Asante kwa kutembelea Nature.com.Toleo la kivinjari unachotumia lina uwezo mdogo wa kutumia CSS.Kwa matumizi bora zaidi, tunapendekeza utumie kivinjari kilichosasishwa (au uzime Hali ya Upatanifu katika Internet Explorer).Wakati huo huo, ili kuhakikisha usaidizi unaoendelea, tutatoa tovuti bila mitindo na JavaScript.
Jukwaa linaloonyesha slaidi tatu kwa wakati mmoja.Tumia vitufe vilivyotangulia na Vifuatavyo ili kupitia slaidi tatu kwa wakati mmoja, au tumia vitufe vya kutelezesha vilivyo mwishoni ili kupitia slaidi tatu kwa wakati mmoja.
Gharama ya juu kiasi ya betri zote za vanadium kati yake-kupitia redox (VRFBs) huzuia matumizi yao makubwa.Kuboresha kinetiki za athari za kielektroniki kunahitajika ili kuongeza nguvu maalum na ufanisi wa nishati ya VRFB, na hivyo kupunguza gharama ya kWh ya VRFB.Katika kazi hii, nanoparticles zilizotengenezwa kwa hidrati ya tungsten oksidi (HWO), C76 na C76/HWO, ziliwekwa kwenye elektroni za kitambaa cha kaboni na kujaribiwa kama vichochezi vya kielektroniki kwa majibu ya redoksi ya VO2+/VO2+.Uchanganuzi wa darubini ya elektroni (FESEM), spektari ya X-ray ya kutawanya nishati (EDX), hadubini ya elektroni ya azimio la juu (HR-TEM), mgawanyiko wa X-ray (XRD), kioo cha X-ray photoelectron (XPS), infrared Fourier transform Spectroscopy ( FTIR) na vipimo vya pembe ya mgusano.Imegundulika kuwa kuongezwa kwa C76 fullerenes kwa HWO kunaweza kuboresha kinetiki za elektrodi kwa kuongeza upitishaji umeme na kutoa vikundi vya utendaji vilivyooksidishwa kwenye uso wake, na hivyo kukuza mmenyuko wa redox wa VO2+/VO2+.Mchanganyiko wa HWO/C76 (50 wt% C76) umethibitika kuwa chaguo bora zaidi kwa majibu ya VO2+/VO2+ yenye ΔEp ya 176 mV, huku kitambaa cha kaboni ambacho hakijatibiwa (UCC) kilikuwa 365 mV.Kwa kuongeza, mchanganyiko wa HWO/C76 ulionyesha athari kubwa ya kuzuia juu ya mmenyuko wa mageuzi ya klorini ya vimelea kutokana na kikundi cha kazi cha W-OH.
Shughuli kubwa za kibinadamu na mapinduzi ya haraka ya viwanda yamesababisha mahitaji makubwa ya umeme, ambayo yanaongezeka kwa takriban 3% kwa mwaka1.Kwa miongo kadhaa, kuenea kwa matumizi ya nishati ya kisukuku kama chanzo cha nishati kumesababisha utoaji wa gesi chafuzi zinazochangia ongezeko la joto duniani, uchafuzi wa maji na hewa, na kutishia mifumo yote ya ikolojia.Matokeo yake, kupenya kwa nishati safi na mbadala ya upepo na nishati ya jua inatarajiwa kufikia 75% ya jumla ya umeme ifikapo mwaka 20501. Hata hivyo, wakati sehemu ya umeme kutoka kwa vyanzo mbadala inapozidi 20% ya jumla ya uzalishaji wa umeme, gridi ya taifa inakuwa isiyo imara.
Miongoni mwa mifumo yote ya kuhifadhi nishati kama vile betri ya mseto ya vanadium redox flow battery2, betri ya all-vanadium redox flow (VRFB) imekua kwa kasi zaidi kutokana na faida zake nyingi na inachukuliwa kuwa suluhu bora kwa uhifadhi wa nishati wa muda mrefu (kama miaka 30).) Chaguzi pamoja na nishati mbadala4.Hii ni kutokana na mgawanyiko wa msongamano wa nishati na nishati, majibu ya haraka, maisha marefu ya huduma, na gharama ya chini ya kila mwaka ya $65/kWh ikilinganishwa na $93-140/kWh kwa betri za Li-ion na asidi-asidi na dola za Marekani 279-420 kwa kWh.betri kwa mtiririko huo 4.
Hata hivyo, uuzaji wao wa kiasi kikubwa bado unabanwa na gharama zao za juu za mtaji za mfumo, hasa kutokana na rundo la seli4,5.Kwa hivyo, kuboresha utendakazi wa mrundikano kwa kuongeza kinetiki za athari za nusu-elementi kunaweza kupunguza saizi ya rafu na hivyo kupunguza gharama.Kwa hiyo, uhamisho wa haraka wa elektroni kwenye uso wa electrode ni muhimu, ambayo inategemea muundo, muundo na muundo wa electrode na inahitaji optimization makini6.Licha ya utulivu mzuri wa kemikali na electrochemical na conductivity nzuri ya umeme ya electrodes ya kaboni, kinetics yao isiyotibiwa ni ya uvivu kutokana na kutokuwepo kwa makundi ya kazi ya oksijeni na hidrophilicity7,8.Kwa hiyo, electrocatalysts mbalimbali ni pamoja na electrodes ya kaboni, hasa nanostructures kaboni na oksidi za chuma, ili kuboresha kinetics ya electrodes zote mbili, na hivyo kuongeza kinetics ya electrode ya VRFB.
Kando na kazi yetu ya awali kwenye C76, tuliripoti kwanza shughuli bora ya kielektroniki ya fullerene hii kwa VO2+/VO2+, uhamishaji wa malipo, ikilinganishwa na kitambaa cha kaboni kilichotibiwa na ambacho hakijatibiwa.Upinzani umepunguzwa kwa 99.5% na 97%.Utendaji wa kichocheo wa nyenzo za kaboni kwa mmenyuko wa VO2+/VO2+ ikilinganishwa na C76 unaonyeshwa katika Jedwali S1.Kwa upande mwingine, oksidi nyingi za chuma kama vile CeO225, ZrO226, MoO327, NiO28, SnO229, Cr2O330 na WO331, 32, 33, 34, 35, 36, 37 zimetumika kwa sababu ya kuongezeka kwa unyevu na utendakazi mwingi wa oksijeni., 38. kikundi.Shughuli ya kichocheo ya oksidi hizi za chuma katika mmenyuko wa VO2+/VO2+ imewasilishwa katika Jedwali S2.WO3 imetumika katika idadi kubwa ya kazi kutokana na gharama yake ya chini, utulivu wa juu katika vyombo vya habari vya tindikali, na shughuli za juu za kichocheo31,32,33,34,35,36,37,38.Hata hivyo, uboreshaji wa kinetics ya cathodic kutokana na WO3 sio muhimu.Ili kuboresha conductivity ya WO3, athari za kutumia oksidi ya tungsten iliyopunguzwa (W18O49) kwenye shughuli za cathodic ilijaribiwa38.Oksidi ya tungsten ya hidrojeni (HWO) haijawahi kujaribiwa katika programu za VRFB, ingawa inaonyesha shughuli iliyoongezeka katika utumizi wa supercapacitor kutokana na usambaaji wa kasi wa angani ikilinganishwa na WOx39,40 isiyo na maji.Betri ya mtiririko wa vanadium redox ya kizazi cha tatu hutumia elektroliti ya asidi iliyochanganywa inayojumuisha HCl na H2SO4 kuboresha utendaji wa betri na kuboresha umumunyifu na uthabiti wa ayoni za vanadium kwenye elektroliti.Hata hivyo, mmenyuko wa mabadiliko ya klorini ya vimelea imekuwa mojawapo ya hasara za kizazi cha tatu, hivyo utafutaji wa njia za kuzuia majibu ya tathmini ya klorini imekuwa lengo la vikundi kadhaa vya utafiti.
