି (FE-HRTEM) ଏବଂ (ଖ) 6 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ MA ଚିକିତ୍ସା ପରେ Cu50Zr30Ni20 ପାଉଡରର ଅନୁରୂପ ମନୋନୀତ କ୍ଷେତ୍ର ଡିଫ୍ରାକ୍ଟୋଗ୍ରାମ୍ (SADP) |18 ଘଣ୍ଟା MA ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ Cu50Zr40Ni10 ର FE-HRTEM ପ୍ରତିଛବି (c) ରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |
ଡିମ୍ବିରିରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି |7c, MA ର ଅବଧି 18 ଘଣ୍ଟାରେ ବୃଦ୍ଧି ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ବିକୃତି ସହିତ ମିଶି ଗୁରୁତର ଲାଟାଇଟ୍ ତ୍ରୁଟି ଘଟାଇଲା |MA ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଏହି ମଧ୍ୟବର୍ତ୍ତୀ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ, ପାଉଡରରେ ବିଭିନ୍ନ ତ୍ରୁଟି ଦେଖାଯାଏ, ଷ୍ଟାକିଂ ତ୍ରୁଟି, ଲାଟାଇଟ୍ ତ୍ରୁଟି ଏବଂ ପଏଣ୍ଟ ତ୍ରୁଟି (ଚିତ୍ର 7) |ଏହି ତ୍ରୁଟିଗୁଡିକ ଶସ୍ୟ ସୀମା ସହିତ ବୃହତ ଶସ୍ୟଗୁଡିକର ଖଣ୍ଡବିଖଣ୍ଡିତ କରି 20 nm ଆକାରରୁ ଛୋଟ ସବଗ୍ରେନ୍ରେ ପରିଣତ ହୁଏ (ଚିତ୍ର 7c) |
36 h MA ପାଇଁ ମିଲ୍ ହୋଇଥିବା Cu50Z30Ni20 ପାଉଡରର ସ୍ଥାନୀୟ ଗଠନ, ଚିତ୍ର 8a ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ଏକ ଆମୋରଫସ୍ ପତଳା ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସରେ ଆବଦ୍ଧ ଅଲ୍ଟ୍ରାଫାଇନ୍ ନାନୋଗ୍ରାଏନ୍ ଗଠନ ଦ୍ୱାରା ବର୍ଣ୍ଣିତ |EMF ର ଏକ ସ୍ଥାନୀୟ ବିଶ୍ଳେଷଣରୁ ଜଣାପଡିଛି ଯେ ଡିମ୍ବରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ନାନୋକ୍ଲଷ୍ଟରଗୁଡିକ |8a ଚିକିତ୍ସା ହୋଇନଥିବା Cu, Zr ଏବଂ Ni ପାଉଡର ଆଲୋଇ ସହିତ ଜଡିତ |ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସରେ Cu ର ବିଷୟବସ୍ତୁ ~ 32 ରୁ %% (ଗରିବ ଜୋନ୍) ରୁ ~ 74 ରେ।ଏଥିସହ, ଏହି ପଦକ୍ଷେପରେ ମିଲ୍ କରିବା ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ ପାଉଡରଗୁଡିକର ସଂପୃକ୍ତ SADP ଗୁଡିକ ପ୍ରାଥମିକ ଏବଂ ଦ୍ secondary ିତୀୟ ହାଲୋ-ଡିଫ୍ୟୁଜନ୍ ଆମୋରଫସ୍ ଫେଜ୍ ରିଙ୍ଗଗୁଡିକ ଏହି ଚିକିତ୍ସା ହୋଇନଥିବା ମିଶ୍ରିତ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ସହିତ ଜଡିତ ତୀକ୍ଷ୍ଣ ପଏଣ୍ଟ ସହିତ ଓଭରଲିପ୍ ଦେଖାଏ, ଚିତ୍ର 8b ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି |
36 h-Cu50Zr30Ni20 ପାଉଡରର ନାନୋସ୍କାଲ୍ ସ୍ଥାନୀୟ ଗଠନମୂଳକ ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟ |(କ) ଉଜ୍ଜ୍ୱଳ କ୍ଷେତ୍ର ପ୍ରତିଛବି (BFI) ଏବଂ ଅନୁରୂପ (ଖ) Cu50Zr30Ni20 ପାଉଡରର SADP 36 ଘଣ୍ଟା MA ପାଇଁ ମିଲ୍ କରିବା ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ |
MA ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଶେଷ ଆଡକୁ (50 ଘ), Cu50 (Zr50-xNix), X, 10, 20, 30, ଏବଂ 40%।ପ୍ରତ୍ୟେକ ରଚନା ସଂପୃକ୍ତ SADS ରେ ପଏଣ୍ଟ ବିଚ୍ଛେଦ କିମ୍ବା ତୀକ୍ଷ୍ଣ ବାର୍ଷିକ s ାଞ୍ଚା ଚିହ୍ନଟ ହୋଇପାରିବ ନାହିଁ |ଏହା ଚିକିତ୍ସିତ ହୋଇନଥିବା ସ୍ଫଟିକ୍ ଧାତୁର ଅନୁପସ୍ଥିତିକୁ ସୂଚିତ କରେ, ବରଂ ଏକ ଆମୋରଫସ୍ ଆଲୟ ପାଉଡରର ଗଠନକୁ ସୂଚିତ କରେ |ହାଲୋ ଡିଫ୍ୟୁଜନ୍ s ାଞ୍ଚାଗୁଡ଼ିକୁ ଦେଖାଉଥିବା ଏହି ସମ୍ବନ୍ଧୀୟ SADP ଗୁଡିକ ମଧ୍ୟ ଅନ୍ତିମ ଉତ୍ପାଦ ପଦାର୍ଥରେ ଆମୋରଫସ୍ ପର୍ଯ୍ୟାୟର ବିକାଶ ପାଇଁ ପ୍ରମାଣ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |
Cu50 MS ସିଷ୍ଟମର ଅନ୍ତିମ ଉତ୍ପାଦର ସ୍ଥାନୀୟ ଗଠନ (Zr50-xNix) |FE-HRTEM ଏବଂ ସଂଯୁକ୍ତ ନାନୋବିମ୍ ଡିଫ୍ରାକ୍ସନ୍ s ାଞ୍ଚା (NBDP) ର (a) Cu50Zr40Ni10, (b) Cu50Zr30Ni20, (c) Cu50Zr20Ni30, ଏବଂ (d) Cu50Zr10Ni40 MA ର 50 ଘଣ୍ଟା ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ |
Cu50 (Zr50-xNix) ଆମୋରଫସ୍ ସିଷ୍ଟମରେ Ni (x) ର ବିଷୟବସ୍ତୁ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି ଡିଫେରିଏଲ୍ ସ୍କାନିଂ କ୍ୟାଲୋରିମେଟ୍ରି, ଗ୍ଲାସ୍ ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍ ତାପମାତ୍ରା (Tg), ସୁପରକୋଲ୍ଡ ତରଳ ଅଞ୍ଚଳ (ΔTx) ଏବଂ ସ୍ଫଟିକ୍ ତାପମାତ୍ରା (Tx) ର ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିଲା |ହେ ଗ୍ୟାସ୍ ପ୍ରବାହରେ (DSC) ଗୁଣ |Cu50Zr40Ni10, Cu50Zr30Ni20, ଏବଂ Cu50Zr10Ni40 ର ପାଉଡରର DSC ବକ୍ରଗୁଡିକ 50 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ MA ପରେ ମିଳିଥିବା ଆମୋରଫସ୍ ଆଲୋଇସ୍ ଡିମ୍ବିରିରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |ଯଥାକ୍ରମେ 10a, b, e |ଯେତେବେଳେ ଆମୋରଫସ୍ Cu50Zr20Ni30 ର DSC ବକ୍ର ପୃଥକ ଭାବରେ ଚିତ୍ର ଦଶମ ଶତାବ୍ଦୀରେ ପ୍ରଦର୍ଶିତ ହୋଇଛି, ଏହି ସମୟରେ, DSC ରେ ~ 700 ° C ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଉତ୍ତାପିତ Cu50Zr30Ni20 ନମୁନା ଚିତ୍ର 10g ରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |
50 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ MA ପରେ ପ୍ରାପ୍ତ Cu50 (Zr50-xNix) MG ପାଉଡରର ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଗ୍ଲାସ୍ ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍ ତାପମାତ୍ରା (Tg), ସ୍ଫଟିକୀକରଣ ତାପମାତ୍ରା (Tx) ଏବଂ ସୁପରକୋଲ୍ଡ ତରଳ ଅଞ୍ଚଳ (ΔTx) ଦ୍ୱାରା ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରାଯାଏ |Cu50Zr40Ni10 (a), Cu50Zr30Ni20 (b), Cu50Zr20Ni30 (c), ଏବଂ (e) Cu50Zr10Ni40 MG ମିଶ୍ରିତ ପାଉଡରର ଡିଫେରିଏଲ୍ ସ୍କାନିଂ କ୍ୟାଲୋରିମିଟର (DSC) ପାଉଡରର ଥର୍ମୋଗ୍ରାମ୍ |DSC ରେ ~ 700 ° C ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଗରମ ହୋଇଥିବା Cu50Zr30Ni20 ନମୁନାର ଏକ ଏକ୍ସ-ରେ ବିଚ୍ଛେଦ ପ୍ୟାଟର୍ (XRD) ଦର୍ଶାଯାଇଛି |
ଚିତ୍ର 10 ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି, ବିଭିନ୍ନ ନିକେଲ୍ ଏକାଗ୍ରତା (x) ସହିତ ସମସ୍ତ ରଚନା ପାଇଁ DSC ବକ୍ରଗୁଡିକ ଦୁଇଟି ଭିନ୍ନ କେସ୍ ସୂଚାଇଥାଏ, ଗୋଟିଏ ଏଣ୍ଡୋଥର୍ମିକ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟଟି ଏକ୍ସୋଥର୍ମିକ୍ |ପ୍ରଥମ ଏଣ୍ଡୋଥର୍ମିକ୍ ଇଭେଣ୍ଟ Tg ସହିତ ଅନୁରୂପ, ଏବଂ ଦ୍ୱିତୀୟଟି Tx ସହିତ ଜଡିତ |Tg ଏବଂ Tx ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ଭୂସମାନ୍ତର ସ୍ପାନ୍ କ୍ଷେତ୍ରକୁ ସବ୍କୁଲଡ୍ ଲିକ୍ୱିଡ୍ ଏରିଆ (ΔTx = Tx - Tg) କୁହାଯାଏ |ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଦର୍ଶାଏ ଯେ 526 ° C ଏବଂ 612 ° C ରେ ରଖାଯାଇଥିବା Cu50Zr40Ni10 ନମୁନାର Tg ଏବଂ Tx (ଚିତ୍ର 10a) 482 ° C ଏବଂ 563 ° C ର ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରା ଆଡକୁ 20% ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ କରେ |ଚିତ୍ର 10b ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ଯଥାକ୍ରମେ Ni ବିଷୟବସ୍ତୁ (x) ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ° C |ଫଳସ୍ୱରୂପ, CuTZ Cu50Zr40Ni10 Cu50Zr30Ni20 (ଚିତ୍ର 10b) ପାଇଁ 