Hapa, majaribio ya majibu ya VO2+/VO2+ yalifanywa kwenye composites za HWO/C76 zilizowekwa kwenye elektrodi za kitambaa cha kaboni ili kupata uwiano kati ya upitishaji umeme wa viunzi na kinetiki za redoksi za uso wa elektrodi huku zikikandamiza mabadiliko ya vimelea ya klorini.majibu (CER).Nanoparticles ya oksidi ya tungsten ya hidrojeni (HWO) iliunganishwa kwa njia rahisi ya hidrothermal.Majaribio yalifanywa katika elektroliti ya asidi iliyochanganywa (H2SO4/HCl) ili kuiga VRFB ya kizazi cha tatu (G3) kwa vitendo na kuchunguza athari za HWO kwenye mmenyuko wa vimelea wa klorini.
Vanadium(IV) salfati hidrati (VOSO4, 99.9%, Alfa-Aeser), asidi ya sulfuriki (H2SO4), asidi hidrokloriki (HCl), dimethylformamide (DMF, Sigma-Aldrich), polyvinylidene floridi (PVDF, Sigma)-Aldrich), sodiamu Tungstenphilic oxide ya kaboni, 9 oksidi ya hidrojeni na 9WOD; nguo ELAT (Duka la Seli za Mafuta) zilitumika katika utafiti huu.
Oksidi ya tungsten ya hidrojeni (HWO) ilitayarishwa na mmenyuko wa hydrothermal 43 ambapo 2 g ya chumvi ya Na2WO4 iliyeyushwa katika 12 ml ya H2O ili kutoa mmumunyo usio na rangi, kisha 12 ml ya 2 M HCl iliongezwa kwa njia ya kushuka ili kutoa kusimamishwa kwa rangi ya njano.Tope hilo liliwekwa kwenye chombo cha chuma cha pua cha Teflon kilichopakwa na kuwekwa kwenye oveni ifikapo 180° C. kwa saa 3 kwa ajili ya athari ya hidrothermal.Mabaki yalikusanywa kwa kuchujwa, kuosha mara 3 na ethanol na maji, kukaushwa katika tanuri saa 70 ° C kwa ~ masaa 3, na kisha triturated kutoa unga wa bluu-kijivu HWO.
Elektrodi za kitambaa cha kaboni (CCT) zilizopatikana (zisizotibiwa) zilitumiwa kama ilivyo au joto katika tanuru ya bomba saa 450 ° C hewani na kiwango cha joto cha 15 ºC/min kwa saa 10 ili kupata CC zilizotibiwa (TCC).kama ilivyoelezwa katika makala iliyotangulia24.UCC na TCC zilikatwa katika elektrodi takriban 1.5 cm kwa upana na 7 cm kwa urefu.Kusimamishwa kwa C76, HWO, HWO-10% C76, HWO-30% C76 na HWO-50% C76 kulitayarishwa kwa kuongeza 20 mg .% (~2.22 mg) ya PVDF binder hadi ~ 1 ml DMF na sonicated kwa saa 1 ili kuboresha usawa.2 mg ya C76, HWO na HWO-C76 composites zilitumika kwa mtiririko kwa eneo la elektrodi amilifu la UCC la takriban 1.5 cm2.Vichocheo vyote vilipakiwa kwenye elektrodi za UCC na TCC ilitumiwa kwa madhumuni ya kulinganisha pekee, kwani kazi yetu ya awali ilionyesha kuwa matibabu ya joto hayakuhitajika24.Utatuzi wa hisia ulipatikana kwa kupiga mswaki 100 µl ya kusimamishwa (mzigo 2 mg) kwa athari iliyosawazishwa zaidi.Kisha electrodes zote zilikaushwa katika tanuri saa 60 ° C. usiku mmoja.Electrodes hupimwa mbele na nyuma ili kuhakikisha upakiaji sahihi wa hisa.Ili kuwa na eneo fulani la kijiometri (~ 1.5 cm2) na kuzuia kupanda kwa vanadium electrolyte kwa electrode kutokana na athari ya capillary, safu nyembamba ya parafini ilitumiwa juu ya nyenzo za kazi.
Kuchanganua hadubini ya elektroni (FESEM, Zeiss SEM Ultra 60, 5 kV) ilitumika kuchunguza mofolojia ya uso wa HWO.Kipima kipimo cha X-ray cha kutawanya nishati kilicho na Feii8SEM (EDX, Zeiss Inc.) kilitumika kuchora vipengele vya HWO-50%C76 kwenye elektrodi za UCC.Hadubini ya elektroni ya msongo wa juu (HR-TEM, JOEL JEM-2100) inayofanya kazi kwa kasi ya voltage ya kV 200 ilitumiwa kutoa picha ya chembe za HWO za ubora wa juu na pete za diffraction.Programu ya Crystallography Toolbox (CrysTBox) hutumia kitendakazi cha ringGUI kuchanganua muundo wa mtengano wa pete wa HWO na kulinganisha matokeo na muundo wa XRD.Muundo na grafiti ya UCC na TCC ilichambuliwa na diffraction ya X-ray (XRD) kwa kiwango cha skaniko cha 2.4°/min kutoka 5° hadi 70° na Cu Kα (λ = 1.54060 Å) kwa kutumia Panalytical X-ray diffractometer (Model 3600).XRD ilionyesha muundo wa fuwele na awamu ya HWO.Programu ya PANalytical X'Pert HighScore ilitumika kulinganisha kilele cha HWO na ramani za oksidi ya tungsten zinazopatikana kwenye hifadhidata45.Matokeo ya HWO yalilinganishwa na matokeo ya TEM.Muundo wa kemikali na hali ya sampuli za HWO ziliamuliwa na spectroscopy ya X-ray photoelectron (XPS, ESCALAB 250Xi, ThermoScientific).Programu ya CASA-XPS (v 2.3.15) ilitumika kwa kilele cha ubadilishaji na uchanganuzi wa data.Kuamua vikundi vya utendaji vya uso vya HWO na HWO-50% C76, vipimo vilifanywa kwa kutumia skrini ya infrared ya kubadilisha Fourier (FTIR, Perkin Elmer spectrometer, kwa kutumia KBr FTIR).Matokeo yalilinganishwa na matokeo ya XPS.Vipimo vya pembe ya mguso (KRUSS DSA25) pia vilitumiwa kubainisha unyevunyevu wa elektrodi.