86 ° С (ଚିତ୍ର 10a) ରୁ 81 ° С କୁ କମିଯାଏ |MC Cu50Zr40Ni10 ମିଶ୍ରଣ ପାଇଁ, Tg, Tx, ଏବଂ ΔTx ର ମୂଲ୍ୟ 447 ° С, 526 ° С, ଏବଂ 79 ° С ସ୍ତରରେ ହ୍ରାସ ମଧ୍ୟ ଦେଖାଗଲା (ଚିତ୍ର 10b) |ଏହା ସୂଚାଇଥାଏ ଯେ ନି ବିଷୟବସ୍ତୁର ବୃଦ୍ଧି MS ମିଶ୍ରଣର ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ହ୍ରାସ କରିଥାଏ |ଅପରପକ୍ଷେ, MC Cu50Zr20Ni30 ମିଶ୍ରଣର Tg (507 ° C) ର ମୂଲ୍ୟ MC Cu50Zr40Ni10 ମିଶ୍ରଣ ତୁଳନାରେ କମ୍ ଅଟେ;ତଥାପି, ଏହାର Tx ଏହା ସହିତ ତୁଳନାତ୍ମକ ମୂଲ୍ୟ ଦେଖାଏ (612 ° C) |ତେଣୁ, ଡିମ୍ବିରିରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି ΔTx ର ଅଧିକ ମୂଲ୍ୟ (87 ° C) ଅଛି |ଦଶମ ଶତାବ୍ଦୀ
Cu50 (Zr50-xNix) MC ସିଷ୍ଟମ୍, Cu50Zr20Ni30 MC ମିଶ୍ରଣକୁ ଏକ ଉଦାହରଣ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରି, ଏକ ତୀକ୍ଷ୍ଣ ଏକ୍ସୋଥର୍ମିକ୍ ଶିଖର ମାଧ୍ୟମରେ fcc-ZrCu5, orthorhombic-Zr7Cu10, ଏବଂ orthorhombic-ZrNi ସ୍ଫଟିକ୍ ଚରଣ (ଚିତ୍ର 10c) ରେ ସ୍ଫଟିକ୍ ହୁଏ |ଏମୋରଫସ୍ ଠାରୁ ସ୍ଫଟିକ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଏହି ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପରିବର୍ତ୍ତନ MG ନମୁନାର ଏକ୍ସ-ରେ ବିଚ୍ଛେଦ ବିଶ୍ଳେଷଣ ଦ୍ confirmed ାରା ନିଶ୍ଚିତ କରାଯାଇଥିଲା (ଚିତ୍ର 10d) ଯାହା DSC ରେ 700 ° C କୁ ଉତ୍ତାପ କରାଯାଇଥିଲା |
ଡିମ୍ବିରି ଉପରେସାମ୍ପ୍ରତିକ କାର୍ଯ୍ୟରେ ଚାଲିଥିବା କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ନିଆଯାଇଥିବା ଫଟୋଗୁଡ଼ିକ 11 ଦେଖାଏ |ଏହି ଅଧ୍ୟୟନରେ, 50 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ MA ପରେ ସିନ୍ଥାଇଜ୍ ହୋଇଥିବା ଧାତୁ ଗ୍ଲାସୀ ପାଉଡର କଣିକା (ଏକ ଉଦାହରଣ ଭାବରେ Cu50Zr20Ni30 ବ୍ୟବହାର କରି) ଆଣ୍ଟିବ୍ୟାକ୍ଟେରିଆଲ୍ କଞ୍ଚାମାଲ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା ଏବଂ ଏକ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ପ୍ଲେଟ୍ (SUS304) ଥଣ୍ଡା ସ୍ପ୍ରେ ଆବୃତ ହୋଇଥିଲା |ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି କ୍ରମରେ ଆବରଣ ପାଇଁ କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ପଦ୍ଧତିକୁ ଚୟନ କରାଯାଇଥିଲା କାରଣ ଏହା ଥର୍ମାଲ୍ ସ୍ପ୍ରେ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି କ୍ରମରେ ସବୁଠାରୁ ଦକ୍ଷ ପଦ୍ଧତି ଯେଉଁଠାରେ ଏହାକୁ ଆମୋରଫସ୍ ଏବଂ ନାନୋକ୍ରିଷ୍ଟାଲାଇନ୍ ପାଉଡର୍ ପରି ଧାତବ ମେଟାଷ୍ଟେବଲ୍ ଉତ୍ତାପ ସମ୍ବେଦନଶୀଳ ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଅଧୀନରେ ନୁହେଁ |ସ୍ଥାନାନ୍ତରଣଏହି ପଦ୍ଧତି ବାଛିବାରେ ଏହା ହେଉଛି ମୁଖ୍ୟ କାରଣ |ଶୀତଳ ଜମା ପ୍ରକ୍ରିୟା ଉଚ୍ଚ-ବେଗ କଣିକା ବ୍ୟବହାର କରି କରାଯାଏ ଯାହା ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ କିମ୍ବା ପୂର୍ବରୁ ଜମା ହୋଇଥିବା କଣିକା ସହିତ ପ୍ରଭାବ ଉପରେ କଣିକାର ଗତିଜ ଶକ୍ତିକୁ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ବିକୃତି, ବିକୃତି ଏବଂ ଉତ୍ତାପରେ ପରିଣତ କରେ |
ଫିଲ୍ଡ ଫଟୋଗ୍ରାଫଗୁଡିକ 550 ° C ରେ MG / SUS 304 ର ପାଞ୍ଚଟି କ୍ରମାଗତ ପ୍ରସ୍ତୁତି ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ଶୀତଳ ସ୍ପ୍ରେ ପ୍ରଣାଳୀକୁ ଦର୍ଶାଏ |
କଣିକାର ଗତିଶୀଳତା, ଆବରଣର ଗଠନ ସମୟରେ ପ୍ରତ୍ୟେକ କଣିକାର ମୁହାଣର ଗତି, ଉଦ୍ଭିଦ ଏବଂ ଅଙ୍କିତ ଚଳାଚଳ ଏବଂ ସୀମିତତା, ଯଦି ସମସ୍ତ ଆସୁଥିବା ଗତିଶୀଳ ଶକ୍ତି ରୂପେ ପରିବର୍ତ୍ତନ ହୁଏ | ଥର୍ମାଲ୍ ଶକ୍ତ ଏବଂ ବିକୃତି ଶକ୍ତି, ଫଳାଫଳ ଏକ ଇଲଷ୍ଟିକ୍ ଧକ୍କା ହେବ, ଯାହାର ଅର୍ଥ ହେଉଛି ଆପଣ କ୍ରମାଗତ କ୍ରମରେ ବାଉନ୍ସ କରନ୍ତି |ଏହା ଲକ୍ଷ୍ୟ କରାଯାଇଛି ଯେ କଣିକା / ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପଦାର୍ଥରେ ପ୍ରୟୋଗ ହୋଇଥିବା 90% ପ୍ରଭାବ ଶକ୍ତି ସ୍ଥାନୀୟ ଉତ୍ତାପ 40 ରେ ପରିଣତ ହୁଏ |ଏହା ସହିତ, ଯେତେବେଳେ ପ୍ରଭାବ ଚାପ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଏ, ଖୁବ୍ କମ୍ ସମୟ ମଧ୍ୟରେ କଣିକା / ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଯୋଗାଯୋଗ ଅଞ୍ଚଳରେ ଉଚ୍ଚ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ଷ୍ଟ୍ରେନ୍ ହାର ହାସଲ ହୁଏ 41,42 |
ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ବିକୃତି ସାଧାରଣତ energy ଶକ୍ତି ବିସ୍ତାରର ଏକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଭାବରେ ବିବେଚନା କରାଯାଏ, କିମ୍ବା ଏହା ପରିବର୍ତ୍ତେ, ଇଣ୍ଟରଫେସିଆଲ୍ ଅଞ୍ଚଳରେ ଉତ୍ତାପ ଉତ୍ସ ଭାବରେ |ଅବଶ୍ୟ, ଇଣ୍ଟରଫେସିଆଲ୍ ଅଞ୍ଚଳରେ ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସାଧାରଣତ inter ଇଣ୍ଟରଫେସିଆଲ୍ ତରଳିବା କିମ୍ବା ପରମାଣୁର ପାରସ୍ପରିକ ବିସ୍ତାରର ମହତ୍ stim ପୂର୍ଣ୍ଣ ଉତ୍ସାହ ପାଇଁ ପର୍ଯ୍ୟାପ୍ତ ନୁହେଁ |ଲେଖକମାନଙ୍କୁ ଜଣାଥିବା କ publication ଣସି ପ୍ରକାଶନ ଏହି ଧାତବ ଭିଟ୍ରଏସ୍ ପାଉଡରର ଗୁଣଗୁଡିକର ପାଉଡର ଆଡିଶିନ୍ ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ଏବଂ କୋଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ କ ques ଶଳ ବ୍ୟବହାର କରିବା ସମୟରେ ଘଟୁଥିବା ସମାଧାନ ଉପରେ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରିନାହିଁ |
MG Cu50Zr20Ni30 ମିଶ୍ରିତ ପାଉଡରର BFI ଚିତ୍ର 12a ରେ ଦେଖାଯାଇପାରେ, ଯାହା SUS 304 ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ (ଚିତ୍ର 11, 12b) ରେ ଜମା ହୋଇଥିଲା |ଚିତ୍ରରୁ ଯେପରି ଦେଖାଯାଏ, ଆବୃତ ପାଉଡରଗୁଡିକ ସେମାନଙ୍କର ମୂଳ ଆମୋରଫସ୍ ଗଠନକୁ ବଜାୟ ରଖନ୍ତି କାରଣ ସେମାନଙ୍କର କ a ଣସି ସ୍ଫଟିକ୍ ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟ କିମ୍ବା ଲାଟାଇସ୍ ତ୍ରୁଟି ବିନା ଏକ ସୂକ୍ଷ୍ମ ଲାବରିନ୍ଥ ଗଠନ ଅଛି |ଅନ୍ୟ ପଟେ, ଚିତ୍ରଟି ଏକ ବିଦେଶୀ ପର୍ଯ୍ୟାୟର ଉପସ୍ଥିତି ସୂଚାଇଥାଏ, ଯେପରି MG- ଆବୃତ ପାଉଡର ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସ (ଚିତ୍ର 12a) ରେ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ ନାନୋ ପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଦ୍ୱାରା ଏହା ପ୍ରମାଣିତ |ଚିତ୍ର 12c ଇଣ୍ଡେକ୍ସ ହୋଇଥିବା ନାନୋବିମ୍ ଡିଫ୍ରାକ୍ସନ୍ ପ୍ୟାଟର୍ (NBDP) କୁ ଦର୍ଶାଏ I ଅଞ୍ଚଳ (ଚିତ୍ର 12a) |ଡିମ୍ବିରିରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି |12c, NBDP ଆମୋରଫସ୍ ଗଠନର ଏକ ଦୁର୍ବଳ ହାଲୋ-ବିସ୍ତାର pattern ାଞ୍ଚା ପ୍ରଦର୍ଶନ କରେ ଏବଂ ଏକ ସ୍ଫଟିକ୍ ବୃହତ ଘନ ମେଟାଷ୍ଟେବଲ୍ Zr2Ni ପର୍ଯ୍ୟାୟ ଏବଂ ଏକ ଟେଟ୍ରାଗୋନାଲ CuO ପର୍ଯ୍ୟାୟ ସହିତ ତୀକ୍ଷ୍ଣ ଦାଗ ସହିତ ସହଭାଗୀ ହୁଏ |ଏକ ସୁପରସୋନିକ୍ ପ୍ରବାହରେ ସ୍ପ୍ରେ ବନ୍ଧୁକର ଅଗ୍ରଭାଗରୁ SUS 304 କୁ ଯିବାବେଳେ ପାଉଡରର ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ଦ୍ୱାରା CuO ଗଠନକୁ ବ୍ୟାଖ୍ୟା କରାଯାଇପାରେ |ଅନ୍ୟ ପଟେ, ଧାତୁ ଗ୍ଲାସୀ ପାଉଡରଗୁଡିକର ବିଭାଜନ ହେତୁ 30 ମିନିଟ ପାଇଁ 550 ° C ରେ ଥଣ୍ଡା ସ୍ପ୍ରେ ଚିକିତ୍ସା ପରେ ବଡ଼ ଘନ ଚରଣ ସୃଷ୍ଟି ହେଲା |
(କ) MG ପାଉଡରର FE-HRTEM ପ୍ରତିଛବି (ଖ) SUS 304 ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ (ଚିତ୍ର ଇନସେଟ) ରେ ଜମା ହୋଇଛି |(A) ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ଗୋଲାକାର ସଙ୍କେତର NBDP ସୂଚକାଙ୍କ (c) ରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |
ବୃହତ ଘନ Zr2Ni ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ ଗଠନ ପାଇଁ ଏହି ସମ୍ଭାବ୍ୟ ଯନ୍ତ୍ରକ test ଶଳ ପରୀକ୍ଷା କରିବାକୁ, ଏକ ନିରପେକ୍ଷ ପରୀକ୍ଷଣ କରାଯାଇଥିଲା |ଏହି ପରୀକ୍ଷଣରେ, ପାଉଡରଗୁଡିକ SUS 304 ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଦିଗରେ 550 ° C ରେ ପରମାଣୁରୁ ସ୍ପ୍ରେ କରାଯାଇଥିଲା |ଯଦିଓ, ଆନ୍ନାଲିଙ୍ଗ୍ ପ୍ରଭାବ ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରିବାକୁ, ପାଉଡର୍ ଗୁଡିକ SUS304 ଷ୍ଟ୍ରିପରୁ ଯଥାଶୀଘ୍ର (ପ୍ରାୟ 60 s) ବାହାର କରାଯାଇଥିଲା |)ଅନ୍ୟ ଏକ ସିରିଜ୍ ପରୀକ୍ଷଣ କରାଯାଇଥିଲା ଯେଉଁଥିରେ ପ୍ରୟୋଗ ପରେ ପ୍ରାୟ 180 ସେକେଣ୍ଡ ପରେ ପାଉଡରକୁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟରୁ ବାହାର କରାଯାଇଥିଲା |
ଚିତ୍ର 13a, b ଯଥାକ୍ରମେ 60 s ଏବଂ 180 s ପାଇଁ SUS 304 ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ଜମା ହୋଇଥିବା ଦୁଇଟି ସ୍ପଟର୍ ସାମଗ୍ରୀର ସ୍କାନିଂ ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି (STEM) ଅନ୍ଧାର କ୍ଷେତ୍ର (DFI) ଚିତ୍ର ଦେଖାଏ |60 ସେକେଣ୍ଡ ପାଇଁ ଜମା ହୋଇଥିବା ପାଉଡର ପ୍ରତିଛବିରେ ମର୍ଫୋଲୋଜିକାଲ୍ ସବିଶେଷ ଅଭାବ ରହିଛି, ବ feature ଶିଷ୍ଟ୍ୟହୀନତା (ଚିତ୍ର 13a) |ଏହା XRD ଦ୍ confirmed ାରା ମଧ୍ୟ ନିଶ୍ଚିତ କରାଯାଇଥିଲା, ଯାହା ଦର୍ଶାଇଥିଲା ଯେ ଚିତ୍ର 14a ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ବ୍ୟାପକ ପ୍ରାଥମିକ ଏବଂ ଦ୍ secondary ିତୀୟ ବିଭାଜନ ଶିଖର ଦ୍ୱାରା ସୂଚିତ କରାଯାଇଥିବା ପରି ଏହି ପାଉଡରଗୁଡିକର ସାମଗ୍ରିକ ଗଠନ ଆମୋରଫସ୍ ଅଟେ |ଏହା ମେଟାଷ୍ଟେବଲ୍ / ମେସୋଫେଜ୍ ବୃଷ୍ଟିପାତର ଅନୁପସ୍ଥିତିକୁ ସୂଚିତ କରେ, ଯେଉଁଥିରେ ପାଉଡର ଏହାର ମୂଳ ଆମୋରଫସ୍ ଗଠନକୁ ବଜାୟ ରଖିଥାଏ |ଏହାର ବିପରୀତରେ, ସମାନ ତାପମାତ୍ରାରେ (550 ° C) ଜମା ହୋଇଥିବା ପାଉଡର୍ କିନ୍ତୁ 180 ସେକେଣ୍ଡ ପାଇଁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ଛାଡି ଦିଆଗଲା, ନାନୋସାଇଜଡ୍ ଶସ୍ୟର ଜମା ଦେଖାଗଲା, ଚିତ୍ର 13b ରେ ତୀର ଦ୍ୱାରା ଦେଖାଯାଇଥିଲା |