Kwa vipimo vyote vya electrochemical, kituo cha kazi cha Biologic SP 300 kilitumiwa.Voltammetry ya baisikeli (CV) na uchunguzi wa kipengee wa kielektroniki (EIS) zilitumika kuchunguza kinetiki za elektrodi za mmenyuko wa redoksi wa VO2+/VO2+ na athari ya uenezaji wa vitendanishi (VOSO4(VO2+)) kwenye kasi ya majibu.Njia zote mbili zilitumia seli ya elektrodi tatu yenye mkusanyiko wa elektroliti wa 0.1 M VOSO4 (V4+) katika 1 M H2SO4 + 1 M HCl (mchanganyiko wa asidi).Data zote za kielektroniki zilizowasilishwa zimesahihishwa.Electrodi iliyojaa ya kalori (SCE) na koili ya platinamu (Pt) zilitumika kama rejeleo na elektrodi ya kaunta, mtawalia.Kwa CV, viwango vya kuchanganua (ν) vya 5, 20, na 50 mV/s vilitumika kwenye dirisha linalowezekana la VO2+/VO2+ la (0–1) V dhidi ya SCE, kisha kurekebishwa ili SHE kupanga (VSCE = 0.242 V dhidi ya HSE) .Ili kusoma uhifadhi wa shughuli za elektroni, CV za mzunguko zilizorudiwa zilifanywa kwa ν 5 mV/s kwa UCC, TCC, UCC-C76, UCC-HWO, na UCC-HWO-50% C76.Kwa vipimo vya EIS, masafa ya masafa ya majibu ya redox ya VO2+/VO2+ yalikuwa 0.01-105 Hz, na mtikisiko wa volteji kwenye voltage ya mzunguko wa wazi (OCV) ulikuwa 10 mV.Kila jaribio lilirudiwa mara 2-3 ili kuhakikisha uthabiti wa matokeo.Viwango vya viwango tofauti (k0) vilipatikana kwa njia ya Nicholson46,47.
Oksidi ya tungsten ya hidrojeni (HVO) imeundwa kwa ufanisi kwa mbinu ya hidrothermal.Picha ya SEM kwenye Mtini.1a inaonyesha kuwa HWO iliyowekwa ina vishada vya nanoparticles zenye ukubwa katika anuwai ya nm 25-50.
Mchoro wa mtengano wa X-ray wa HWO huonyesha kilele (001) na (002) kwa ~23.5° na ~47.5°, mtawalia, ambazo ni sifa ya nonstoichiometric WO2.63 (W32O84) (PDF 077–0810, a = 21.4 Å, Å3 = Å γ = 1, b Å 8 = , b Å 8 = 1 = 1 = 1. 90 °), ambayo inafanana na rangi yao ya bluu ya wazi (Mchoro 1b) 48.49.Vilele vingine vya takriban 20.5 °, 27.1 °, 28.1 °, 30.8 °, 35.7 °, 36.7 ° na 52.7 ° viliwekwa kwa (140), (620), (350), (720), (740), (560 °).) ) na (970) diffraction ndege za orthogonal hadi WO2.63, mtawalia.Njia sawa ya syntetisk ilitumiwa na Songara et al.43 ili kupata bidhaa nyeupe, ambayo ilihusishwa na uwepo wa WO3(H2O)0.333.Hata hivyo, katika kazi hii, kutokana na hali tofauti, bidhaa ya rangi ya bluu-kijivu ilipatikana, ikionyesha kuwa WO3 (H2O) 0.333 (PDF 087-1203, a = 7.3 Å, b = 12.5 Å, c = 7 .7 Å, α = β = γ = 90 ° ya oksidi iliyopunguzwa) na fomu ya oksidi iliyopunguzwa.Uchanganuzi wa nusu kiasi kwa kutumia programu ya X'Pert HighScore ulionyesha 26% WO3(H2O)0.333:74% W32O84.Kwa kuwa W32O84 inajumuisha W6+ na W4+ (1.67:1 W6+:W4+), makadirio ya maudhui ya W6+ na W4+ ni takriban 72% W6+ na 28% W4+, mtawalia.Picha za SEM, mwonekano wa XPS wa sekunde 1 katika kiwango cha kiini, picha za TEM, mwonekano wa FTIR, na mwonekano wa Raman wa chembe za C76 ziliwasilishwa katika makala yetu iliyopita.Kulingana na Kawada et al.,50,51 mgawanyiko wa X-ray wa C76 baada ya kuondolewa kwa toluini ulionyesha muundo wa kliniki moja wa FCC.
Picha za SEM kwenye Mtini.2a na b zinaonyesha kuwa HWO na HWO-50%C76 ziliwekwa kwa ufanisi kwenye na kati ya nyuzi za kaboni za elektrodi ya UCC.Ramani za kipengele cha EDX za tungsten, kaboni, na oksijeni kwenye picha za SEM kwenye tini.2c zinaonyeshwa kwenye mtini.2d-f ikionyesha kuwa tungsteni na kaboni zimechanganyika kwa usawa (inaonyesha mgawanyo sawa) juu ya uso mzima wa elektrodi na kiunzi hakijawekwa kwa usawa kutokana na asili ya mbinu ya uwekaji.
Picha za SEM za chembechembe za HWO (a) na HWO-C76 (b) zilizowekwa (b).Kuchora ramani ya EDX kwenye HWO-C76 iliyopakiwa kwenye UCC kwa kutumia eneo kwenye picha (c) inaonyesha usambazaji wa tungsten (d), kaboni (e), na oksijeni (f) kwenye sampuli.
HR-TEM ilitumika kwa upigaji picha wa ukuzaji wa hali ya juu na maelezo ya fuwele (Mchoro 3).HWO inaonyesha mofolojia ya nanocube kama inavyoonyeshwa kwenye Mchoro 3a na kwa uwazi zaidi katika Mchoro 3b.Kwa kukuza nanocube kwa diffraction ya maeneo yaliyochaguliwa, mtu anaweza kuibua muundo wa grating na ndege diffraction kwamba kukidhi sheria Bragg, kama inavyoonekana katika Mchoro 3c, ambayo inathibitisha fuwele ya nyenzo.Katika kuingizwa kwa Mchoro 3c inaonyesha umbali d 3.3 Å sambamba na (022) na (620) ndege za diffraction zilizopatikana katika awamu ya WO3 (H2O) 0.333 na W32O84, kwa mtiririko huo43,44,49.Hii inaendana na uchanganuzi wa XRD ulioelezewa hapo juu (Mchoro 1b) kwa kuwa umbali wa ndege wa kusaga uliozingatiwa d (Mchoro 3c) unalingana na kilele chenye nguvu zaidi cha XRD katika sampuli ya HWO.Pete za sampuli pia zinaonyeshwa kwenye mtini.3d, ambapo kila pete inalingana na ndege tofauti.Ndege za WO3 (H2O) 0.333 na W32O84 zina rangi nyeupe na bluu, kwa mtiririko huo, na kilele chao cha XRD kinachofanana pia kinaonyeshwa kwenye Mchoro 1b.Pete ya kwanza iliyoonyeshwa kwenye mchoro wa pete inalingana na kilele cha kwanza kilichowekwa alama katika muundo wa x-ray wa ndege ya kutofautisha (022) au (620).Kutoka kwa pete (022) hadi (402), maadili ya d-nafasi ni 3.30, 3.17, 2.38, 1.93, na 1.69 Å, sanjari na maadili ya XRD ya 3.30, 3.17, 2, 45, 1.93.na 1.66 Å, ambayo ni sawa na 44, 45, mtawalia.
(a) Picha ya HR-TEM ya HWO, (b) inaonyesha picha iliyopanuliwa.Picha za ndege za grating zinaonyeshwa katika (c), inset (c) inaonyesha picha iliyopanuliwa ya ndege na lami ya 0.33 nm inayofanana na ndege (002) na (620).(d) Mchoro wa pete wa HWO unaoonyesha ndege zinazohusishwa na WO3(H2O)0.333 (nyeupe) na W32O84 (bluu).
Uchambuzi wa XPS ulifanyika ili kuamua kemia ya uso na hali ya oxidation ya tungsten (Takwimu S1 na 4).Wigo mpana wa utambazaji wa XPS wa HWO iliyosanisishwa umeonyeshwa kwenye Mchoro S1, ikionyesha kuwepo kwa tungsten.Skrini nyembamba ya XPS ya viwango vya msingi vya W 4f na O 1s imeonyeshwa kwenye Mtini.4a na b, mtawalia.Wigo wa W 4f hugawanyika katika sehemu mbili za obiti inayozunguka sambamba na nguvu za kuunganisha za hali ya W oxidation.na W 4f7/2 saa 36.6 na 34.9 eV ni tabia ya hali ya W4+ ya 40, kwa mtiririko huo.0.333.Takwimu zilizowekwa zinaonyesha kuwa asilimia za atomiki za W6+ na W4+ ni 85% na 15%, mtawaliwa, ambazo ziko karibu na maadili yaliyokadiriwa kutoka kwa data ya XRD kwa kuzingatia tofauti kati ya njia hizi mbili.Mbinu zote mbili hutoa maelezo ya kiasi na usahihi wa chini, hasa XRD.Pia, njia hizi mbili huchambua sehemu tofauti za nyenzo kwa sababu XRD ni njia ya wingi wakati XPS ni njia ya uso ambayo inakaribia nanomita chache tu.Wigo wa O 1 umegawanywa katika vilele viwili kwa 533 (22.2%) na 530.4 eV (77.8%).Ya kwanza inalingana na OH, na ya pili kwa vifungo vya oksijeni kwenye kimiani katika WO.Uwepo wa vikundi vya kazi vya OH ni sawa na mali ya uhamishaji wa HWO.
Uchambuzi wa FTIR pia ulifanyika kwenye sampuli hizi mbili ili kuchunguza uwepo wa vikundi vya utendaji na kuratibu molekuli za maji katika muundo wa HWO ulio na hidrati.Matokeo yanaonyesha kuwa sampuli ya HWO-50% C76 na matokeo ya FT-IR HWO yanaonekana sawa kutokana na kuwepo kwa HWO, lakini ukubwa wa kilele hutofautiana kutokana na kiasi tofauti cha sampuli inayotumiwa katika maandalizi ya uchambuzi (Mchoro 5a).) HWO-50% C76 inaonyesha kwamba vilele vyote, isipokuwa kilele cha oksidi ya tungsten, vinahusiana na fullerene 24. Kina katika tini.5a inaonyesha kuwa sampuli zote mbili zinaonyesha mkanda mpana wenye nguvu sana wa ~ 710/cm unaohusishwa na kunyoosha kwa OWO katika muundo wa kimiani wa HWO, na bega kali la ~840/cm linalohusishwa na WO.Kwa mitetemo ya kunyoosha, mkanda mkali wa takriban 1610/cm unahusishwa na mitetemo inayopinda ya OH, huku mkanda mpana wa kunyonya wa takriban 3400/cm unahusishwa na mitetemo ya kunyoosha ya OH katika vikundi vya haidroksili43.Matokeo haya yanawiana na mwonekano wa XPS kwenye Mtini.4b, ambapo vikundi vya utendaji vya WO vinaweza kutoa tovuti amilifu kwa maitikio ya VO2+/VO2+.
Uchambuzi wa FTIR wa HWO na HWO-50% C76 (a), ulionyesha vikundi vya kazi na vipimo vya angle ya mawasiliano (b, c).
Kundi la OH pia linaweza kuchochea mmenyuko wa VO2+/VO2+, huku likiongeza haidrophilicity ya elektrodi, na hivyo kukuza kasi ya usambaaji na uhamisho wa elektroni.Kama inavyoonyeshwa, sampuli ya HWO-50% C76 inaonyesha kilele cha ziada cha C76.Vilele vya ~ 2905, 2375, 1705, 1607, na 1445 cm3 vinaweza kupewa mitetemo ya kunyoosha CH, O=C=O, C=O, C=C, na CO, mtawalia.Inajulikana kuwa vikundi vya utendaji kazi wa oksijeni C=O na CO vinaweza kutumika kama vituo amilifu vya athari za redoksi za vanadium.Ili kupima na kulinganisha unyevu wa electrodes mbili, vipimo vya angle ya kuwasiliana vilichukuliwa kama inavyoonyeshwa kwenye Mchoro 5b, c.Electrode ya HWO ilichukua mara moja matone ya maji, ikionyesha superhydrophilicity kutokana na vikundi vya utendaji vya OH vilivyopatikana.HWO-50% C76 ina haidrofobu zaidi, ikiwa na pembe ya mguso ya takriban 135° baada ya sekunde 10.Hata hivyo, katika vipimo vya electrochemical, electrode ya HWO-50% C76 ikawa mvua kabisa chini ya dakika.Vipimo vya unyevunyevu vinalingana na matokeo ya XPS na FTIR, ikionyesha kuwa vikundi vingi vya OH kwenye uso wa HWO huifanya iwe haidrofili zaidi.
Miitikio ya VO2+/VO2+ ya nanocomposites ya HWO na HWO-C76 ilijaribiwa na ilitarajiwa kwamba HWO ingekandamiza mabadiliko ya klorini katika mmenyuko wa VO2+/VO2+ katika asidi mchanganyiko, na C76 ingechochea zaidi mwitikio unaohitajika wa VO2+/VO2+ redox.%, 30%, na 50% C76 katika kusimamishwa kwa HWO na CCC iliyowekwa kwenye elektrodi zenye jumla ya upakiaji wa takriban 2 mg/cm2.
Kama inavyoonyeshwa kwenye mtini.6, kinetics ya mmenyuko wa VO2 +/VO2+ kwenye uso wa electrode ilichunguzwa na CV katika electrolyte ya asidi iliyochanganywa.Mikondo inaonyeshwa kama I/Ipa kwa ulinganisho rahisi wa ΔEp na Ipa/Ipc kwa vichocheo tofauti moja kwa moja kwenye grafu.Data ya sasa ya kitengo cha eneo imeonyeshwa kwenye Mchoro 2S.Kwenye mtini.Kielelezo 6a kinaonyesha kuwa HWO huongeza kidogo kiwango cha uhamishaji wa elektroni cha mmenyuko wa redoksi wa VO2+/VO2+ kwenye uso wa elektrodi na kukandamiza mmenyuko wa mageuzi ya klorini ya vimelea.Hata hivyo, C76 huongeza kwa kiasi kikubwa kiwango cha uhamisho wa elektroni na kuchochea mmenyuko wa mageuzi ya klorini.Kwa hivyo, mchanganyiko ulioundwa kwa usahihi wa HWO na C76 unatarajiwa kuwa na shughuli bora na uwezo mkubwa zaidi wa kuzuia mmenyuko wa mageuzi ya klorini.Ilibainika kuwa baada ya kuongeza maudhui ya C76, shughuli ya electrochemical ya electrodes iliboresha, kama inavyothibitishwa na kupungua kwa ΔEp na ongezeko la uwiano wa Ipa / Ipc (Jedwali S3).Hii pia ilithibitishwa na maadili ya RCT ​​iliyotolewa kutoka kwa njama ya Nyquist kwenye Mchoro 6d (Jedwali S3), ambayo ilionekana kupungua kwa kuongezeka kwa maudhui ya C76.Matokeo haya pia yanalingana na utafiti wa Li, ambapo nyongeza ya kaboni ya mesoporous kwa mesoporous WO3 ilionyesha kinetiki za uhamishaji chaji zilizoboreshwa kwenye VO2+/VO2+35.Hii inaonyesha kwamba mmenyuko wa moja kwa moja unaweza kutegemea zaidi upitishaji wa electrode (C=C bond) 18, 24, 35, 36, 37. Hii inaweza pia kutokana na mabadiliko katika jiometri ya uratibu kati ya [VO(H2O)5]2+ na [VO2(H2O)4]+, C76 inapunguza overvoltage ya mmenyuko kwa kupunguza overvoltage ya tishu.Walakini, hii inaweza kuwa haiwezekani kwa elektroni za HWO.
(a) Tabia ya mzunguko wa voltammetric (ν = 5 mV/s) ya majibu ya VO2+/VO2+ ya UCC na composites ya HWO-C76 yenye uwiano tofauti wa HWO:C76 katika 0.1 M VOSO4/1 M H2SO4 + 1 M elektroliti HCl.(b) Randles-Sevchik na (c) Nicholson VO2+/VO2+ mbinu ya kutathmini ufanisi wa usambaaji na kupata thamani za k0(d).
HWO-50% C76 haikuonyesha tu karibu shughuli ya kielektroniki sawa na C76 kwa VO2+/VO2+ mmenyuko, lakini, cha kufurahisha zaidi, ilikandamiza mabadiliko ya klorini ikilinganishwa na C76, kama inavyoonyeshwa kwenye Mchoro 6a, na pia inaonyesha Nukta Ndogo katika tini.6d (RCT ya chini).C76 ilionyesha Ipa/Ipc inayoonekana zaidi kuliko HWO-50% C76 (Jedwali S3), si kwa sababu ya urejeshaji wa nyumatiki ulioboreshwa, lakini kwa sababu ya mwingiliano wa kilele wa mmenyuko wa kupunguza klorini na SHE katika 1.2 V. Utendaji bora wa HWO- The 50% C76 inatokana na athari hasi ya WH na utendakazi wa hali ya juu ya WH na athari hasi ya WH ya WH na utendakazi wa WH. kwenye HWO.Utoaji mdogo wa klorini utaboresha ufanisi wa kuchaji wa seli kamili, wakati kinetiki zilizoboreshwa zitaboresha ufanisi wa voltage kamili ya seli.
Kulingana na equation S1, kwa majibu ya quasi-reversible (uhamisho wa polepole wa elektroni) unaodhibitiwa na uenezi, kilele cha sasa (IP) inategemea idadi ya elektroni (n), eneo la elektrodi (A), mgawo wa uenezi (D), idadi ya mgawo wa uhamisho wa elektroni (α) na kasi ya skanning (ν).Ili kujifunza tabia ya kudhibiti uenezi wa vifaa vilivyojaribiwa, uhusiano kati ya IP na ν1/2 ulipangwa na kuwasilishwa kwenye Mchoro 6b.Kwa kuwa nyenzo zote zinaonyesha uhusiano wa mstari, majibu yanadhibitiwa na uenezi.Kwa kuwa mmenyuko wa VO2+/VO2+ unaweza kubadilishwa tena, mteremko wa mstari unategemea mgawo wa usambaaji na thamani ya α (equation S1).Kwa kuwa mgawo wa usambazaji ni wa mara kwa mara (≈ 4 × 10-6 cm2 / s) 52, tofauti katika mteremko wa mstari huonyesha moja kwa moja maadili tofauti ya α, na hivyo kiwango cha uhamisho wa elektroni kwenye uso wa electrode, ambayo inaonyeshwa kwa C76 na HWO -50% C76 mwinuko wa juu zaidi wa uhamisho wa elektroni.
Miteremko ya Warburg (W) inayokokotolewa kwa masafa ya chini yaliyoonyeshwa katika Jedwali S3 (Mchoro 6d) ina thamani karibu na 1 kwa nyenzo zote, inayoonyesha mtawanyiko kamili wa aina za redox na kuthibitisha tabia ya mstari wa IP ikilinganishwa na ν1/ 2. CV inapimwa.Kwa HWO-50% C76, mteremko wa Warburg hupotoka kutoka 1 hadi 1.32, ikionyesha sio tu uenezaji usio na kipimo wa reagent (VO2+), lakini pia mchango unaowezekana wa tabia ya safu-nyembamba kwa tabia ya kuenea kutokana na porosity ya electrode.
Ili kuchanganua zaidi urejeshaji (kiwango cha uhamishaji wa elektroni) wa mmenyuko wa redoksi wa VO2+/VO2+, mbinu ya majibu ya Nicholson quasi-reversible pia ilitumiwa kubainisha kiwango cha kawaida cha k041.42.Hii inafanywa kwa kutumia mlinganyo wa S2 ili kuunda kigezo cha kinetic kisicho na kipimo Ψ, ambacho ni chaguo la kukokotoa la ΔEp, kama chaguo la kukokotoa la ν-1/2.Jedwali S4 linaonyesha maadili ya Ψ yaliyopatikana kwa kila nyenzo ya elektroni.Matokeo (Kielelezo 6c) yalipangwa kupata k0 × 104 cm/s kutoka kwenye mteremko wa kila njama kwa kutumia Equation S3 (iliyoandikwa karibu na kila safu na kuwasilishwa katika Jedwali S4).HWO-50% C76 ilionekana kuwa na mteremko wa juu zaidi (Mchoro 6c), hivyo thamani ya juu ya k0 ni 2.47 × 10-4 cm / s.Hii ina maana kwamba electrode hii inafikia kinetics ya haraka zaidi, ambayo ni sawa na matokeo ya CV na EIS katika Mchoro 6a na d na katika Jedwali S3.Kwa kuongeza, thamani ya k0 pia ilipatikana kutoka kwa njama ya Nyquist (Mchoro 6d) wa Equation S4 kwa kutumia thamani ya RCT (Jedwali S3).Matokeo haya ya k0 kutoka EIS yamefupishwa katika Jedwali S4 na pia yanaonyesha kuwa HWO-50% C76 inaonyesha kiwango cha juu zaidi cha uhamishaji wa elektroni kutokana na athari ya usawazishaji.Ingawa thamani za k0 hutofautiana kutokana na asili tofauti za kila mbinu, bado zinaonyesha mpangilio sawa wa ukubwa na uthabiti.
Ili kuelewa kikamilifu kinetics bora zilizopatikana, ni muhimu kulinganisha vifaa vyema vya electrode na UCC isiyofunikwa na electrodes ya TCC.Kwa mmenyuko wa VO2+/VO2+, HWO-C76 haikuonyesha tu ΔEp ya chini kabisa na urejeshaji bora zaidi, lakini pia ilikandamiza kwa kiasi kikubwa mmenyuko wa mageuzi ya klorini ya vimelea ikilinganishwa na TCC, kama inavyopimwa na mkondo wa 1.45 V ikilinganishwa na SHE (Mchoro 7a).Kwa upande wa uthabiti, tulidhani kwamba HWO-50% C76 ilikuwa imara kimwili kwa sababu kichocheo kilichanganywa na kifunga PVDF na kisha kutumika kwa elektroni za kitambaa cha kaboni.HWO-50% C76 ilionyesha mabadiliko ya kilele cha 44 mV (kiwango cha uharibifu 0.29 mV/mzunguko) baada ya mizunguko 150 ikilinganishwa na 50 mV kwa UCC (Mchoro 7b).Hii inaweza kuwa tofauti kubwa, lakini kinetics ya elektroni za UCC ni polepole sana na huharibika na baiskeli, haswa kwa athari za nyuma.Ingawa urejeshaji wa TCC ni bora zaidi kuliko ule wa UCC, TCC ilionekana kuwa na mabadiliko ya kilele cha 73 mV baada ya mizunguko 150, ambayo inaweza kuwa kutokana na kiasi kikubwa cha klorini kilichoundwa kwenye uso wake.ili kichocheo kishikamane vizuri na uso wa electrode.Kama inavyoweza kuonekana kutoka kwa elektroni zote zilizojaribiwa, hata elektroni zisizo na vichocheo vinavyotumika zilionyesha viwango tofauti vya kutokuwa na utulivu wa baiskeli, na kupendekeza kuwa mabadiliko ya kilele cha utengano wakati wa kuendesha baiskeli ni kwa sababu ya kuzimwa kwa nyenzo zinazosababishwa na mabadiliko ya kemikali badala ya utengano wa kichocheo.Kwa kuongeza, ikiwa kiasi kikubwa cha chembe za kichocheo kingetenganishwa na uso wa electrode, hii ingesababisha ongezeko kubwa la utengano wa kilele (sio tu 44 mV), kwa kuwa substrate (UCC) haifanyi kazi kwa majibu ya redox ya VO2+/VO2+.
Ulinganisho wa CV ya nyenzo bora za electrode ikilinganishwa na UCC (a) na utulivu wa mmenyuko wa redox wa VO2 +/VO2+ (b).ν = 5 mV/s kwa CV zote katika 0.1 M VOSO4/1 M H2SO4 + 1 M elektroliti ya HCl.
Ili kuongeza mvuto wa kiuchumi wa teknolojia ya VRFB, kupanua na kuelewa kinetics ya athari za vanadium redox ni muhimu ili kufikia ufanisi wa juu wa nishati.Mchanganyiko wa HWO-C76 ulitayarishwa na athari yake ya kielektroniki kwenye mmenyuko wa VO2+/VO2+ ilichunguzwa.HWO ilionyesha uboreshaji mdogo wa kinetic katika elektroliti zenye asidi mchanganyiko lakini ilikandamiza kwa kiasi kikubwa mabadiliko ya klorini.Uwiano mbalimbali wa HWO:C76 ulitumiwa kuboresha zaidi kinetiki za elektrodi zenye msingi wa HWO.Kuongeza C76 hadi HWO huboresha kinetiki za kuhamisha elektroni za mmenyuko wa VO2+/VO2+ kwenye elektrodi iliyobadilishwa, ambayo HWO-50% C76 ndiyo nyenzo bora zaidi kwa sababu inapunguza upinzani wa uhamishaji wa malipo na kukandamiza zaidi klorini ikilinganishwa na C76 na amana ya TCC..Hii ni kutokana na athari ya upatanishi kati ya uchanganyaji wa C=C sp2, OH na vikundi vya utendaji vya W-OH.Kiwango cha uharibifu baada ya baiskeli ya mara kwa mara ya HWO-50% C76 ilionekana kuwa 0.29 mV / mzunguko, wakati kiwango cha uharibifu wa UCC na TCC ni 0.33 mV / mzunguko na 0.49 mV / mzunguko, kwa mtiririko huo, na kuifanya kuwa imara sana.katika mchanganyiko wa elektroliti za asidi.Matokeo yaliyowasilishwa yamefaulu kutambua nyenzo za utendaji wa juu wa elektrodi kwa VO2+/VO2+ kwa kutumia kinetiki za haraka na uthabiti wa hali ya juu.Hii itaongeza voltage ya pato, na hivyo kuongeza ufanisi wa nishati ya VRFB, na hivyo kupunguza gharama ya biashara yake ya baadaye.
Seti za data zilizotumika na/au kuchambuliwa katika utafiti wa sasa zinapatikana kutoka kwa waandishi husika kwa ombi linalofaa.
Luderer G. et al.Kukadiria Upepo na Nishati ya Jua katika Matukio ya Nishati ya Kaboni Chini Ulimwenguni: Utangulizi.kuokoa nishati.64, 542–551.https://doi.org/10.1016/j.eneco.2017.03.027 (2017).
Lee, HJ, Park, S. & Kim, H. Uchambuzi wa athari ya mvua ya MnO2 kwenye utendakazi wa betri ya redox ya vanadium/manganese. Lee, HJ, Park, S. & Kim, H. Uchambuzi wa athari ya mvua ya MnO2 kwenye utendakazi wa betri ya redox ya vanadium/manganese.Lee, HJ, Park, S. na Kim, H. Uchambuzi wa athari ya utuaji wa MnO2 kwenye utendakazi wa betri ya vanadium manganese redox. Lee, HJ, Park, S. & Kim, H. MnO2 沉淀对钒/锰氧化还原液流电池性能影响的分析. Lee, HJ, Park, S. & Kim, H. MnO2Lee, HJ, Park, S. na Kim, H. Uchanganuzi wa athari ya uwekaji wa MnO2 kwenye utendakazi wa betri za vanadium manganese redox.J. Electrochemistry.Chama cha Kijamaa.165(5), A952-A956.https://doi.org/10.1149/2.0881805jes (2018).
Shah, AA, Tangirala, R., Singh, R., Wills, RGA & Walsh, FC Kielelezo cha kisanduku chenye nguvu cha betri ya kila aina ya vanadium. Shah, AA, Tangirala, R., Singh, R., Wills, RGA & Walsh, FC Kielelezo cha kisanduku chenye nguvu cha betri ya kila aina ya vanadium.Shah AA, Tangirala R, Singh R, Wills RG.na Walsh FK Muundo unaobadilika wa seli msingi ya betri ya kila aina ya vanadium. Shah, AA, Tangirala, R., Singh, R., Wills, RGA & Walsh, FC 全钒液流电池的动态单元电池模型. Shah, AA, Tangirala, R., Singh, R., Wills, RGA & Walsh, FC.Shah AA, Tangirala R, Singh R, Wills RG.na Seli inayobadilika ya Walsh FK Model ya betri ya kila aina ya vanadium redox.J. Electrochemistry.Chama cha Kijamaa.158(6), A671.https://doi.org/10.1149/1.3561426 (2011).
Gandomi, YA, Aaron, DS, Zawodzinski, TA & Mench, MM In situ kipimo cha usambazaji kinachowezekana na muundo ulioidhinishwa wa betri ya all-vanadium redox. Gandomi, YA, Aaron, DS, Zawodzinski, TA & Mench, MM In situ kipimo cha usambazaji kinachowezekana na muundo ulioidhinishwa wa betri ya all-vanadium redox.Gandomi, Yu.A., Aaron, DS, Zavodzinski, TA na Mench, kipimo cha usambazaji kinachowezekana cha MM In-situ na muundo ulioidhinishwa wa uwezekano wa redox ya betri ya kila-vanadium. Gandomi, YA, Aaron, DS, Zawodzinski, TA & Mench, MM 全钒氧化还原液流电池的原位电位分布测量 na验证模型. Gandomi, YA, Aaron, DS, Zawodzinski, TA & Mench, MM.Kipimo na uthibitishaji wa muundo wa 全vanadium oxidase redox液流液的原位uwezo wa usambazaji.Gandomi, Yu.A., Aaron, DS, Zavodzinski, TA na Mench, kipimo cha Muundo wa MM na uthibitishaji wa uwezekano wa usambazaji wa in-situ kwa betri zote za vanadium flow redox.J. Electrochemistry.Chama cha Kijamaa.163(1), A5188-A5201.https://doi.org/10.1149/2.0211601jes (2016).
Tsushima, S. & Suzuki, T. Kuiga na kuiga betri ya vanadium redox yenye uga wa mtiririko uliounganishwa kwa ajili ya kuboresha usanifu wa elektrodi. Tsushima, S. & Suzuki, T. Kuiga na kuiga betri ya vanadium redox yenye uga wa mtiririko uliounganishwa kwa ajili ya kuboresha usanifu wa elektrodi.Tsushima, S. na Suzuki, T. Uundaji na uigaji wa mtiririko-kupitia vanadium redox betri yenye mtiririko wa kupingana kwa ajili ya uboreshaji wa usanifu wa elektrodi. Tsushima, S. & Suzuki, T. Tsushima, S. & Suzuki, T. 叉指流场的叉指流场的Vanadium Oksidi ya Kupunguza Betri ya Utiririshaji Kioevu, Uundaji na Uigaji kwa ajili ya Kuboresha Muundo wa Kielektroniki.Tsushima, S. na Suzuki, T. Kuiga na kuiga betri za vanadium redox zenye sehemu za mtiririko wa pini kwa ajili ya uboreshaji wa muundo wa elektrodi.J. Electrochemistry.Chama cha Kijamaa.167(2), 020553. https://doi.org/10.1149/1945-7111/ab6dd0 (2020).
Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. Marekebisho ya nyenzo za elektrodi za grafiti kwa utumizi wa betri ya vanadium redox—I. Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. Marekebisho ya nyenzo za elektrodi za grafiti kwa utumizi wa betri ya vanadium redox—I.Sun, B. na Scyllas-Kazakos, M. Marekebisho ya vifaa vya electrode ya grafiti kwa betri za vanadium redox - I. Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. 石墨电极材料在钒氧化还原液流电池应用中的改性——I. Sun, B. & Skyllas-Kazacos, M. Marekebisho ya nyenzo za elektrodi za 石墨 katika utumizi wa betri ya kioevu ya kupunguza oxidation ya vanadium——I.Sun, B. na Scyllas-Kazakos, M. Marekebisho ya vifaa vya electrode ya grafiti kwa matumizi katika betri za vanadium redox - I.matibabu ya joto Electrochem.Acta 37(7), 1253-1260.https://doi.org/10.1016/0013-4686(92)85064-R (1992).
Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. Maendeleo kwenye nyenzo za elektrodi kuelekea betri za vanadium zinazotiririka (VFBs) zenye msongamano wa nishati ulioboreshwa. Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. Maendeleo kwenye nyenzo za elektrodi kuelekea betri za vanadium zinazotiririka (VFBs) zenye msongamano wa nishati ulioboreshwa.Liu, T., Li, X., Zhang, H. na Chen, J. Maendeleo katika nyenzo za elektrodi hadi betri za vanadium (VFB) zenye msongamano wa nishati ulioboreshwa. Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J. 提高功率密度的钒液流电池(VFB) 电极材料的进展. Liu, T., Li, X., Zhang, H. & Chen, J.Liu, T., Li, S., Zhang, H. na Chen, J. Maendeleo katika Nyenzo za Electrode kwa Betri za Vanadium Redox Flow (VFB) Pamoja na Kuongezeka kwa Msongamano wa Nishati.J. Kemia ya Nishati.27(5), 1292-1303.https://doi.org/10.1016/j.jechem.2018.07.003 (2018).
Liu, QH na wengine.Ufanisi wa juu wa seli ya mtiririko wa vanadium redox na usanidi ulioboreshwa wa elektrodi na uteuzi wa utando.J. Electrochemistry.Chama cha Kijamaa.159(8), A1246-A1252.https://doi.org/10.1149/2.051208jes (2012).
Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Carbon ilihisi kuwa inaauni nanotubes za kaboni vichocheo vya elektrodi ya utumizi wa betri ya vanadium redox. Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Carbon ilihisi kuwa inaauni nanotubes za kaboni vichocheo vya elektrodi ya utumizi wa betri ya vanadium redox.Wei, G., Jia, Q., Liu, J. na Yang, K. Vichocheo vya elektrodi Composite kulingana na nanotubes kaboni na substrate kuhisi kaboni kwa ajili ya matumizi katika vanadium redox betri. Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. 用于钒氧化还原液流电池应用的碳毡负载碳纳米管催化剂复。 Wei, G., Jia, C., Liu, J. & Yan, C. Kaboni iliyohisiwa nanotube kichocheo cha elektrodi ya uwekaji wa betri ya kupunguza oksidi ya vanadium.Wei, G., Jia, Q., Liu, J. na Yang, K. elektrodi Mchanganyiko wa kichocheo cha kaboni nanotube chenye substrate inayohisiwa ya kaboni kwa matumizi katika betri za vanadium redoksi.J. Nguvu.220, 185–192.https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2012.07.081 (2012).
Mwezi, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. Athari ya salfa ya bismuth iliyopakwa kwenye CNT iliyotiwa tindikali kwenye utendaji wa betri ya vanadium redox. Mwezi, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. Athari ya salfa ya bismuth iliyopakwa kwenye CNT iliyotiwa tindikali kwenye utendaji wa betri ya vanadium redox.Mwezi, S., Kwon, BW, Chang, Y. na Kwon, Y. Ushawishi wa salfa ya bismuth iliyowekwa kwenye CNT zilizooksidishwa kwenye sifa za mtiririko-kupitia vanadium redox betri. Moon, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. 涂在酸化CNT 上的硫酸铋对钒氧化还原液流电池性能的影响. Mwezi, S., Kwon, BW, Chung, Y. & Kwon, Y. Athari ya salfa ya bismuth kwenye uoksidishaji wa CNT kwenye utendaji wa betri ya kupunguza oxidation ya vanadium.Mwezi, S., Kwon, BW, Chang, Y. na Kwon, Y. Ushawishi wa salfa ya bismuth iliyowekwa kwenye CNT zilizooksidishwa kwenye sifa za mtiririko-kupitia vanadium redox betri.J. Electrochemistry.Chama cha Kijamaa.166(12), A2602.https://doi.org/10.1149/2.1181912jes (2019).
Huang R.-H.Pt/Multilayer Carbon Nanotube Iliyorekebishwa Electrodi Inayotumika kwa Betri za Mtiririko wa Vanadium Redox.J. Electrochemistry.Chama cha Kijamaa.159(10), A1579.https://doi.org/10.1149/2.003210jes (2012).
Kahn, S. et al.Betri za mtiririko wa redox ya Vanadium hutumia vichochezi vya kielektroniki vilivyopambwa na nanotubes za kaboni zilizo na nitrojeni inayotokana na kiunzi cha organometallic.J. Electrochemistry.Chama cha Kijamaa.165(7), A1388.https://doi.org/10.1149/2.0621807jes (2018).
Khan, P. et al.Nanosheets za oksidi ya graphene hutumika kama nyenzo bora zaidi za kielektroniki zinazotumika kwa wanandoa wa VO2+/ na V2+/V3+ redox katika betri za vanadium redox.Kaboni 49(2), 693–700.https://doi.org/10.1016/j.carbon.2010.10.022 (2011).
Gonzalez Z. et al.Utendaji bora wa kielektroniki wa grafiti iliyorekebishwa na graphene inayosikika kwa matumizi ya betri ya vanadium redox.J. Nguvu.338, 155-162.https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2016.10.069 (2017).
González, Z., Vizireanu, S., Dinescu, G., Blanco, C. & Santamaría, R. Carbon nanowalls nyembamba kama nyenzo za kielektroniki za muundo wa nano katika betri za vanadium redox. González, Z., Vizireanu, S., Dinescu, G., Blanco, C. & Santamaría, R. Carbon nanowalls nyembamba kama nyenzo za kielektroniki za muundo wa nano katika betri za vanadium redox.González Z., Vizirianu S., Dinescu G., Blanco C. na Santamaria R. Filamu nyembamba za nanowalls za kaboni kama nyenzo za kielektroniki za muundo wa nano katika betri za vanadium redox.Filamu za González Z., Vizirianu S., Dinescu G., Blanco S. na Santamaria R. Carbon nanowwall kama nyenzo za muundo wa elektrodi katika betri za vanadium redox.Nano Energy 1(6), 833–839.https://doi.org/10.1016/j.nanoen.2012.07.003 (2012).
Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. kaboni iliyobadilishwa ya graphene-iliyorekebishwa ya sura tatu yenye utendakazi wa juu inayosikika kwa vanadium redox. Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. kaboni iliyobadilishwa ya graphene-iliyorekebishwa ya sura tatu yenye utendakazi wa juu inayosikika kwa vanadium redox.Opar DO, Nankya R., Lee J., na Yung H. kaboni ya mesoporous iliyorekebishwa ya graphene yenye sura tatu iliyosikika kwa utendaji wa juu wa betri za vanadium redoksi. Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H. 用于高性能钒氧化还原液流电池的三维介孔石墨烯改性碳毁。 Opar, DO, Nankya, R., Lee, J. & Jung, H.Opar DO, Nankya R., Lee J., na Yung H. kaboni ya mesoporous iliyorekebishwa ya graphene yenye sura tatu iliyosikika kwa utendaji wa juu wa betri za vanadium redoksi.Electrochem.Sheria 330, 135276. https://doi.org/10.1016/j.electacta.2019.135276 (2020).